專利名稱：光熱照相材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光熱照相材料，而且尤其涉及包括在載體一側(cè)上的包含感光鹵化銀、對光不敏感的脂肪族羧酸銀鹽、還原劑和粘結(jié)劑的感光層，以及在載體兩側(cè)上的非感光層的光熱照相材料。

背景技術(shù)：
在醫(yī)療診斷和成像技術(shù)領(lǐng)域中，在感光膠片的處理中存在對到從圖像形成材料的濕法處理所產(chǎn)生的廢液的關(guān)注，并且最近，處理廢液的減少就環(huán)境保護和空間節(jié)省而言是強烈要求的。因此，能夠僅在受熱時就形成圖像的可熱顯影的光熱照相材料投入了實際使用并且已經(jīng)在前述領(lǐng)域中快速地推廣。
光熱照相材料通常是通過熱顯影裝置(也稱作熱處理器)來處理的，該裝置穩(wěn)定地加熱光熱照相材料以形成圖像。與這一新近快速推廣一起，許多熱顯影裝置已經(jīng)在市場上出售。此外，小型的激光成像器和處理時間的縮短則是所希望的。
為了改進光熱照相材料的可運輸性，已知使用潤滑劑來控制摩擦系數(shù)，如在JP-A No.2003-015259和2006-003702中所述(以下，該術(shù)語JP-A指日本專利申請出版物)。
然而，通過小型激光成像器的快速處理時導(dǎo)致的諸如在熱顯影中磨損斑痕的出現(xiàn)，或在顯影裝置內(nèi)的沾污之類的問題，這些無法由現(xiàn)有技術(shù)來改善。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮到上述問題的情況下作出的，本發(fā)明的目的是提供一種光熱照相材料，該材料防止在熱顯影過程中所引起的磨損斑痕和在熱顯影裝置內(nèi)部的沾污。
因此，作為發(fā)明人深入研究的結(jié)果，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如下所述的含硅的聚合物潤滑劑和含氟的化合物的結(jié)合使用，對于改善在熱顯影過程中磨損斑痕的出現(xiàn)和在熱顯影裝置中沾污的發(fā)生會產(chǎn)生顯著的效果。
本發(fā)明的一個方面涉及光熱照相材料，其包括在載體的一側(cè)上的包含感光鹵化銀、對光不敏感的脂肪族羧酸銀鹽、還原劑和粘結(jié)劑樹脂的感光層和非感光層，以及在載體的與感光層相反的另一側(cè)上的非感光層，其中在感光層側(cè)上的非感光層或在另一側(cè)上的非感光層包括含硅的聚合物潤滑劑和由通式(SF)表示的含氟的化合物； 通式(SF) [Rf-(L1)m1-]p-(L2)n1-(A)q 其中Rf是具有2到16個碳原子和13個或更少的氟原子的取代基；L1是不具有氟原子的連接基團；L2是不具有氟原子的(p+q)價連接基團；A是陰離子或它的鹽；m1和n1各自是0或1的整數(shù)；p和q各自是1到3的整數(shù)，前提條件是當q是1時，m1和n1不同時是0。
2.如在1項中所述的光熱照相材料，其中含硅的聚合物潤滑劑具有1,000-20,000的質(zhì)量平均分子量。
3.如在1或2項中所述的光熱照相材料，其中在載體的感光層側(cè)上的非感光層或在載體的與感光層相反的另一側(cè)上的非感光層包含有機固體潤滑劑。
4.如3項中所述的光熱照相材料，其中有機固體潤滑劑顯示出110-200℃的熔點。
5.如在1項中所述的光熱照相材料，其中還原劑由通式(RD1)表示 通式(RD1)
其中X1是硫族元素原子或CHR1，其中R1是氫原子、鹵素原子、烷基、鏈烯基、芳基或雜環(huán)基團；R2是烷基，前提條件是兩個R2中的至少一個是仲或叔烷基；R3是氫原子或能夠在苯環(huán)上被取代的基團；R4是能夠在苯環(huán)上被取代的基團；m和n各自是0到2的整數(shù)。
6.如在5項中所述的光熱照相材料，其中在通式(RD1)中，兩個R3中的至少一個是具有1-20個碳原子和被羥基取代的烷基，或具有1-20個碳原子和被能夠在去保護之后形成羥基的基團取代的烷基。
7.如在1項中所述的光熱照相材料，其中脂肪族羧酸銀鹽中基于總脂肪族羧酸銀鹽計，含有70-99.99mol％的山萮酸銀鹽。
8.如1項中所述的光熱照相材料，其中粘結(jié)劑樹脂顯示出65-95℃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。



圖1是描繪與本發(fā)明有關(guān)的一個熱顯影裝置中的主要部分的側(cè)視圖。
圖2描繪了用于制備與本發(fā)明有關(guān)的脂肪族羧酸銀鹽的裝置。

具體實施例方式 下面是本發(fā)明的優(yōu)選實施方案，但是本發(fā)明絕不限于這些實施方案。首先，順序地描述本發(fā)明的構(gòu)成要素。
潤滑劑 本發(fā)明中可使用的含硅的聚合物潤滑劑優(yōu)選具有1,000到20,000，更優(yōu)選2,000到10,000，和更進一步優(yōu)選3,000到7,000的質(zhì)量平均分子量(Mw)。含硅的丙烯酸類聚合物優(yōu)選作為聚合物潤滑劑。
作為優(yōu)選的含硅的丙烯酸類聚合物，可以列舉梳形聚合物，該梳形聚合物是由含硅的單體和丙烯酸單體合成的，并具有丙烯酸類聚合物的骨架和由硅組成的側(cè)鏈。丙烯酸單體的例子包括甲基丙烯酸甲酯(MMA)、苯乙烯(St)、丙烯腈(AN)、甲基丙烯酸(MA)、甲基丙烯酸2-羥乙基酯(HEMA)、甲基丙烯酸丁酯(BMA)和甲基丙烯酸乙酯(EMA)。還有市場上買得到的US-270、US-350、US-352m、US-380、US-413和US-450，由TOAGOSEI Co.，Ltd.生產(chǎn)；ACTFLOW UTMM-LS2、IBMGV-LS2和IBMGV-LS4，由Soken Chemical& Engineering Co.，Ltd.生產(chǎn)；和DAIAROMER SP-712和DAIAROMERSP-2105，由Dainichiseika Color & Chemicals Inc.生產(chǎn)。這些是具有較大分子量的聚合物表面活性劑，它們傾向于固定在涂膜中并且能夠在長時間中維持穩(wěn)定的潤滑性能和靜電帶電性能，并且優(yōu)選實現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。
除上述含硅的聚合物潤滑劑之外，本發(fā)明的光熱照相材料優(yōu)選包含具有1-30μm的平均粒度的有機固體潤滑劑顆粒。有機固體潤滑劑顆粒的熔點優(yōu)選是110℃到200℃。該有機固體潤滑劑顆粒優(yōu)選是由降低表面能的化合物形成的那些顆粒，如通過粉碎聚乙烯、聚丙烯或聚四氟乙烯所獲得的顆粒。
在下面給出了由聚乙烯或聚丙烯形成的有機固體潤滑劑顆粒的例子，但是不限于這些 PW-1聚乙烯(低聚合度，m.p.113℃，平均粒度3.6μm) PW-2聚丙烯/聚乙烯(m.p.142℃，平均粒度9.6μm) PW-3低密度聚乙烯(m.p.113℃，平均粒度7.6μm) PW-4高密度聚乙烯(m.p.126℃，平均粒度10.3μm) PW-5聚丙烯(m.p.145℃，平均粒度8.8μm) 在本發(fā)明的光熱照相材料中，有機固體潤滑劑優(yōu)選是由下面通式(1)表示的化合物。該有機固體潤滑劑顆粒優(yōu)選顯示出在用于構(gòu)造層的涂覆溶液中的有機溶劑中不超過0.5質(zhì)量％的溶解度以及1-30μm的平均粒度。
通式(1) (R1-X1)p-L-(X2-R2)q 其中p和q各自是0到6的整數(shù)和；R1和R2各自是烷基、鏈烯基、芳烷基或芳基，它們中的每一個可以是被取代的和具有6-60個碳原子，前提條件是當p或q是2或更高時，多個R1或R2可以是相同的或不同的；X1和X2各自是含氮的二價連接基；L是(p+q)價基團。
通式(1)的化合物的碳原子的總數(shù)沒有具體限制，但是優(yōu)選是不少于20和更優(yōu)選不少于30。R1和R2各自是取代的或未被取代的烷基、鏈烯基、芳烷基或芳基，并且取代基的例子包括鹵素原子、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、酰胺基、磺?；被㈦寤?、氨基甲酰基、氨磺?；?、酰基、磺酰基、亞磺?；?、芳基和烷基。這些取代基可以進一步被取代基取代。此類取代基的優(yōu)選例子是鹵素原子、羥基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、酰胺基、磺?；被?、酰基和烷基。鹵素原子優(yōu)選是氟原子或氯原子。
上述烷氧基、烷硫基或烷氧基羰基的烷基組分與如下所述的R2的烷基相同。
酰胺基或磺?；被陌被梢允侨〈陌被?，其中取代基優(yōu)選是烷基。連接于?；被蝓；聂驶匣蜻B接于磺酰基氨基的磺?；系幕鶊F是烷基或芳基，并且優(yōu)選是如上所述的烷基。
R1和R2各自是具有6到60個碳原子，優(yōu)選6到40個碳原子和更優(yōu)選10到30個碳原子的烷基、鏈烯基、芳烷基或芳基。這些烷基、鏈烯基、芳烷基和芳基可以是直鏈、支化、環(huán)狀的或它們的混合。R1和R2的優(yōu)選例子包括辛基、叔辛基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、2-己基癸基、十八烷基、CnH2n+1(其中n是20到60的整數(shù))、二十烷基、二十二烷基、三十烷基、辛烯基、肉豆蔻基(myristoyl)、油基、油烯基(elcyl)、苯基、萘基、芐基，壬基苯基、二戊基苯基、和環(huán)己基、它們中的每一個可以被取代。
