通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的一種峰值透過率高，能極大的提高信噪比的通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，該通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，其Ge材質(zhì)的基板配合表面ZnS、Ge材質(zhì)的鍍膜層，大大提高了信噪比，配合紅外熱成像儀使用，提升紅外熱成像儀的成像結(jié)果。該濾光片7000～11200nm、T≤1.0%；11500～12500nm、Tavg≥85%；波紋深度≤10%Tp。
【專利說明】 通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光
片
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紅外濾光片領(lǐng)域，尤其是一種通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片。
【背景技術(shù)】
[0002]紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)是通過非接觸探測紅外能量(熱量)，并將其轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，進(jìn)而在顯示器上生成熱圖像和溫度值，并可以對(duì)溫度值進(jìn)行計(jì)算的一種檢測設(shè)備。紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)能夠?qū)⑻綔y到的熱量精確量化，或測量，使您不僅能夠觀察熱圖像，還能夠?qū)Πl(fā)熱的故障區(qū)域進(jìn)行準(zhǔn)確識(shí)別和嚴(yán)格分析。
[0003]紅外熱成像儀的探測器是實(shí)現(xiàn)紅外能量(熱能)轉(zhuǎn)換電信號(hào)的關(guān)鍵，由于各種生物所發(fā)出來的紅外能量(熱量)是不同的，所以在日常使用中為了觀察某種特定生物的熱圖像，人們往往會(huì)在探測器中添加紅外濾光片，通過紅外濾光片可以使探測器只接受特定波段的紅外能量(熱能)，保證紅外熱成像儀的成像結(jié)果。
[0004]但是，目前用于紅外熱成像的11500到12500納米帶通紅外濾光片，其信噪比低，精度差，不能滿足市場發(fā)展的需要。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)的不足而提供一種峰值透過率高，能極大的提高信噪比的通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片。
[0006]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的通過帶為11500_12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge層、1326nm厚度的ZnS層、449nm厚度的Ge層、694nm厚度的ZnS層、482nm厚度的Ge層、1152nm厚度的ZnS層、570nm厚度的Ge層、1072nm厚度的ZnS層、52 Inm厚度的Ge層、1270nm厚度的ZnS層、494nm厚度的Ge層、834nm厚度的ZnS層、426nm厚度的Ge層、1113nm厚度的ZnS層、716nm厚度的Ge層、1205nm厚度的ZnS層、527nm厚度的Ge層、1095nm厚度的ZnS層、443nm厚度的Ge層、925nm厚度的ZnS層、450nm厚度的Ge層、1382nm厚度的ZnS層、498nm厚度的Ge層、IOOOnm厚度的ZnS層、662nm厚度的Ge層、967nm厚度的ZnS層、530nm厚度的Ge層、710nm厚度的ZnS層、325nm厚度的Ge層和400nm厚度的ZnS層；所述第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge層、484nm厚度的ZnS層、389nm厚度的Ge層、872nm厚度的ZnS層、476nm厚度的Ge層、884nm厚度的ZnS層、436nm厚度的Ge層、84Inm厚度的ZnS層、466nm厚度的Ge層、998nm厚度的ZnS層、459nm厚度的Ge層、866nm厚度的ZnS層、388nm厚度的Ge層、814nm厚度的ZnS層、630nm厚度的Ge層和1486nm厚度的ZnS層。
[0007]上述各材料對(duì)應(yīng)的厚度，其允許在公差范圍內(nèi)變化，其變化的范圍屬于本專利保護(hù)的范圍，為等同關(guān)系。通常厚度的公差在IOnm左右。
