光致抗蝕劑組合物的制作方法
【專利摘要】一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含：樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；酸生成劑；由式(I)表示的化合物；和溶劑，所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％：其中所述環(huán)W1是含氮雜環(huán)，或具有取代或未取代的氨基的苯環(huán)，A1表示苯基或萘基，并且n表示2或3的整數(shù)。
【專利說明】光致抗蝕劑組合物
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在通過半導(dǎo)體芯片用薄膜安裝插腳的過程中，在基板上配置作為具有4至150 μ m高度的突起的電極。
[0003]對于用于制備突起的光致抗蝕劑組合物，JP2008-249993A1提到一種正性型化學(xué)放大光致抗蝕劑組合物，該光致抗蝕劑組合物任選地包含胺化合物作為猝滅劑。JP2007-272087A1提到一種正性型光敏樹脂組合物，該正性型光敏樹脂組合物任選地包含氮有機(jī)化合物作為酸擴(kuò)散控制劑。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本申請給出如下方面的發(fā)明。
[0005][I] 一種 光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含:
[0006]樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；
[0007]酸生成劑；
[0008]由式⑴表示的化合物；和
[0009]溶劑,所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％:
[
【權(quán)利要求】
1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含: 樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加； 酸生成劑； 由式⑴表不的化合物；和 溶劑，所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述環(huán)W1是含氮雜環(huán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂包含由式(al-Ι)或式(al-2)表示的結(jié)構(gòu)單元:
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物， 其中所述酸生成劑是由式(bl)或式(b3)表示的化合物，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光致抗蝕劑組合物， 其中所述酸生成劑是由式(bl)表示的化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述環(huán)Wbl表示萘環(huán)。
7.一種用于制備光致抗蝕劑膜的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑膜的厚度為3 μ m至150 μ m，所述光致抗蝕劑組合物包含: 樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加； 酸生成劑； 由式⑴表不的化合物；和 溶劑；
8.一種用于制備光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括: (1)將根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物涂敷在基板上的步驟， (2)通過干燥所述光致抗蝕劑組合物而形成光致抗蝕劑組合物膜的步驟， (3)將所述光致抗蝕劑組合物膜曝光的步驟，以及 (4)將所曝光的光致抗蝕劑組合物膜顯影的步驟。
【文檔編號】G03F7/004GK103454857SQ201310198534
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年5月24日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月31日
【發(fā)明者】杉原昌子, 河村麻貴 申請人:住友化學(xué)株式會社