X1和X2各自是含氮的二價連接基，并且優(yōu)選為-CON(R3)-、-N(R4)CON(R5)-、或-N(R6)COO-，其中R3、R4、R5和R6各自與在R1中的定義相同。
L是(p+q)價基團和優(yōu)選為從取代的或未被取代的烷基、鏈烯基、芳烷基或芳基衍生的烴基并且具有p+q的價態(tài)。所述烴基的碳原子數(shù)沒有具體限定，但是優(yōu)選1到60，更優(yōu)選1到40，和更進一步優(yōu)選10到40。在(p+q)價烴基中，“(p+q)價”是指包括在該烴中的(p+q)個氫原子被除去，和在其上連接了p個X1和q個X2，p和q各自是0到6的整數(shù)和1≤p+q≤6，優(yōu)選1≤p+q≤4，和p和q優(yōu)選各自是1。
由通式(1)表示的化合物可以是合成產(chǎn)物或天然產(chǎn)物。由天然高級脂肪酸或醇制成的合成化合物包括直鏈和支化的化合物，形成它們的混合物，并且可以使用該混合物。合成產(chǎn)物從組成的質(zhì)量穩(wěn)定性來說是優(yōu)選的。
有機固體潤滑劑的具體例子是下面所示的，但不限于這些。在下文中，在括號內(nèi)的數(shù)值表示熔點(℃)/平均粒度(μm)。
OW-1月桂酸酰胺(87℃/4.5μm) OW-2棕櫚酸酰胺(100℃/5.8μm) OW-3硬脂酸酰胺(101℃/5.5μm) OW-4山萮酸酰胺(98℃/6.7μm) OW-5羥基硬脂酸酰胺(107℃/6.7μm) OW-6油酸酰胺(75℃/3.4μm) OW-7芥酸酰胺(81℃/4.3μm) OW-8蓖麻油酸酰胺(62℃/5.2μm) OW-9N-月桂基月桂酸酰胺(77℃/4.4μm) OW-10N-棕櫚基棕櫚酸酰胺(91℃/4.5μm) OW-11N-硬脂基硬脂酸酰胺(95℃/5.5μm) OW-12N-油基油酸酰胺(35℃/5.3μm) OW-13N-硬脂基油酸酰胺(67℃/5.4μm) OW-14N-油基硬脂酸酰胺(74℃/4.5μm) OW-15N-硬脂基芥酸酰胺(69℃/4.7μm) OW-16N-油基棕櫚酸酰胺(68℃/5.0μm) OW-17N-硬脂基-12-羥基硬脂酸(102℃/7.3μm) OW-18N-油基-12-羥基硬脂酸酰胺(90℃/7.8μm) OW-19羥甲基硬脂酸酰胺(110℃/5.6μm) OW-20羥甲基山萮酸酰胺(110℃/5.6μm) OW-21亞甲基雙硬脂酸酰胺(142℃/6.7μm) OW-22亞甲基雙月桂酸酰胺(131℃/5.7μm) OW-23亞甲基雙羥基硬脂酸酰胺(143℃/5.5μm) OW-24亞乙基雙癸酸酰胺(165℃/5.8μm) OW-25亞乙基雙辛酸酰胺(161℃/6.7μm) OW-26亞乙基雙月桂酸酰胺(157℃/6.5μm) OW-27亞乙基雙硬脂酸酰胺(145℃/7.8μm) OW-28亞乙基雙異硬脂酸酰胺(106℃/4.6μm) OW-29亞乙基雙羥基硬脂酸酰胺(145℃/6.9μm) OW-30亞乙基雙山萮酸酰胺(142℃/6.6μm) OW-31六亞甲基雙硬脂酸酰胺(140℃/7.6μm) OW-32六亞甲基雙硬脂酸酰胺(142℃/6.7μm) OW-33六亞甲基雙羥基硬脂酸酰胺(135℃/8.1μm) OW-34亞丁基雙羥基硬脂酸酰胺(140℃/7.8μm) OW-35N，N’-二硬脂基己二酸酰胺(141℃/8.5μm) OW-36N，N’-二硬脂基癸二酸酰胺(136℃/7.8μm) OW-37亞甲基雙油酸酰胺(116℃/6.7μm) OW-38亞乙基雙油酸酰胺(119℃/6.7μm) OW-39亞乙基雙芥酸酰胺(120℃/7.8μm) OW-40六亞甲基雙油酸酰胺(110℃/7.5μm) OW-41N，N’-二油基己二酸酰胺(118℃/5.6μm) OW-42N，N’-二油基癸二酸酰胺(113℃/6.7μm) OW-43間亞二甲苯基硬脂酸酰胺(123℃/7.8μm) OW-44N，N’-二硬脂基間苯二甲酸酰胺(125℃/8.7μm) OW-45乙醇胺二硬脂酸鹽(82℃/4.3μm) OW-46N-丁基-N’-硬脂基脲(94℃/4.6μm) OW-47N-苯基-N’-硬脂基脲(99℃/5.6μm) OW-48N-硬脂基-N’-硬脂基脲(109℃/6.7μm) OW-49亞二甲苯基雙硬脂基脲(166℃/6.0μm) OW-50亞甲苯基雙硬脂基脲(172℃/7.8μm) OW-51六亞甲基雙硬脂基脲(173℃/6.5μm) OW-52二苯基甲烷雙硬脂基脲(206℃/7.6μm) 潤滑劑的平均粒度能夠用以下方式測定潤滑劑分散體被稀釋和然后分散在格柵上并使用透射電子顯微鏡(例如由Nippon Denshi Co.，Ltd生產(chǎn)的2000FX)在5000倍放大倍數(shù)下拍照；所獲得的負像由掃描儀作為數(shù)字圖像讀取和分別測量了至少300個顆粒的粒度(圓形等效直徑)，并使用合適的圖像處理軟件以算術(shù)平均為基礎(chǔ)測定平均粒度。
除上述有機固體潤滑劑之外，例如，公知潤滑劑，例如，描述在JP-ANo.11-84573，段落0061-0064中，也可以與上述含硅的聚合物潤滑劑相結(jié)合使用。
分子量550或更高的潤滑劑或多元醇的脂肪酸酯優(yōu)選用作潤滑劑。分子量550或更高的多元醇的使用是優(yōu)選的。分子量700或更高是更優(yōu)選的和800或更高的分子量是更進一步優(yōu)選的。如果本發(fā)明的目標得以實現(xiàn)，則分子量的上限沒有具體地限定，但是通常不超過10,000，優(yōu)選不超過7,000和更優(yōu)選不超過5,000。這些潤滑劑包括石蠟(paraffin)、液體石蠟和脂肪酸酯，并且這些之中，脂肪酸酯是優(yōu)選的和多元醇的脂肪酸酯是更優(yōu)選的。
這樣的多元醇的脂肪酸酯可以全部酯化或一部分羥基可以保留。在分子中具有至少兩個酯基的脂肪酸酯是優(yōu)選的，而具有至少三個酯基的脂肪酸酯是更優(yōu)選的。具體地說，列舉在JP-A No.2004-334077的表1、2和3中所述的化合物。
含硅的聚合物潤滑劑，本發(fā)明的有機固體潤滑劑和其它潤滑劑優(yōu)選被引入到感光層側(cè)的最外層或背面涂層(以下也稱為BC層)中。本發(fā)明的潤滑劑被引入到感光層側(cè)的最外層中，其用量優(yōu)選0.1-20％，更優(yōu)選0.2-10％和更進一步優(yōu)選0.5-5％(質(zhì)量)，基于在最外層中所使用的粘結(jié)劑(包括固化劑，當固化劑引入時)。
潤滑劑也引入到BC層中，其用量優(yōu)選0.1-20％，更優(yōu)選0.2-10％和更進一步優(yōu)選0.5-5％(質(zhì)量)，基于在最外層中所使用的粘結(jié)劑(包括固化劑，當固化劑引入時)。
BC層是指在與載體的設(shè)置了感光層的一側(cè)相對的一側(cè)上所設(shè)置的層，并且BC層側(cè)的底涂層和BC層-保護層也包括在BC層中。該潤滑劑優(yōu)選被引入到BC層-保護層中。
含氟的表面活性劑 在本發(fā)明中，由下面通式(SF)表示的含氟的化合物優(yōu)選用于防止在激光成像器(熱顯影裝置)中所引起的膠片磨損斑痕或沾污 通式(SF) [Rf-(L1)m1-]p-(L2)n1-(A)q 其中Rf表示具有2到16個碳原子和13個或更少的氟原子的含氟取代基，L1表示不含氟的二價連接基，L2表示不含氟的(p+q)價連接基，A表示陰離子或它的鹽，m1和n1各自是0或1的整數(shù)，p是1到3的整數(shù)，q是1到3的整數(shù)，前提條件是當q是1時，m1和n1不同時是零。
在通式(SF)中，含氟取代基的Rf的例子包括具有2到16個碳原子的氟烷基(例如，三氟甲基、三氟乙基、全氟乙基、全氟丁基、全氟辛基、全氟十二烷基)，和氟鏈烯基(例如，全氟丙烯基、全氟丁烯基、全氟壬烯基、全氟十二碳烯基)。Rf優(yōu)選具有2-8個碳原子，和更優(yōu)選2-6個碳原子。Rf優(yōu)選包含2到12個氟原子，和更優(yōu)選3到12個氟原子。
在上述通式中，L1表示二價的、無氟的連接基。不含氟原子的二價連接基團的例子包括亞烷基(例如，亞甲基、亞乙基、和亞丁基)、亞烷基氧基(如亞甲基氧基、亞乙基氧基、或亞丁基氧基)、氧基亞烷基(例如，氧基亞甲基、氧基亞乙基、和氧基亞丁基)、氧基亞烷基氧基(例如，氧基亞甲基氧基、氧基亞乙基氧基、和氧基亞乙基氧基亞乙基氧基)、亞苯基、和氧基亞苯基、苯基氧基、和氧基苯基氧基、或通過結(jié)合這些基團所形成的基團。
在上述通式中，A表示陰離子基團或它的鹽基團。例子包括羧酸基團或它的鹽基團(鈉鹽、鉀鹽和鋰鹽)、磺酸基或它的鹽基團(鈉鹽、鉀鹽和鋰鹽)、硫酸半酯基團或它的鹽基團(鈉鹽、鉀鹽和鋰鹽)和磷酸基團和它的鹽基團(鈉鹽、鉀鹽和鋰鹽)。
在上述通式中，L2表示具有(p+q)價態(tài)的無氟的連接基。它的例子包括不含氟原子的三價或四價連接基團，它們是由氮原子作為中心所組成的原子基團；n是0或1的整數(shù)，和優(yōu)選1。
由上述通式(SF)表示的氟化表面活性劑制備如下。其中引入了氟原子的具有2到12個碳原子的烷基化合物(例如，具有三氟甲基、五氟乙基、全氟丁基、全氟辛基的化合物)和鏈烯基化合物(例如，全氟己烯基團、全氟壬烯基團)與沒有引入氟原子的三到六價鏈烷醇化合物、具有3或4個羥基的芳族化合物或雜化合物中的每一種進行加成反應(yīng)或縮合反應(yīng)。陰離子基團(A)通過使用例如硫酸酯化法被進一步引入所得化合物(包括部分地引入了Rf的鏈烷醇化合物)中。
上述三到六價鏈烷醇化合物的例子包括甘油、季戊四醇(pentaerythritol)、2-甲基-2-羥甲基-1，3-丙二醇、2，4-二羥基-3-羥基甲基戊烷、1，2，6-己烷三醇、1，1，1-三(羥甲基)丙烷、2，2-雙(丁醇)、脂肪族三醇、四羥甲基甲烷(tetramethylolmethane)、D-山梨糖醇、木糖醇、和D-甘露糖醇。上述具有3-4個羥基的芳族化合物以及雜化合物包括例如1，3，5-三羥基苯和2，4，6-三羥基吡啶。
