一種摩擦設(shè)備及其進(jìn)行摩擦取向的方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種摩擦設(shè)備，包括：基板承載裝置，包括相對(duì)設(shè)置的用于固定基板的第一基臺(tái)和第二基臺(tái)；設(shè)置于第一基臺(tái)和第二基臺(tái)之間的摩擦輥輪；第一控制裝置，用于執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下和所述基板承載裝置之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。本發(fā)明還涉及一種使用所述摩擦設(shè)備進(jìn)行摩擦取向的方法本發(fā)明的有益效果是：同時(shí)對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行摩擦取向操作，提高工作效率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種摩擦設(shè)備及其進(jìn)行摩擦取向的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示制作【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種摩擦設(shè)備及其進(jìn)行摩擦取向的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在顯示行業(yè)面板生產(chǎn)摩擦工藝過(guò)程中，目前主流的摩擦設(shè)備，采用單機(jī)臺(tái)水平運(yùn)動(dòng)，摩擦輥輪下壓進(jìn)行對(duì)玻璃基板的摩擦，達(dá)到對(duì)取向膜配向的效果。
[0003]由于摩擦輥輪的轉(zhuǎn)速，基板的運(yùn)動(dòng)速度，摩擦布的各個(gè)參數(shù)等一系列因素的互相作用，摩擦取向操作會(huì)出現(xiàn)不均勻，這種不均勻會(huì)造成基板加電壓后的整體亮度出現(xiàn)不均勻，由于這種亮度不均勻是由Rubbing工藝造成的,稱(chēng)之為摩擦缺陷(Rubbing Mura)。伴隨傳統(tǒng)摩擦工藝來(lái)說(shuō)，Rubbing mura的持續(xù)發(fā)生，也是摩擦工藝的一道枷鎖，目前，通過(guò)對(duì)工藝參數(shù)的優(yōu)化，最直接降低Rubbing mura發(fā)生的方法只有通過(guò)不斷的降低機(jī)臺(tái)的水平方向運(yùn)動(dòng)速度，這其中，大大降低了該工藝的生產(chǎn)效率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種摩擦設(shè)備及其進(jìn)行摩擦取向的方法，提高生產(chǎn)效率。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種摩擦設(shè)備，包括:
[0006]基板承載裝置，包括相對(duì)設(shè)置的用于固定基板的第一基臺(tái)和第二基臺(tái)；
[0007]設(shè)置于第一基臺(tái)和第二基臺(tái)之間的摩擦輥輪；
[0008]第一控制裝置，用于執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下和所述基板承載裝置之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。
[0009]進(jìn)一步的，所述第一控制裝置包括:
[0010]第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置；
[0011]第一控制模塊，用于控制所述第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產(chǎn)生相對(duì)平移運(yùn)動(dòng)。
[0012]進(jìn)一步的，還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據(jù)預(yù)設(shè)壓入量控制所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)中的一個(gè)向所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)中的另一個(gè)移動(dòng)調(diào)整所述第一基臺(tái)與所述第二基臺(tái)之間的距離。
[0013]進(jìn)一步的，所述第二控制裝置包括:
[0014]第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于基板承載裝置；
[0015]第二控制模塊，用于控制所述第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以調(diào)整所述第一基臺(tái)與所述第二基臺(tái)之間的距離。
[0016]進(jìn)一步的，還包括用于支撐所述摩擦輥輪的支撐架。
[0017]進(jìn)一步的，所述摩擦輥輪的外表面套設(shè)有摩擦布。
[0018]進(jìn)一步的，所述第一基臺(tái)和所述第二基臺(tái)均通過(guò)真空吸附方式固定基板。
[0019]本發(fā)明還提供一種采用上述摩擦設(shè)備進(jìn)行摩擦取向的方法，包括以下步驟:
[0020]在基板承載裝置的第一基臺(tái)和第二基臺(tái)上分別固定基板；
[0021]執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下同時(shí)與所述第一基臺(tái)和所述第二基臺(tái)之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。
[0022]本發(fā)明的有益效果是:同時(shí)對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行摩擦取向操作，提高工作效率。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0023]圖1表示本發(fā)明實(shí)施例摩擦設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2表示本發(fā)明實(shí)施例摩擦設(shè)備側(cè)視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0025]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的特征和原理進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，所舉實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并非以此限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0026]如圖1和圖2所示，本實(shí)施例提供一種摩擦設(shè)備，包括:
[0027]基板承載裝置，包括相對(duì)設(shè)置的用于固定基板4的第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2 ；
[0028]設(shè)置于第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2之間的摩擦輥輪3 ；
[0029]第一控制裝置，用于執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪3在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下和所述基板承載裝置之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2的基板4進(jìn)行摩擦取向操作。
[0030]摩擦輥輪3設(shè)置于第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2之間，實(shí)現(xiàn)同時(shí)對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行摩擦取向操作，提高工作效率。
[0031]第一控制裝置的結(jié)構(gòu)形式可以有多種，可選的，所述第一控制裝置包括:
[0032]第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置；
[0033]第一控制模塊，用于控制所述第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產(chǎn)生相對(duì)平移運(yùn)動(dòng)。
[0034]第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述摩擦輥輪上，在第一控制模塊的控制下、驅(qū)動(dòng)摩擦輥輪移動(dòng)，使得摩擦輥輪和基板承載裝置之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，具體的是，摩擦輥輪3與第一基臺(tái)I之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，同時(shí)摩擦輥輪3與第二基臺(tái)2之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，實(shí)現(xiàn)摩擦輥輪3對(duì)第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上的基板4同時(shí)進(jìn)行摩擦取向操作的目的。
[0035]第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)也可以設(shè)置在所述基板承載裝置上，具體的設(shè)置于所述第一基臺(tái)I和所述第二基臺(tái)2上，在第一控制模塊的控制下、第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)第一基臺(tái)移動(dòng)，使得第一基臺(tái)I與所述摩擦輥輪3之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，同時(shí)在第一控制模塊的控制下、第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)第二基臺(tái)2移動(dòng)，使得第二基臺(tái)2與摩擦輥輪3之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，實(shí)現(xiàn)摩擦輥輪3對(duì)第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上的基板4同時(shí)進(jìn)行摩擦取向操作的目的。
[0036]可選的，摩擦設(shè)備還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據(jù)預(yù)設(shè)壓入量控制所述第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2中的一個(gè)向所述第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2中的另一個(gè)移動(dòng)調(diào)整所述第一基臺(tái)I與所述第二基臺(tái)2之間的距離。
[0037]通過(guò)控制第一基臺(tái)和或第二基臺(tái)的移動(dòng)，以調(diào)整摩擦輥輪壓入量，可以對(duì)不同壓入量需求到的基板同時(shí)進(jìn)行摩擦取向操作，提高生產(chǎn)效率。
[0038]進(jìn)一步的，所述第二控制裝置包括:
[0039]第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于基板承載裝置；
[0040]第二控制模塊，用于控制所述第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以調(diào)整所述第一基臺(tái)I與所述第二基臺(tái)2之間的距離。
[0041]摩擦輥輪3位于第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2之間，調(diào)整所述第一基臺(tái)I和所述第二基臺(tái)2之間的距離，即可實(shí)現(xiàn)調(diào)整摩擦輥輪3對(duì)基板4的壓入量，所述第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于基板承載裝置，具體的，第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)可以同時(shí)設(shè)置于第一基臺(tái)和第二基臺(tái)，在第二控制模塊的控制下，第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)第一基臺(tái)I向靠近第二基臺(tái)2的方向移動(dòng)，以調(diào)整所述第一基臺(tái)I和所述第二基臺(tái)2之間的距離；在第二控制模塊的控制下，第二驅(qū)動(dòng)模塊驅(qū)動(dòng)第二基臺(tái)2向靠近第一基臺(tái)I的方向移動(dòng)，以調(diào)整所述第二基臺(tái)2和所述第一基臺(tái)I之間的距離，分別控制第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2的移動(dòng)量，即使第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上基板4具有不同的壓入量，也可以同時(shí)對(duì)第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上的基板4進(jìn)行摩擦取向操作。
[0042]第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)為升降氣缸5，第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上分別設(shè)有升降氣缸5