[0008]本實(shí)用新型所得到的通過帶為11500_12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，其Ge材質(zhì)的基板配合表面ZnS、Ge材質(zhì)的鍍膜層，大大提高了信噪比，配合紅外熱成像儀使用，提升紅外熱成像儀的成像結(jié)果。該濾光片7000~11200nm、T≤1.0%；11500~12500nm、Tavg ≥ 85% ;波紋深度≤ 10%Tp。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2是實(shí)施例提供的紅外光譜透過率實(shí)測曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面通過實(shí)施例結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。
[0012]實(shí)施例1:
[0013]如圖1、圖2所示，本實(shí)施例描述的通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，包括以Ge為原材料的基板2，以Ge、ZnS為第一鍍膜層I和以Ge、ZnS為第二鍍膜層3，且所述基板2位于第一鍍膜層I和第二鍍膜層3之間，所述第一鍍膜層I由內(nèi)向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge層、1326nm厚度的ZnS層、449nm厚度的Ge層、694nm厚度的ZnS層、482nm厚度的Ge層、1152nm厚度的ZnS層、570nm厚度的Ge層、1072nm厚度的ZnS層、52 Inm厚度的Ge層、1270nm厚度的ZnS層、494nm厚度的Ge層、834nm厚度的ZnS層、426nm厚度的Ge層、 1113nm厚度的ZnS層、716nm厚度的Ge層、1205nm厚度的ZnS層、527nm厚度的Ge層、1095nm厚度的ZnS層、443nm厚度的Ge層、925nm厚度的ZnS層、450nm厚度的Ge層、1382nm厚度的ZnS層、498nm厚度的Ge層、1000nm厚度的ZnS層、662nm厚度的Ge層、967nm厚度的ZnS層、530nm厚度的Ge層、71Onm厚度的ZnS層、325nm厚度的Ge層和400nm厚度的ZnS層；所述第二鍍膜層3由內(nèi)向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge層、484nm厚度的ZnS層、389nm厚度的Ge層、872nm厚度的ZnS層、476nm厚度的Ge層、884nm厚度的ZnS層、436nm厚度的Ge層、84Inm厚度的ZnS層、466nm厚度的Ge層、998nm厚度的ZnS層、459nm厚度的Ge層、866nm厚度的ZnS層、388nm厚度的Ge層、814nm厚度的ZnS層、63Onm厚度的Ge層和1486nm厚度的ZnS層。
【權(quán)利要求】
1.一種通過帶為11500-12500nm的自然環(huán)境普查的紅外成像濾光片，包括以Ge為原材料的基板，以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層,且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，其特征是:所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge層、1326nm厚度的ZnS層、449nm厚度的Ge層、694nm厚度的ZnS層、482nm厚度的Ge層、1152nm厚度的ZnS層、570nm厚度的Ge層、1072nm厚度的ZnS層、52Inm厚度的Ge層、1270nm厚度的ZnS層、494nm厚度的Ge層、834nm厚度的ZnS層、426nm厚度的Ge層、1113nm厚度的ZnS層、716nm厚度的Ge層、1205nm厚度的ZnS層、527nm厚度的Ge層、1095nm厚度的ZnS層、443nm厚度的Ge層、925nm厚度的ZnS層、450nm厚度的Ge層、1382nm厚度的ZnS層、498nm厚度的Ge層、IOOOnm厚度的ZnS層、662nm厚度的Ge層、967nm厚度的ZnS層、530nm厚度的Ge層、710nm厚度的ZnS層、325nm厚度的Ge層和400nm厚度的ZnS層；所述第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge層、484nm厚度的ZnS層、389nm厚度的Ge層、872nm厚度的ZnS層、476nm厚度的Ge層、884nm厚度的ZnS層、436nm厚度的Ge層、84Inm厚度的ZnS層、466nm厚度的Ge層、998nm厚度的ZnS層、459nm厚度的Ge層、866nm厚度的ZnS層、388nm厚度的Ge層、814nm厚度的ZnS層、630nm厚度的Ge層和1486nm厚度的ZnS層。
【文檔編號(hào)】G02B5/20GK203572997SQ201320781869
【公開日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】王繼平, 呂晶, 余初旺 申請(qǐng)人:杭州麥樂克電子科技有限公司