含氟取代基優(yōu)選是氟烷基基團。該氟烷基優(yōu)選包含不超過13個氟原子，更優(yōu)選3到12個氟原子，和更進一步優(yōu)選5到9個氟原子。氟烷基優(yōu)選具有2個或更多個碳原子，更優(yōu)選4到16個碳原子，和更進一步優(yōu)選6到10個碳原子。
通式(SF)的化合物的具體例子如下所示。

除了上述以外的可用于本發(fā)明中的氟化表面活性劑包括在JP-A No.2004-117505，段落
中描述的化合物和在JP-A No.2000-214554、2003-156819、2003-177494、2003-114504、2003-270754和2003-270760中描述的化合物。
通式(SF)的上述陰離子表面活性劑和通常已知的非離子型氟化表面活性劑在光熱照相材料中的結(jié)合使用對于增強的靜電性能和涂布性能來說是優(yōu)選的。
可通過使用現(xiàn)有技術(shù)中已知的任何常規(guī)添加方法將氟化表面活性劑添加到液體涂覆組合物中。因此，它們?nèi)苡谌軇┲腥缓筇砑?，所述溶劑例如醇類，包括甲醇或乙醇，酮類，如甲基乙基酮或丙酮，和極性溶劑，如二甲基甲酰胺。此外，它們通過使用砂磨機、噴射磨、或超聲波均質(zhì)機以1μm的最大尺寸的微細顆粒的形式被分散到水或有機溶劑中，然后添加進去。對于微細顆粒分散體已公開了許多技術(shù)，并且可以這些技術(shù)中的任何一種為基礎(chǔ)來進行分散。優(yōu)選的是，上述氟化表面活性劑被添加到作為最外層的保護層中。
上述氟化表面活性劑的添加量優(yōu)選是1×10-8到1×10-1mol/m2，更優(yōu)選1×10-5到1×10-2mol/m2。當添加量低于下限時，不可能實現(xiàn)所希望的帶電特性，而添加量超過上限時，由于濕度依賴性的提高而降低貯存穩(wěn)定性。
消光劑 在本發(fā)明中，最外層優(yōu)選包含消光劑。優(yōu)選的是將有機或無機粉末狀材料用于在感光層上提供的非感光層中或在載體的與感光層相對側(cè)的非感光層中。
粉末狀材料可適宜地選自無機或有機粉末狀材料。顯示出5以上的莫氏硬度的無機粉末狀材料是優(yōu)選的。無機粉末狀材料的例子包括二氧化鈦、氮化硼、SnO2、SiO2、Cr2O3、α-Al2O3、α-Fe2O3、α-FeOOH、SiC、二氧化鈰、剛玉、人造金剛石、石榴石、云母、硅酸鹽，氮化硅和碳化硅。有機粉末狀材料的例子包括聚甲基丙烯酸甲酯(優(yōu)選，三維固化聚甲基丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯，和特氟綸(Teflon)(商品名稱)。
在載體的與感光層相對側(cè)上的層(BC層)優(yōu)選含有有機粉末，更優(yōu)選有機聚合物顆粒和更進一步優(yōu)選三維固化聚甲基丙烯酸甲酯作為消光劑。三維固化聚甲基丙烯酸甲酯的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)優(yōu)選是130到150℃以防止在熱顯影裝置的內(nèi)部的沾污。
載體的感光層側(cè)的最外層優(yōu)選含有無機粉末作為消光劑。無機粉末如SiO2、二氧化鈦、硫酸鋇、α-Al2O3、α-Fe2O3、α-FeOOH、Cr2O3和云母是優(yōu)選的，SiO2和α-Al2O3是更優(yōu)選的和SiO2是特別優(yōu)選的。
上述粉末狀材料當中，進行過表面處理的那些是優(yōu)選的。表面處理層是按下列方式形成的。無機原料進行干體系粉化，然后向其中添加水和分散劑，和進一步實施濕體系粉化，并且在離心分離之后，進行粗分選。之后，將如此制備的顆粒漿料轉(zhuǎn)移到表面處理浴中，在其中進行金屬氫氧化物的表面涂覆。由此，將規(guī)定量的Al、Si、Ti、Zr、Sb、Sn、Zn等的鹽的水溶液添加到其中，然后為了中和，進一步添加酸或堿，以便為無機粉末狀顆粒物表面涂覆水合氧化物。作為副產(chǎn)物的水溶性鹽通過潷析、過濾或洗滌被除去。漿料被調(diào)節(jié)到特定的pH值，過濾和用純水洗滌。如此洗滌的餅通過噴霧干燥器或手工干燥器來干燥。最終，干燥的材料被粉碎而獲得產(chǎn)品。除上述含水體系之外，AlCl3或SiCl4的蒸氣可以引入到非磁性的無機粉末中，隨后引入水蒸汽來進行Al或Si表面處理。其它表面處理方法參見“Characterization ofPowder Surfaces”，Academic Press。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是使用硅(Si)化合物或鋁(Al)化合物來進行表面處理。當制備消光劑的分散體時，如此表面處理過的粉末的使用導(dǎo)致優(yōu)異的分散作用。在這種情況下，Si含量優(yōu)選是0.1％到10％(質(zhì)量)，更優(yōu)選0.1％到5％(質(zhì)量)和更進一步優(yōu)選0.1％到2％(質(zhì)量)；Al含量優(yōu)選是0.1％到10％(質(zhì)量)，更優(yōu)選0.1％到5％(質(zhì)量)和更進一步優(yōu)選0.1％到2％(質(zhì)量)。Si與Al的重量比優(yōu)選是Si<Al。表面處理還可以通過在JP-A No.2-83219中描述的方法來進行。對于粉末狀材料的平均粒度，球狀顆粒粉末的平均粒度是它的平均直徑，針形顆粒粉末的平均粒度是平均主軸長度和片形顆粒粉末的平均粒度是在片形平面上的最大對角線的平均值，它們能夠容易地由電子顯微鏡觀察來測定。
在感光層側(cè)的最外層中所含的和用作消光劑的有機或無機粉末的平均粒度通常是在0.5至8.0μm之間，優(yōu)選1.0到6.0μm之間和更優(yōu)選2.0到5.0μm之間。
在載體的與感光層相對側(cè)上的層(也稱為BC層)優(yōu)選含有至少兩種顆粒尺寸不同的消光劑，其中的一種是具有12μm到30μm的平均粒度的較大消光劑，并且優(yōu)選具有12μm到30μm的平均粒度并占BC層中所含的總消光劑的0.1-2.5％(質(zhì)量)。這種較大消光劑優(yōu)選具有15-30μm和更優(yōu)選17-25μm的平均粒度。具有12-30μm的平均粒度較大消光劑的量優(yōu)選占BC層的總消光劑的0.2-2.0％(質(zhì)量)，和更優(yōu)選0.3-1.5％(質(zhì)量)。具有12-30μm的平均粒度和含量為0.1-2.5％(質(zhì)量)的較大消光劑防止在熱顯影裝置內(nèi)部的沾污和防止膜的磨損斑痕的出現(xiàn)。與較大消光劑不同的在BC層中所含的較小消光劑的平均粒度優(yōu)選是4-11μm，更優(yōu)選5-10μm，和更進一步優(yōu)選7-10μm。粒度分布的變異系數(shù)優(yōu)選是不超過50％，更優(yōu)選不超過40％和更進一步優(yōu)選1-30％。粒度分布的變異系數(shù)是以下定義的值 {(粒度的標準偏差)/(平均粒度)}×100 消光劑優(yōu)選包含在感光層側(cè)和BC層側(cè)的最外層中。
當消光劑包含在感光層側(cè)的最外層中時，消光劑的含量通常是含有消光劑的層的粘結(jié)劑含量(交聯(lián)劑包括在粘結(jié)劑含量之中)的1.0-20質(zhì)量％，優(yōu)選2.0-15質(zhì)量％和更優(yōu)選3.0-10質(zhì)量％。
當消光劑包含在與感光層相反側(cè)的最外層中時，消光劑的含量通常是含有消光劑的層的粘結(jié)劑含量(交聯(lián)劑包括在粘結(jié)劑含量之中)的0.2-10質(zhì)量％，優(yōu)選0.4-7質(zhì)量％和更優(yōu)選0.6-5質(zhì)量％。
無機或有機粉末能夠以下面方式引入預(yù)先將其分散在涂覆溶液中，然后涂覆?；蛘?，在涂覆涂覆溶液后，在干燥完成之前將無機或有機粉末噴灑在其上。多種的粉末可以將兩種方法相結(jié)合使用。
表面層 在本發(fā)明中，表面層的表面粗糙度優(yōu)選被控制在一定范圍內(nèi)。在光熱照相材料中，十點平均粗糙度(RZ)、最高粗糙度(Rt)和中心線平均粗糙度(Ra)在JIS表面粗糙度(Surface Roughness)(B0601)中被定義。JIS B 0601也對應(yīng)于ISO 468-1982、ISO 3274-1975、ISO 4287/1-1984、ISO 4287/2-1984和ISO4288-1985。十點平均粗糙度是指，在平行于平均線和不與剖面交叉的樅向倍率方向上測量的從最高至第五高的峰的高度的平均值與在從剖面的樣品部分(它的長度對應(yīng)于參考長度)內(nèi)的從最深至第五深的谷的高度的平均值之間的差值，以微米(μm)表示。表面的最大粗糙度(Rt)測定如下。因此，當在平均線的方向上對應(yīng)于參考長度(L)的長度是從粗糙度剖面上取樣時，最大粗糙度(Rt)是度量在該剖面的樅向倍率的方向上在峰線與谷線之間的間距的值，以微米(μm)表示。當粗糙度曲線由y＝f(x)表達時，中心線平均粗糙度(Ra)是從下列公式獲得的以微米(μm)表示的值，該公式從粗糙度曲線在其中心線方向中抽取一部分參考長度L，和將這一抽取部分的中心線作為X軸和樅向倍率方向作為Y軸 Rz、Rt和Ra的測量是在25℃和65％RH的環(huán)境中進行的，在此之前在同樣的環(huán)境中靜置以使樣品沒有重疊。表述“樣品沒有重疊”是指，通過提升膜邊緣部分進行卷繞、與在膜之間的插入紙重疊的一種方法，或用厚紙制備框架并固定它的四個角的方法。在本發(fā)明中可使用的測量裝置包括，例如，RST PLUS無接觸三維微表面形狀測量系統(tǒng)(WYKO Co.)。