[0043]在另一實(shí)施例中，第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2中的一個(gè)、以及摩擦輥輪3上，例如第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于第一基臺(tái)I以及摩擦輥輪3上，在進(jìn)行第一基臺(tái)與第二基臺(tái)之間的距離調(diào)整時(shí)，首先，在第二控制模塊的控制下，第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)控制摩擦輥輪向靠近第二基臺(tái)的方向移動(dòng)，直到滿(mǎn)足第二基臺(tái)上的基板的壓入量為止，然后在第二控制模塊的控制下，第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)控制第一基臺(tái)向靠近所述第二基臺(tái)的方向移動(dòng)，直到滿(mǎn)足第一基臺(tái)上的基板的壓入量為止。
[0044]可選的，摩擦設(shè)備還包括用于支撐所述摩擦輥輪3的支撐架。
[0045]可選的，所述摩擦輥輪3的外表面套設(shè)有摩擦布。
[0046]可選的，所述第一基臺(tái)I和所述第二基臺(tái)2均通過(guò)真空吸附方式固定基板，基板固定于第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)2上的方式并不限于真空吸附的方式。
[0047]本發(fā)明還提供一種采用上述摩擦設(shè)備進(jìn)行摩擦取向的方法，包括以下步驟:
[0048]在基板承載裝置的第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)上分別固定基板；
[0049]執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪3在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下同時(shí)與所述第一基臺(tái)I和所述第二基臺(tái)之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)I和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。
[0050]以下具體介紹本實(shí)施例中，摩擦設(shè)備的工作流程；
[0051]在第一基臺(tái)I相對(duì)于第二基臺(tái)的一面固定基板，并在第二基臺(tái)相對(duì)于第一基臺(tái)I的一面上固定基板；
[0052]將摩擦輥輪3的位置移動(dòng)到摩擦取向操作的起始位置；
[0053]根據(jù)第一基臺(tái)I上的基板的壓入量控制第一基臺(tái)I向第二基臺(tái)的方向移動(dòng)；
[0054]根據(jù)第二基臺(tái)上的基板的壓入量控制第二基臺(tái)向第一基臺(tái)I的方向移動(dòng)；
[0055]摩擦輥輪3旋轉(zhuǎn)，且第一基臺(tái)I相對(duì)于摩擦輥輪3平移，同時(shí)第二基臺(tái)相對(duì)于摩擦輥輪3平移，直至摩擦取向的操作結(jié)束。
[0056]以上為本發(fā)明較佳實(shí)施例，需要指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種摩擦設(shè)備，其特征在于，包括: 基板承載裝置，包括相對(duì)設(shè)置的用于固定基板的第一基臺(tái)和第二基臺(tái)； 設(shè)置于第一基臺(tái)和第二基臺(tái)之間的摩擦輥輪； 第一控制裝置，用于執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下和所述基板承載裝置之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述第一控制裝置包括: 第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置； 第一控制模塊，用于控制所述第一驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產(chǎn)生相對(duì)平移運(yùn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據(jù)預(yù)設(shè)壓入量控制所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)中的一個(gè)向所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)中的另一個(gè)移動(dòng)調(diào)整所述第一基臺(tái)與所述第二基臺(tái)之間的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述第二控制裝置包括: 第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置于基板承載裝置； 第二控制模塊，用于控制所述第二驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，以調(diào)整所述第一基臺(tái)與所述第二基臺(tái)之間的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，還包括用于支撐所述摩擦輥輪的支撐架。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦輥輪的外表面套設(shè)有摩擦布。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述第一基臺(tái)和所述第二基臺(tái)均通過(guò)真空吸附方式固定基板。
8.一種采用權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的摩擦設(shè)備進(jìn)行摩擦取向的方法，其特征在于，包括以下步驟: 在基板承載裝置的第一基臺(tái)和第二基臺(tái)上分別固定基板； 執(zhí)行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下同時(shí)與所述第一基臺(tái)和所述第二基臺(tái)之間產(chǎn)生一相對(duì)平移，以對(duì)承載于所述第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦取向操作。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK104460117SQ201410820096
【公開(kāi)日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2014年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月24日
【發(fā)明者】王曉峰, 敬輝, 黃助兵 申請(qǐng)人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司