Rz、Rt和Ra值可以通過下列技術(shù)手段的結(jié)合進行調(diào)節(jié)以便落在預(yù)定的范圍 (1)在感光層側(cè)的層中和在相對側(cè)的層中所含的消光劑(無機或有機粉末)的種類、平均粒度、量和表面處理方法， (2)消光劑的分散條件(例如，分散機器的種類、分散時間、用于分散中的珠粒的種類或平均粒度、分散劑的種類和量、粘結(jié)劑的極性基團的種類和它的含量)， (3)在涂覆階段的干燥條件(例如，涂覆速度、從涂覆側(cè)到熱空氣噴嘴的距離、干燥空氣體積)和殘留溶劑量， (4)用于涂覆溶液的過濾的過濾器的種類和過濾時間，和 (5)當在涂覆之后進行壓延處理時，它的條件(例如，40-80℃的壓延溫度、50-300kg/cm的壓力、20-100m的線速度和2到6的輥隙數(shù)量)。
在本發(fā)明中，Rz(E)/Rz(B)的值優(yōu)選不少于0.1且不大于0.7，更優(yōu)選不少于0.2且不大于0.6，和更進一步優(yōu)選不少于0.3且不大于0.55，其中“(E)”表示感光層側(cè)的最外層表面和“(B)”表示與感光層相反的BC層側(cè)的最外層表面。上述范圍獲得了光熱照相材料可運輸性的提高和在熱顯影中出現(xiàn)的密度不均勻度的改進。
Ra(E)/Ra(B)的值優(yōu)選是0.6到1.5，更優(yōu)選0.6到1.3，和更進一步優(yōu)選0.7到1.1，因此導(dǎo)致在老化過程中最低程度的灰霧，增強膜的膠粘特性和使熱顯影中所引起的密度不均勻性最小化。
本發(fā)明的光熱照相材料優(yōu)選在載體的兩側(cè)具有含有多種消光劑的各種層。當消光劑包含在感光層側(cè)的最外層中和顯示出最高平均粒度的消光劑的平均粒度表示為Le(μm)，和消光劑也包含在與感光層相對側(cè)的最外表面層中和顯示出最高平均粒度的消光劑的平均粒度表示為Lb(μm)時，Lb/Le的比率是2.0到10，和更優(yōu)選3.0到4.5，因此導(dǎo)致密度不均勻性的改進。此外，感光層側(cè)的Rz(E)/Ra(E)的值優(yōu)選是12到60，和更優(yōu)選14到50，因此導(dǎo)致密度不均勻性和貯存穩(wěn)定性的改進。Rz(B)/Ra(B)的值優(yōu)選是25到65，和更優(yōu)選30到60，因此導(dǎo)致密度不均勻性和貯存穩(wěn)定性的改進。
上述表面粗糙度按照下列方式來評價。
使用非接觸式三維表面分析儀(ST/PLUS，由WYKO Co.生產(chǎn))，沒有進行熱顯影的原料樣品測量如下； 1)物鏡×10，中間鏡×10 2)測量范圍463.4μm×623.9μm 3)像素大小368×238 4)過濾器圓柱形校正和傾斜校正 5)光滑中等光滑 6)掃描速度低。
上述Ra、Rz和Rt在JIS Surface Roughness(B0601)中被定義。10cm×10cm的樣品以1cm的間隔被分成100個正方形，對各正方形區(qū)域的中心進行測量，從100個測量值計算平均值。
在本發(fā)明中，照相特性曲線(photographic characteristic curve)是指D-logE曲線，該曲線表示通過描繪作為縱坐標的光學(xué)密度(即散射密度(D))與作為橫坐標的曝光率常用對數(shù)(logE)的曲線所獲得的關(guān)系。伽瑪(gamma)(γ)值是在特性曲線上在1.2的光學(xué)密度處切線的斜率(它也由tanθ表示，其中θ是在切線和橫坐標之間的角度)。
在特性曲線上在1.2的光學(xué)密度處的伽瑪(γ)值優(yōu)選是2.0到6.0，更優(yōu)選3.5到5.5。當在1.2的光學(xué)密度處的伽瑪值落在2.0到6.0的范圍時，即使在較高速度下傳輸?shù)那闆r下進行熱顯影也能維持良好的顯影均勻性，并且即使在低銀量下也可以得到增強的診斷識別性高的圖像。
通過下列技術(shù)的合適結(jié)合能夠容易地實現(xiàn)將伽瑪(γ)值調(diào)節(jié)到2.0至6.0。
1)顯影劑的種類和量加以變化。
2)銀節(jié)省劑的種類和量加以變化。
3)鹵化銀的種類和量加以變化。
4)吸附到鹵化銀上的光譜增感染料的種類和量加以變化。
5)鹵化銀的化學(xué)增感方法和它的熟化程度加以變化。
感光層的干燥厚度優(yōu)選是9.0到15.0μm，更優(yōu)選9.5到14.0μm，和更進一步優(yōu)選10.0到13.0μm。
提供在光熱照相材料的載體的一側(cè)上的感光層和非感光層的總厚度優(yōu)選是12.0-19.0μm，更優(yōu)選14.0-18.0μm。為了實現(xiàn)熱顯影后的提高的圖像密度均勻性和銳度，熱顯影圖像密度的最高值優(yōu)選是4.0-5.0，更優(yōu)選4.0-4.8和更進一步優(yōu)選4.2-4.6。
可用于本發(fā)明中的有機銀鹽是能夠用作供應(yīng)為了在光熱照相材料的感光層中形成圖像所需要的銀離子的來源的對光不敏感的有機銀鹽。
對光相對穩(wěn)定的可用于本發(fā)明中的有機銀鹽用作銀離子供應(yīng)源，和當在鹵化銀晶粒(光催化劑)的存在下在80℃或更高的溫度下加熱時，有助于銀像的形成，其中該鹵化銀晶粒具有在晶粒表面上的光催化劑和還原劑曝光時形成的潛像。已知具有各種化學(xué)結(jié)構(gòu)的有機化合物的銀鹽。此類對光不敏感的有機銀鹽已描述在JP-A No.10-62899，段落
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；歐洲專利申請出版物(以下，簡單地表示為EP-A)No.803,764A1，第18頁，24行到第24頁，37行；EP-A No.962,812A1；JP-A No.11-349591、2000-7683、2000-72711、2002-23301、2002-23303、2002-49119、2002-196446；EP-A No.1246001A1和1258775A1；JP-A No.2003-140290、2003-195445、2003-295378、2003-295379、2003-295380和2003-295381。
脂肪族羧酸銀鹽，特別是具有10到30個碳原子、優(yōu)選15到28個碳原子的長鏈脂肪族羧酸的銀鹽，優(yōu)選單獨使用或與上述有機銀鹽相結(jié)合使用。此類脂肪族羧酸的分子量優(yōu)選是200到400，更優(yōu)選250到400。優(yōu)選的脂肪族羧酸(或脂肪酸)銀鹽包括，例如，山萮酸銀、花生酸銀、硬脂酸銀、油酸銀、月桂酸銀、癸酸銀、肉豆蔻酸銀、棕櫚酸銀和它們的混合物。在上述脂肪族羧酸銀鹽當中，具有50mol％或更多(優(yōu)選80到99.9mol％，和更優(yōu)選90到99.9mol％)的山萮酸銀含量的脂肪酸銀鹽是優(yōu)選使用的。還優(yōu)選使用具有不超過2mol％(優(yōu)選不超過1mol％和更優(yōu)選不超過0.1mol％)的芥酸銀鹽含量的脂肪族羧酸銀鹽。
在脂肪族羧酸銀鹽的制備之前，需要制備脂肪族羧酸的堿金屬鹽。可用于本發(fā)明中的堿金屬鹽包括，例如，氫氧化鈉、氫氧化鉀和氫氧化鋰。這些當中，氫氧化鉀的使用是優(yōu)選的。結(jié)合使用氫氧化鈉和氫氧化鉀也是優(yōu)選的。結(jié)合使用的摩爾比率優(yōu)選是在10:90到75:25范圍內(nèi)。當通過與脂肪族羧酸的反應(yīng)形成脂肪族羧酸的堿金屬鹽時，在上述范圍內(nèi)的使用能夠適宜地控制反應(yīng)混合物的粘度。
當在具有0.050μm或更低的平均晶粒粒度的鹵化銀晶粒的存在下制備脂肪族羧酸銀鹽時，就防止鹵化銀晶粒的溶解和奧斯特瓦爾德熟化而言，堿金屬鹽的更高鉀含量是優(yōu)選的。高鉀含量會導(dǎo)致減少脂肪族酸銀鹽顆粒的尺寸?？倝A金屬鹽中的鉀鹽的比例優(yōu)選是全部堿金屬鹽的50-100mol％。堿金屬鹽濃度優(yōu)選是0.1-0.3mol/1000ml。
為了在熱顯影之后獲得足夠的圖像密度，用于本發(fā)明中的脂肪族羧酸銀鹽的平均球等效直徑優(yōu)選是0.05-0.50μm，更優(yōu)選0.10-0.45μm，更進一步優(yōu)選0.15-0.40μm。球等效直徑指體積與脂肪族羧酸銀鹽的顆粒的體積是等同的的球的直徑。由透射電子顯微鏡觀察涂覆樣品，從投影面積和所觀察顆粒的厚度測定顆粒體積。當該顆粒體積換算成具有與顆粒相同的體積的球時，該顆粒尺寸由球的直徑表示。脂肪族羧酸銀鹽的平均球等效直徑能夠容易地控制，例如通過提高在脂肪族羧酸銀鹽的制備中鉀鹽的比例或通過調(diào)節(jié)在感光乳液的分散過程中的二氧化鋯珠粒尺寸、砑磨機的圓周速度或分散時間。
除以上有機銀鹽之外也可以使用的是描述在JP-A No.2002-23303中的核/殼有機銀鹽；多元羧酸類的銀鹽，如在EP 1246001和JP-A No.2004-061948中所述；和聚合物銀鹽，如在JP-A No.2000-292881和2003-295378到2003-295381中所述。
可用于本發(fā)明中的脂肪族羧酸銀鹽的形狀沒有特別限定，任何形式如針形、棒形、平片形或鱗片形的有機銀鹽都可使用。鱗片形的脂肪族羧酸銀鹽在本發(fā)明中是優(yōu)選的。也優(yōu)選使用具有5以下的主軸與副軸的比率的短針形，直角平行六面體或立方體形，或土豆形不規(guī)則晶粒形式的有機銀鹽。與具有5以上的主軸與副軸的比率的長針形的晶粒相比，這些脂肪族羧酸銀鹽顆粒導(dǎo)致減少熱顯影中的灰霧。在本發(fā)明中，鱗片形的脂肪族羧酸銀鹽被定義如下。脂肪族羧酸銀鹽進行電子顯微鏡觀察并且有機銀鹽晶粒的形狀近似直角平行六面體。當直角平行六面體的邊按照從最短邊開始的順序表示為“a”、“b”和“c”(其中c可以等于b)時，較短邊a和b的值經(jīng)過計算來確定如下所定義的“x” x＝b/a 對于大約200個晶粒測定x值并且計算它們的平均值(表示為；x(av.))。因此，滿足x(av.)≥1.5的要求的晶粒被定義為鱗片形式。優(yōu)選，30≥x(av.)≥1.5，和更優(yōu)選，20≥x(av.)≥2.0。在這方面，針形滿足1≤x(av.)<1.5。
在上述鱗片形的晶粒中，“a”被認為是具有由“b”和“c”邊構(gòu)成的主面的平片狀晶粒的厚度?！癮”的平均值優(yōu)選是0.01到0.23μm，更優(yōu)選0.1到0.20μm。c/b的平均值優(yōu)選是1到6，更優(yōu)選1.05到4，更進一步優(yōu)選1.1到3，和最優(yōu)選1.1到2。
脂肪族羧酸銀鹽的晶粒粒度分布優(yōu)選是單分散的。表述“是單分散的”指，副軸或主軸長度的標準偏差除以副軸或主軸的平均值的百分數(shù)優(yōu)選是低于100％，更優(yōu)選不超過80％，和更進一步優(yōu)選不超過50％。脂肪族羧酸銀鹽的形狀能夠通過脂肪族羧酸銀鹽分散體的透射電子顯微鏡圖像來測定?；蛘撸w積加權(quán)(volume-weighted)的晶粒度的標準偏差除以平均體積加權(quán)的晶粒度的百分數(shù)(它是變異系數(shù))優(yōu)選是低于100％，更優(yōu)選不超過80％，和更進一步優(yōu)選不超過50％。它的測量，例如，按照以下來進行。對分散在液體中的脂肪族羧酸銀鹽輻射激光，通過散射光的波動時間的自校正函數(shù)測定晶粒度(體積加權(quán)的平均晶粒粒度)。
通常已知的方法適用于制造或分散本發(fā)明的有機銀鹽，例如，使含有銀離子的溶液與脂肪族羧酸堿金屬鹽的溶液或懸浮液進行反應(yīng)。該含有銀離子的溶液優(yōu)選是硝酸銀水溶液，并且脂肪族羧酸堿金屬鹽的溶液(或懸浮液)優(yōu)選是它的水溶液或懸浮液。兩種溶液優(yōu)選通過控制各個溶液的流速，并通過使用輸送設(shè)備(例如泵)由雙噴嘴添加來進行混合。溶液可以添加到母液的表面或添加到母液的內(nèi)部。然而，在本發(fā)明中，經(jīng)由輸送設(shè)備的混合是優(yōu)選的。在輸送設(shè)備中混合表示管線混合(或管道摻混)。因此，含有銀離子的溶液和脂肪族羧酸堿金屬鹽的溶液或懸浮液在被引入到批料(batch)中以貯存含有反應(yīng)混合物的產(chǎn)品之前進行混合?；旌隙蔚娜魏螖嚢柩b置都可以使用，例如，機械攪拌如均勻混合器、靜態(tài)混合器或紊流混合設(shè)備，但是優(yōu)選不使用機械攪拌。在輸送設(shè)備中的上述混合中，除了含有銀離子的溶液以及脂肪族羧酸堿金屬鹽的溶液或懸浮液之外，還可混合第三種液體，如在批料(batch)中貯存的水或反應(yīng)混合物。還參見JP-A No.平10-62899、EP 803，763A1、EP962,812A1、JP-A No.2001-167022、2000-7683、2000-72711、2001-163889、2001-163890、2001-163827、2001-33907、2001-188313、2001-83652、2002-6442、2002-31870、2003-280135和2005-157190。
在感光銀鹽如鹵化銀晶粒的存在下同時分散脂肪族羧酸銀鹽會導(dǎo)致增加的灰霧和減少的靈敏度，因此優(yōu)選的是，分散體基本上不含感光銀鹽。因此，感光銀鹽的水性分散體的含量優(yōu)選是不超過1mol％，以分散體的有機銀鹽計，更優(yōu)選不超過0.1mol％，和不添加感光銀鹽是更優(yōu)選的。
本發(fā)明的光熱照相材料能夠通過將脂肪族羧酸銀鹽的水性分散體與感光銀鹽的水性分散體混合來制備。感光銀鹽與脂肪族羧酸銀鹽的比率能夠任選地進行選擇，但是優(yōu)選是1-30mol％，更優(yōu)選2-20mol％和更進一步優(yōu)選3-15mol％。為了控制照相特性，優(yōu)選的是將至少兩種有機銀鹽的水性分散體與至少兩種感光銀鹽的水性分散體進行混合。
有機銀鹽或脂肪族羧酸銀鹽是以預(yù)定用量使用，但是優(yōu)選是0.1-5g/m2，以銀量計，更優(yōu)選0.3-3g/m2，和更進一步優(yōu)選0.5-2g/m2。
在本發(fā)明中使用的感光鹵化銀晶粒(以下，也簡單地表示為鹵化銀晶粒)是能夠作為鹵化銀晶體的固有性質(zhì)而吸收光的那些，或能夠由人工物理-化學(xué)方法吸收可見光或紅外光的那些，它們經(jīng)過處理或在制備之后會在吸收紫外線到紅外線區(qū)域內(nèi)的光之后在鹵化銀晶體的內(nèi)部和/或表面上引起物理化學(xué)變化。
用于本發(fā)明中的鹵化銀晶粒能夠根據(jù)通常已知的方法來制備。酸性沉淀、中性沉淀和氨沉淀中的任何一種都可以使用，水溶性銀鹽和鹵化物鹽的反應(yīng)模式包括單噴嘴添加、雙噴嘴添加和它們的結(jié)合。具體地，在控制晶粒形成條件下制備鹵化銀晶粒，即所謂的受控雙噴嘴沉淀是優(yōu)選的。
晶粒形成過程通常被分為鹵化銀種子晶體晶粒的形成(成核)和晶粒生長兩個階段。這些階段可以連續(xù)地進行，或成核(種子晶粒形成)和晶粒生長可以單獨進行。受控的雙噴嘴沉淀，其中晶粒形成是在控制晶粒形成條件如pAg和pH的情況下進行的，所優(yōu)選的是控制晶粒形狀或晶粒粒度。當成核和晶粒生長單獨地進行時，例如，可溶性銀鹽和可溶性鹵化物鹽均勻地和迅速地在明膠水溶液中混合以形成核心晶粒(種子晶粒)，其后，晶粒生長通過供應(yīng)可溶性銀鹽和鹵化物鹽來進行，同時控制pAg和pH來制備鹵化銀晶粒。在晶粒形成結(jié)束后，通過使用公知的脫鹽方法如面條方法(noodle method)、絮凝方法、超濾方法和電滲析法在脫鹽階段中除去可溶性鹽。
鹵化銀晶粒就晶粒粒度而言優(yōu)選是單分散的晶粒。在這里描述的單分散晶粒是指具有不超過30％；更優(yōu)選不超過20％，和更進一步優(yōu)選不超過15％的由下述公式獲得的晶粒粒度變動系數(shù)的晶粒 晶粒粒度的變動系數(shù)(％)＝(晶粒直徑的標準偏差/平均晶粒直徑)×100 晶粒形狀能夠是幾乎任何一種，其中包括立方體形、八面體形或十四面體形晶粒、平片狀晶粒、球形晶粒、棒狀晶粒、和土豆形晶粒。這些當中，立方體形晶粒、八面體形晶粒、十四面體形晶粒和平片狀晶粒是特別優(yōu)選的。
平片狀晶粒的長寬比優(yōu)選是1.5到100，更優(yōu)選2到50。這些晶粒已描述在美國專利5,264,337、5,314,798和5,320,958中，以及能夠容易地獲得希望的平片狀晶粒。具有圓形角的鹵化銀晶粒也是優(yōu)選使用的。
鹵化銀晶粒的外表面的晶體慣態(tài)沒有具體限制，但是當使用在增感染料吸附到鹵化銀晶粒表面上的吸附反應(yīng)中具有晶體慣態(tài)(面)選擇性的光譜增感染料時，優(yōu)選的是使用具有較高比例的滿足選擇性的晶體慣態(tài)的鹵化銀晶粒。例如當使用選擇性地吸附到[100]的密勒指數(shù)的晶面上增感染料時，由密勒指數(shù)[100]面所占的高比率是優(yōu)選的。這一比率優(yōu)選至少是50％；更優(yōu)選至少70％，和最優(yōu)選至少80％。由密勒指數(shù)[100]面所占的比率能夠以T.Tani，J.Imaging Sci.，29，165(1985)為基礎(chǔ)而獲得，其中利用[111]面或[100]面的吸附依賴性。
優(yōu)選的是在本發(fā)明中所使用的鹵化銀晶粒的制備中，特別在成核階段中，使用具有不超過50,000的平均分子量的低分子量明膠。因此，低分子量明膠具有不超過50,000，優(yōu)選2,000到40,000，和更優(yōu)選5,000到25,000的平均分子量。平均分子量能夠由凝膠滲透色譜法測定。低分子量明膠能夠通過將酶添加到具有大約100,000的分子量的常用明膠中進行酶促降解；通過在加熱下添加酸或堿進行水解；通過在大氣壓力下或在高壓下加熱進行熱降解；或通過暴露于超聲波中而獲得。
在成核階段中使用的分散介質(zhì)的濃度優(yōu)選是不超過5質(zhì)量％，和更優(yōu)選0.05-3.0質(zhì)量％。
在鹵化銀晶粒的制備中，優(yōu)選使用由下面通式表示的化合物，特別在成核階段中 YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)nY 其中Y是氫原子、-SO3M或-CO-B-COOM，其中M是氫原子、堿金屬原子、銨基團或被碳原子數(shù)不超過5的烷基取代的銨基團，和B是構(gòu)成有機二元酸的鏈狀或環(huán)狀基團；m和n各自是0-50；和p是1-100。由前述通式表示的聚氧化乙烯化合物已經(jīng)用作消泡劑，從而抑制當攪拌或移動乳液原料，特別在制備明膠水溶液的階段中，將水溶性的銀鹽和鹵化物鹽添加到明膠水溶液中或在制備鹵化銀照相感光材料的過程中將乳液涂覆在載體上時顯著發(fā)生的泡沫。使用這些化合物作為消泡劑的技術(shù)已描述在JP-A No.昭44-9497中。由前述通式表示的聚氧化乙烯化合物也在成核過程中起消泡劑的作用。由前述通式表示的化合物優(yōu)選以不超過1％，和更優(yōu)選0.01-0.1質(zhì)量％的量使用，基于銀來計算。
該化合物在成核階段中存在，并且可以在成核之前或期間被添加到分散介質(zhì)中。或者，該化合物可以添加到用于成核的銀鹽水溶液或鹵化物水溶液中。優(yōu)選以0.01-2.0質(zhì)量％的量將它添加到鹵化物溶液中或銀鹽溶液和鹵化物溶液兩者中。也優(yōu)選的是使通式[5]表示的化合物在成核階段的至少50％(更優(yōu)選，至少70％)的時間中存在。
在成核階段中的溫度優(yōu)選是5-60℃，和更優(yōu)選15-50℃。即使當成核在恒溫下進行時，在溫度提高模式(例如，按照成核在25℃下開始和溫度逐漸提高，在成核完成時達到40℃的方式)中或在它的反向模式中，優(yōu)選的是將溫度控制在如上所述的范圍內(nèi)。
用于成核的銀鹽和鹵化物鹽溶液優(yōu)選具有不超過3.5mol/l，和更優(yōu)選0.01-2.5mol/l的濃度。銀鹽水溶液的流速優(yōu)選是1.5×10-3到3.0×10-1mol/min/升的溶液，和更優(yōu)選3.0×10-3到8.0×10-2mol/min/升的溶液。成核過程中的pH是在1.7到10范圍，因為在堿性側(cè)的pH增寬該晶粒粒度分布，所以pH優(yōu)選是2到6。成核過程中的pBr是0.05到3.0，優(yōu)選1.0到2.5，和更優(yōu)選1.5到2.0。本發(fā)明的鹵化銀的平均晶粒粒度優(yōu)選是10到50nm，更優(yōu)選10到40nm，和更進一步優(yōu)選10到35nm。平均晶粒粒度落在上述范圍時，能夠防止在輕微曝光下圖像密度的下降或貯存穩(wěn)定性的變劣(當在熱顯影中獲得的圖像用于在室內(nèi)光下的診斷或在環(huán)境光下老化時的老化穩(wěn)定性)。
在本發(fā)明中，晶粒粒度指對于規(guī)則晶粒如立方體形或八面體形晶粒而言晶粒的邊緣長度。對于平片狀晶粒，該晶粒粒度是指與主面的投影面積相等的圓的直徑。對于不規(guī)則晶粒，如球形顆?；虬魻罹Я?，具有與晶粒相同的體積的球的直徑被定義為晶粒粒度。使用電子顯微鏡進行測量，取至少300個晶粒的粒度值的平均值，并且被定義為平均晶粒粒度。
結(jié)合使用具有55-100nm的平均晶粒粒度的鹵化銀晶粒和具有10-50nm的平均晶粒粒度的鹵化銀晶粒，不僅能夠控制圖像密度的深淺程度，而且能夠增強圖像密度或改善(減少)在貯存過程中圖像密度的降低。具有10-50nm的平均晶粒粒度的鹵化銀晶粒與具有55-100nm的平均晶粒粒度的鹵化銀晶粒的比率(重量)優(yōu)選是95:5至50:50，和更優(yōu)選90:10至60:40。
當平均晶粒粒度不同的兩種鹵化銀乳液結(jié)合使用時，這些乳液可以摻混和引入到感光層中。為了對深淺程度進行調(diào)節(jié)，感光層被分成至少兩層以及平均晶粒粒度不同的兩種鹵化銀乳液包含在各層中。
含有碘化物的鹵化銀晶粒優(yōu)選用作在本發(fā)明中使用的鹵化銀晶粒。對于鹵化物組合物，本發(fā)明的鹵化銀晶粒優(yōu)選具有5-100mol％(更優(yōu)選40-100mol％，更進一步優(yōu)選70-100mol％)的碘化物含量。在上述碘化物含量范圍，在晶粒內(nèi)的鹵化物組成是均勻的，或分階段變化的或連續(xù)變化的。優(yōu)選使用在內(nèi)部和/或表面上具有較高碘化物含量的具有核/殼結(jié)構(gòu)的鹵化銀晶粒。該結(jié)構(gòu)優(yōu)選是2到5重疊結(jié)構(gòu)；優(yōu)選是2到4重疊結(jié)構(gòu)的核/殼晶粒。
碘化銀在鹵化銀中的引入能夠通過在晶粒形成過程中添加堿性碘化物水溶液來實現(xiàn)；添加精細晶粒如顆粒狀碘化銀、顆粒狀碘溴化銀、顆粒狀碘氯化銀或顆粒狀碘氯溴化銀，或添加在JP-A No.平5-323487和平6-11780中所述的碘化物離子釋放劑?？捎糜诒景l(fā)明中的鹵化銀粒子優(yōu)選在350-440nm的波長范圍顯示由于碘化銀晶體結(jié)構(gòu)所引起的直接遷移吸收。這些鹵化銀的直接遷移吸收能夠容易地通過由于直接遷移所引起的在400到430nm范圍附近的激子吸收的觀察結(jié)果來鑒別。
可用于本發(fā)明中的感光鹵化銀晶粒，優(yōu)選是在熱顯影之后能夠從表面圖像形成類型轉(zhuǎn)化成內(nèi)部圖像形成類型而導(dǎo)致降低的表面靈敏度的那些，如在JP-A No.2003-270755和2005-106927中所述。因此，鹵化銀晶粒形成潛像，該潛像能夠在鹵化銀晶粒表面上的熱顯影之前的曝光時，用作顯影(或銀離子被還原劑的還原反應(yīng))的催化劑，并且在熱顯影完成之后的曝光時，優(yōu)先在晶粒內(nèi)部形成圖像(即，內(nèi)部潛像形成)，因此抑制了在晶粒表面上潛像的形成。
與常規(guī)的表面潛像形成類型鹵化銀晶粒相類似，上述的可以熱方式從表面到內(nèi)部潛像轉(zhuǎn)變的鹵化銀晶粒優(yōu)選是以0.001-0.7mol/mol的脂肪族羧酸銀鹽，和更優(yōu)選0.03-0.5mol/mol脂肪族羧酸銀鹽的量使用。
優(yōu)選的是在制造光熱照相材料的過程中防止鹵化銀晶粒的聚集以便使鹵化銀晶粒均勻地分散并且以所需的形式控制顯影的銀，從而實現(xiàn)了照相特性和圖像色調(diào)的改進。
其中親水基團如氨基或羧基根據(jù)使用條件進行化學(xué)改性的明膠是達到聚集的防止或均勻的分散效果所優(yōu)選的。為了增強疏水性的明膠氨基的改性包括，例如，苯基氨基甲酰基改性、鄰苯二甲?；?、琥珀酸改性、乙?；?、苯甲?；男院拖趸交男?，但不限于這些。取代系數(shù)(substitution factor)優(yōu)選至少是95％，和更優(yōu)選至少99％?？梢越M合羧基的疏水改性并且它的例子包括甲基酯化和形成酰胺。羧基的取代系數(shù)優(yōu)選是50％-90％和更優(yōu)選70％-90％。疏水改性是指氨基和/或羧基被疏水性基團取代來增強疏水性。
優(yōu)選的是使用可溶于水和有機溶劑中的聚合物來代替明膠或與明膠一起使用，以制備與本發(fā)明有關(guān)的鹵化銀乳液。例如，當鹵化銀乳液被分散在有機溶劑中進行涂覆時，則是特別優(yōu)選的。此類有機溶劑的例子包括醇型、酯型和酮型化合物。這些當中特別優(yōu)選的是酮型有機溶劑，如丙酮、甲基乙基酮和二乙基甲酮。
可溶于水和有機溶劑中的聚合物可以是天然聚合物、或合成聚合物或共聚物。例如，經(jīng)過改性以便與本發(fā)明相適應(yīng)的明膠或橡膠可用于本發(fā)明中。還可以按照以下將官能團引入到聚合物中以防止聚集或?qū)崿F(xiàn)均勻分散。上述聚合物的例子包括在JP-A No.2005-316054的段落0018中描述的那些聚合物。
根據(jù)本發(fā)明的聚合物可以是可溶于水和有機溶劑兩者中的聚合物，還可以是通過控制pH或溫度而在水或有機溶劑中變得可溶或不溶的聚合物。濁點現(xiàn)象在表面活性劑領(lǐng)域中是眾所周知的。當加熱時變成疏水性或有機溶劑可溶性的以及當冷卻時變成親水性或水溶性的聚合物也可用于本發(fā)明中。即使沒有完全地溶解，它可均勻地乳化以形成膠束。
親水性單體和疏水性單體的合適結(jié)合能夠獲得用于本發(fā)明中的所需聚合物。
可溶于水和有機溶劑中的聚合物(它的溶液條件可以調(diào)節(jié))優(yōu)選顯示至少1wt％(在25℃下)的在水中的溶解度和至少5重量％(在25℃下)的在甲基乙基酮中的溶解度。就溶解度而言，嵌段共聚物、接枝聚合物或梳型聚合物適合作為可溶于水和有機溶劑中的聚合物，而不是直鏈聚合物，并且梳型聚合物是優(yōu)選的。聚合物的等電點優(yōu)選是6或更低的pH。
梳型聚合物能夠通過各種方法制備，但優(yōu)選通過采用能夠引入分子量200或更高的側(cè)鏈的單體，和更優(yōu)選采用含有聚氧化烯基團(如環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷)的烯屬不飽和單體來制備。所述含有聚氧化烯基團的烯屬不飽和單體優(yōu)選是具有聚氧化烯基團的烯屬不飽和單體，如在JP-ANo.2005-316054，段落0022-0024中所述。商購的單體包括在JP-A No.2005-316054，段落0025中描述的那些。
作為本發(fā)明涉及的聚合物，可以使用通過采用所謂的大單體所制備的接枝聚合物，如在由Kobushigakkai編的“Shin-Kobunshi Jikkengaku 2，Kobunshino Gosei·Hannou”(Kyoritsu Shupan，1995)中所述，以及在Y.Yamashita“Macromonomer no Kagaku to Kogyo”(IPC)中詳細討論過的。大單體的分子量的有效范圍是10,000到100,000，優(yōu)選10,000到50,000，和更優(yōu)選10,000到20,000。低于10,000的分子量不能實現(xiàn)效果，而且低于10,000的分子量不能實現(xiàn)本發(fā)明的理想效果。大于100,000的分子量會損害與可共聚單體之間共聚合的可聚合性。它們的具體例子包括AA-6、AS6S和AN-6S。
含有聚氧化烯基團的烯屬不飽和單體可以單獨使用或相結(jié)合使用。
與如上所述的單體進行反應(yīng)的另一種單體的例子包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、烯丙基酯、烯丙氧基乙醇、乙烯基醚、乙烯基酯、衣康酸二烷基酯、富馬酸二烷基酯和單烷基酯、以及衣康酸、丙烯腈、甲基丙烯腈、馬來腈、和苯乙烯。特定例子包括描述在JP-A No.2005-316054，段落0029-0030中的化合物。聚合引發(fā)劑、聚合抑制劑、聚合物的等電點、用于聚合反應(yīng)中的溶劑的類型、和聚合物的分子量已描述在JP-ANo.2005-316054，段落0031-0039中。
如上所述的兩親性聚合物的具體例子顯示在以下但不限于這些。


用于本發(fā)明中的鹵化銀晶?？梢赃M行化學(xué)增感。例如，根據(jù)在JP-A No.2001-249428和2001-249426中所述的方法，化學(xué)增感中心(化學(xué)增感點)可以通過使用能夠釋放硫族元素如硫的化合物或能夠釋放貴金屬離子如金離子的貴金屬化合物來形成。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是用如下所述的含有硫族元素原子的有機增感劑來進行化學(xué)增感。所述含有硫族元素原子的有機增感劑優(yōu)選是含有能夠被吸附到鹵化銀上和不穩(wěn)定性的硫族元素原子位置之上的基團的化合物。這些有機增感劑包括，例如，具有各種結(jié)構(gòu)的那些，如在JP-ANo.昭60-150046、平4-109240和平11-218874中所述。這些當中優(yōu)選的至少是具有以下結(jié)構(gòu)的化合物，在該結(jié)構(gòu)中硫族元素原子經(jīng)由雙鍵連接于碳或磷原子上。具體地說，含雜環(huán)的硫脲衍生物和硫化三苯膦衍生物是優(yōu)選的。
在用于濕處理中的鹵化銀照相材料中所使用的各種化學(xué)增感技術(shù)適用于進行化學(xué)增感，例如在T.H.James，The Theory of the Photographic Process，第四版(Macmillan Publishing Co.，Ltd.，1977和Nippon Shashin Gakai Ed.，“Shashin Kogaku no Kiso(Gin-ene Shashin)”(Corona Co.，Ltd.，1998)中所述。作為有機增感劑添加的硫族元素化合物的量是可變的，這取決于所使用的硫族元素化合物、鹵化銀晶粒和當進行化學(xué)增感時的反應(yīng)環(huán)境，并且優(yōu)選相對于每mol鹵化銀為10-8到10-2mol，和更優(yōu)選10-7到10-3mol。在本發(fā)明中，化學(xué)增感環(huán)境沒有特別限制，但優(yōu)選的是，在能夠消去在鹵化銀晶粒上所形成的銀硫?qū)僭鼗y或銀污點或減少它們的尺寸的化合物存在下，或特別在能夠氧化該銀污點的一種氧化劑存在下，通過使用含有硫族元素原子的有機增感劑來進行化學(xué)增感。為了在優(yōu)選的條件下進行化學(xué)增感，pAg優(yōu)選是6-11，和更優(yōu)選7-10，pH優(yōu)選是4-10和更優(yōu)選5-8，和溫度優(yōu)選是不超過30℃。
使用上述有機增感劑的化學(xué)增感也優(yōu)選在光譜增感染料或能夠吸附到鹵化銀晶粒上的含有雜原子的化合物的存在下進行。因此，在鹵化銀吸附性化合物的存在下的化學(xué)增感會導(dǎo)致防止化學(xué)增感中心污點的分散，因此實現(xiàn)增強的敏感度和減到最少的灰霧。雖然有描述的在本發(fā)明中使用的光譜增感染料，但鹵化銀吸附性的、含有雜原子的化合物的優(yōu)選例子包括描述在JP-ANo.平3-24537中的含氮的雜環(huán)化合物。在含有雜原子的化合物中，雜環(huán)的例子包括吡唑并環(huán)(pyrazolo ring)、嘧啶環(huán)、1，2，4-三唑環(huán)、1，2，3-三唑環(huán)、1，3，4-噻唑環(huán)、1，2，3-噻二唑環(huán)、1，2，4-噻二唑環(huán)、1，2，5-噻二唑環(huán)、1，2，3，4-四唑環(huán)、噠嗪環(huán)、1，2，3-三嗪環(huán)、和這些環(huán)當中的兩個或三個的稠環(huán)，如三唑并三唑環(huán)、二氮雜茚環(huán)、三氮雜茚環(huán)和五氮雜茚環(huán)。由單環(huán)型雜環(huán)和芳族環(huán)組成的稠合雜環(huán)包括，例如，酞嗪環(huán)、苯并咪唑環(huán)、吲唑環(huán)、和苯并噻唑環(huán)。這些當中，氮雜茚環(huán)是優(yōu)選的，和羥基取代的氮雜茚化合物如羥基三氮雜茚、四羥基氮雜茚和羥基五氮雜茚化合物是更優(yōu)選的。雜環(huán)可以被除羥基之外的取代基所取代。取代基的例子包括烷基、取代烷基、烷硫基、氨基、羥氨基、烷基氨基、二烷基氨基、芳基氨基、羧基、烷氧基羰基、鹵素原子和氰基。含有雜環(huán)的化合物的添加量隨鹵化銀晶粒的尺寸或組成而在大范圍內(nèi)變化，其相對于每mol鹵化銀為10-6到1mol，和優(yōu)選10-4到10-1mol的范圍內(nèi)。
如前面所述，鹵化銀晶粒通過使用能夠釋放貴金屬離子如金離子的化合物來進行貴金屬增感?？墒褂玫慕鹪龈袆┑睦影冉鹚猁}和有機金化合物。除上述增感之外，還原增感也能夠采用，并且用于還原增感中的示例性化合物包括抗壞血酸、二氧化硫脲、氯化亞錫、肼的衍生物、硼烷化合物，硅烷化合物和多胺化合物。還原增感也能夠在將pH維持在不低于7或在將pAg維持在不超過8.3的同時，通過熟化該乳液來進行。進行化學(xué)增感的鹵化銀可以是在有機銀鹽存在下制備的鹵化銀，在有機銀鹽不存在的條件下形成的鹵化銀，或它們的混合物。
當鹵化銀晶粒的表面進行化學(xué)增感時，優(yōu)選的是在進行熱顯影之后化學(xué)增感的效果基本上消失?；瘜W(xué)增感的效果基本上消失是指，熱顯影之后，由上述化學(xué)增感所獲得的光熱照相材料的敏感度降低到不超過沒有進行化學(xué)增感的情況的敏感度的1.1倍。為了讓化學(xué)增感的效果消失，優(yōu)選的是，讓能夠通過氧化反應(yīng)來分解化學(xué)增感中心(或化學(xué)增感核)的氧化劑如鹵素基團釋放型化合物以最佳量包含在感光層和/或非感光層中。按照氧化劑的氧化強度和化學(xué)增感效果來調(diào)節(jié)氧化劑的含量。
光譜增感作用 可用于本發(fā)明中的感光鹵化銀優(yōu)選利用光譜增感染料的吸附來進行光譜增感。光譜增感染料的例子包括花青、部花青、復(fù)合花青、復(fù)合部花青、全極性(holo-polar)花青、苯乙烯基(styryl)染料、半菁、氧雜菁和半氧雜菁(hemioxonol)染料，如在JP-ANo.昭63-159841、昭60-140335、昭63-231437、昭63-259651、昭63-304242、昭63-15245；美國專利No4,639,414、4,740,455、4,741,966、4,751,175和4,835,096中所述?？墒褂玫脑龈腥玖弦脖幻枋鲈赗esearch Disclosure(以下，也表示為RD)17643，第23頁，第IV-A部分(1978年12月)，和ibid 18431，第437頁，第X部分(1978年8月)。優(yōu)選的是使用具有適合于各種激光成像器或掃描儀的光源光譜特性的光譜敏感度的增感染料。它的例子包括描述在JP-A No.，平9-34078、平9-54409和9-80679中的化合物。
有用的菁染料包括，例如，含有堿性核(如噻唑啉、噁唑啉、吡咯啉、吡啶、噁唑、噻唑、硒唑和咪唑核)的花青染料。有用的部花青染料優(yōu)選含有，除上述的核之外，酸性核，如乙內(nèi)酰硫脲、若丹寧、噁唑烷二酮、噻唑啉二酮、巴比土酸、噻唑啉酮、丙二腈和吡唑啉酮核。在本發(fā)明中，也優(yōu)選使用在紅外區(qū)內(nèi)有光譜敏感度的增感染料。優(yōu)選的紅外增感染料的例子包括在美國專利No4,536,478、4,515,888和4,959,294中描述的那些。
用于本發(fā)明中的光熱照相材料優(yōu)選含有如在美國專利申請出版物No.2004-224266中所公開的，由通式(1)表示的增感染料和由通式(2)表示的增感染料中的至少一種，和更優(yōu)選由通式(5)表示的增感染料和由通式(6)表示的增感染料中的至少一種。由通式(5)表示的增感染料和由通式(6)表示的增感染料的結(jié)合使用，會導(dǎo)致改進對于在曝光時的曝光用光的波長的依賴性。
如上所述的紅外增感染料和光譜增感染料能夠根據(jù)在F.M.Hammer，The Chemistry of Heterocyclic Compounds，vol.18，“The Cyanine Dyes andRelated Compounds”(A.Weissberger ed.Interscience Corp.，New York，1964)中描述的方法來容易地合成。
紅外增感染料能夠在鹵化銀制備之后的任何時候添加。例如，該染料能夠以溶解在溶劑中的形式或以細顆粒分散體(所謂的固體顆粒分散體)的形式添加到含有鹵化銀晶粒/有機銀鹽晶粒的感光乳液中。與對鹵化銀具有吸附性的含有雜原子的化合物相類似，在化學(xué)增感之前添加染料并讓它吸附到鹵化銀晶粒上之后，進行化學(xué)增感，由此防止化學(xué)增感中心污點的分散和實現(xiàn)增強的敏感度和減到最少的灰霧。
這些增感染料可以單獨使用或結(jié)合使用。增感染料的結(jié)合使用常常是為了感光波長范圍的超增敏、擴展或調(diào)節(jié)的目的而使用。超增敏化合物，如不顯示光譜增感作用的染料或不顯著吸收可見光的物質(zhì)，可與增感染料相結(jié)合被引入到在本發(fā)明的光熱照相成像化合物中所用的含有鹵化銀晶粒和有機銀鹽晶粒的乳液中。
有用的增感染料，顯示超增感作用的染料結(jié)合物和顯示超增感作用的材料已描述在RD17643(1978年12月出版)，IV-J，第23頁，JP-B平9-25500和43-4933(在這里，術(shù)語JP-B指已出版的日本專利)和JP-A昭59-19032、昭59-192242和平5-341432中。在本發(fā)明中，由以下通式(6)表示的芳族雜環(huán)巰基化合物優(yōu)選作為超增感劑 Ar-SM 其中M是氫原子或堿金屬原子；Ar是含有氮原子、氧原子、硫原子，硒原子或碲原子的芳族環(huán)或稠合芳族環(huán)。該芳族雜環(huán)優(yōu)選的是苯并咪唑、萘并咪唑、苯并噻唑、萘并噻唑、苯并噁唑、萘并噁唑、苯并硒唑、苯并碲唑、咪唑、噁唑、吡唑、三唑、三嗪、嘧啶、噠嗪、吡嗪、吡啶、嘌呤、和喹啉。其它芳族雜環(huán)也可包括在內(nèi)。
當引入到有機銀鹽和/或鹵化銀晶粒乳液的分散體中時能夠形成巰基化合物的二硫化物化合物也包括在本發(fā)明中。尤其，它的優(yōu)選例子是由下面通式表示的二硫化物化合物 Ar-S-S-Ar 其中Ar與在由前面所述的通式表示的巰基化合物中定義相同。
如上所述的芳族雜環(huán)可以被鹵素原子(例如，Cl、Br、I)、羥基、氨基、羧基、烷基(具有一個或多個碳原子，和優(yōu)選1到4個碳原子)或烷氧基(具有一個或多個碳原子，和優(yōu)選1到4個碳原子)取代。除上述超增感劑之外，可以將在JP-A No.2001-330918中所述的含有雜原子的大環(huán)化合物用作超增感劑。超增感劑被引入到含有有機銀鹽和鹵化銀晶粒的感光層中，優(yōu)選是每mol銀為0.001到1.0mol，和更優(yōu)選0.01到0.5mol的量。
優(yōu)選的是，增感染料被吸附到感光鹵化銀晶粒的表面上以實現(xiàn)光譜增感和在進行熱顯影之后光譜增感效果基本上消失。光譜增感效果基本上消失是指，在熱顯影之后，已經(jīng)用增感染料和任選的超增感劑進行光譜增感的光熱照相材料的敏感性降低到不超過沒有進行光譜增感的光熱照相材料的敏感性的1.1倍。為了讓光譜增感效果消失，優(yōu)選的是，使用容易從鹵化銀晶粒中釋放的光譜增感染料和/或讓能夠通過氧化反應(yīng)來分解光譜增感染料的氧化劑如鹵素基團釋放型化合物以最佳量包含在感光層和/或非感光層中。按照氧化劑的氧化強度和它的光譜增感效果來調(diào)節(jié)氧化劑的含量。
還原劑 用于本發(fā)明中的還原劑是能夠還原感光層中的銀離子的那些，它們也被稱作顯影劑。
可用于本發(fā)明中的還原劑優(yōu)選是由下面通式(RD1)表示的化合物或它與具有不同化學(xué)式的其它還原劑的結(jié)合使用 通式(RD1)
其中X1是硫族元素原子或CHR1，其中R1是氫原子、鹵素原子、烷基、鏈烯基、芳基或雜環(huán)基團；R2是烷基，前提條件是兩個R2可以是相同的或不同的以及它們中的至少一個是仲或叔烷基；R3是氫原子或能夠在苯環(huán)上被取代的基團；R4是能夠在苯環(huán)上被取代的基團；m和n各自是0到2的整數(shù)。
在本發(fā)明中，為了控制熱顯影特性，通式(RD1)的化合物也能夠與下面通式(RD2)表示的化合物結(jié)合使用 通式(RD2)
其中X2表示硫族元素原子或CHR5，其中R5是氫原子、鹵素原子、烷基、鏈烯基、芳基或雜環(huán)基團；兩個R6是烷基，它們可以是相同的或不同的，前提條件是R6不是仲或叔烷基；R7是氫原子或能夠在苯環(huán)上被取代的基團；R8是能夠在苯環(huán)上被取代的基團；m和n各自是0到2的整數(shù)。
[通式(RD1)的化合物]:[通式(RD2)的化合物]的質(zhì)量比優(yōu)選是5:95到45:55，和更優(yōu)選10:90到40:60。
在上述通式(RD1)中，X1表示硫族元素原子或CHR1。具體地，該硫族元素原子是硫原子、硒原子、或碲原子。這些當中，硫原子是優(yōu)選的；在CHR1中的R1表示氫原子、鹵素原子、烷基、鏈烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基團。鹵素原子包括，例如，氟原子、氯原子、和溴原子。烷基是具有1-20個碳原子的烷基和它的具體例子包括甲基、乙基、丙基、丁基、己基、庚基和環(huán)烷基。鏈烯基的例子是，乙烯基、烯丙基、丁烯基、己烯基、己二烯基、乙烯基-2-丙烯基、3-丁烯基、1-甲基-3-丙烯基、3-戊烯基、1-甲基-3-丁烯基和環(huán)己烯基。芳基的例子是苯基和萘基。雜環(huán)基團的例子是噻吩基、呋喃基、咪唑基、吡唑基和吡咯基。
這些基團可具有取代基。作為取代基列舉的是鹵素原子(例如氟原子、氯原子、或溴原子)、環(huán)烷基(例如環(huán)己基或環(huán)丁基)、環(huán)烯基(例如1-環(huán)烯基或2-環(huán)烯基)、烷氧基(例如甲氧基、乙氧基或丙氧基)、烷基羰氧基(例如乙酰氧基)、烷硫基(例如甲硫基或三氟甲基硫基)、羧基、烷基羰基氨基(例如乙酰氨基)、脲基(例如，甲基氨基羰基氨基)、烷基磺酰基氨基(例如，甲烷磺酰基氨基)、烷基磺酰基(例如甲磺?；腿淄榛酋；?、氨基甲?；?例如，氨基甲?；?、N，N-二甲基氨基甲?；?、或N-嗎啉代羰基)、氨磺?；?例如，氨磺酰基、N，N-二甲基氨基磺?；?、或嗎啉代氨基磺?；?、三氟甲基、羥基、硝基、氰基、烷基磺酰胺基團(例如甲烷磺酰胺基或丁烷磺?；?、烷基氨基(例如氨基、N，N-二甲基氨基、或N，N-二乙基氨基)、磺基、膦酰基、亞硫酸根、亞磺基、烷基磺?；被驶?例如甲烷磺?；被驶蛞彝榛酋；被驶?、烷基羰基氨基磺酰基(例如乙酰胺基磺?；蚣籽趸阴０坊酋；?、炔基(alkynyl、アルキニル)氨基羰基(例如乙酰胺基羰基或甲氧基乙酰胺基羰基)、和烷基亞磺酰基氨基羰基(例如甲烷亞磺?；被驶蛞彝閬喕酋；被驶?。此外，當存在至少兩個取代基時，它們可以是相同的或不同的。最優(yōu)選的取代基是烷基。
在通式(RD1)中，兩個R2都是烷基，它們可以是相同的或不同的并且該烷基中的至少一個是仲或叔烷基。烷基優(yōu)選是具有1到20個碳原子的那些，它們可以是取代或未被取代的。它們的具體例子包括甲基、乙基、異丙基、丁基、異丁基、叔丁基、叔戊基、叔辛基、環(huán)己基、1-甲基環(huán)己基、或1-甲基環(huán)丙基。
烷基各自可以是取代的。烷基的取代基沒有特別限制并且包括，例如，芳基、羥基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、酰胺基、磺酰胺基、磺?；?、磷?；?、?；?、氨基甲酰基、酯基、和鹵素原子。另外，(R4)n和(R4)m可以形成飽和環(huán)。兩個R2優(yōu)選是仲或叔烷基和優(yōu)選具有2-20個碳原子，更優(yōu)選叔烷基，更進一步優(yōu)選叔丁基、叔戊基(t-amyl)、叔戊基(t-pentyl)、或1-甲基環(huán)己基，和進一步更優(yōu)選叔丁基或叔戊基(t-amyl)。
R3表示氫原子或能夠取代到苯環(huán)上的基團。作為能夠取代到苯環(huán)上的基團所列舉的是，例如，鹵素原子如氟、氯、或溴、烷基、芳基、環(huán)烷基、鏈烯基、環(huán)烯基、炔基、氨基、?；?、酰氧基、酰胺基、磺?；被被酋；?、氨基甲?；⑼榱蚧?、磺?；?、烷基磺?；?、磺?；⑶杌?、和雜環(huán)基。R3優(yōu)選是甲基、乙基、異丙基、叔丁基、環(huán)己基、1-甲基環(huán)己基、或2-羥乙基。這些當中，2-羥乙基是更優(yōu)選的。
上述基團可以被取代和取代基的例子是在以上R1中列舉的那些。
在通式(RD1)，兩個R3都是烷基，它們可以是相同的或不同的，并且該烷基中的至少一個是具有1到20個碳原子的烷基和含有羥基作為取代基的烷基或具有1到20個碳原子的和含有作為取代基的能夠在去保護之后形成羥基的基團的烷基，和優(yōu)選是具有3到10個碳原子和含有羥基的烷基或具有3到10個碳原子和含有能夠在去保護之后形成羥基的基團的烷基。具有在上述范圍內(nèi)的碳原子數(shù)的烷基能夠獲得具有1.8-6.0的平均灰度(gradation)的圖像，它適合于診斷。R3更優(yōu)選是具有3到5個碳原子并含有羥基的烷基。R3的具體例子包括3-羥丙基、4-羥基丁基和5-羥基戊基。這些基團可以是被取代且取代基的例子與在R1中列舉的相同。
能夠在去保護之后形成羥基的基團是所謂的受保護的羥基并且容易利用酸和/或熱的作用分裂(或進行去保護)以形成羥基的基團。以下，能夠在去保護之后形成羥基的基團也稱作羥基的前體基團。它的具體例子包括醚基團(例如，甲氧基、叔丁氧基、烯丙氧基、苯甲酰氧基、三苯基甲氧基、三甲基甲硅烷基氧基)、半縮醛基(例如，四氫吡喃基氧基)、酯基(例如，乙酰氧基、苯甲酰氧基、對硝基苯甲?；趸⒓柞Ｑ趸?、三氟乙酰基氧基、新戊酰氧基)、碳酸酯基團(例如，乙氧基羰氧基、苯氧基羰氧基、叔丁氧基羰氧基)、磺酸酯基團(例如，對甲苯磺酰氧基、苯磺酰氧基)、氨基甲酰氧基(例如，苯基氨基甲酰氧基)、硫羰氧基(例如，芐基硫羰氧基)、硝酸酯基、和亞磺?；?例如，2，4-二硝基苯亞磺酰氧基)。
特別優(yōu)選地，R3是含有羥基或它的前體基團的具有3到5個碳原子的伯烷基，例如3-羥丙基。R2和R3的特別優(yōu)選的結(jié)合是，R2是叔烷基(例如叔丁基、叔戊基(t-amyl)、叔戊基(t-pentyl)、1-甲基環(huán)己基)和R3是含有羥基或它的前體基團的具有3到10個碳原子的伯烷基(例如3-羥基丙基、4-羥基丁基)。多個R2或R3可以是相同的或不同的。
R4表示能夠被取代在苯環(huán)上的基團。具體例子包括具有1到25個碳原子的烷基(例如，甲基、乙基、丙基、異丙基、叔丁基、戊基、己基、或環(huán)己基)、鹵代烷基(例如，三氟甲基或全氟辛基)、環(huán)烷基(例如，環(huán)己基或環(huán)戊基)；炔基(例如，炔丙基)、縮水甘油基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、芳基(例如，苯基)、雜環(huán)基(例如，吡啶基、噻唑基、噁唑基、咪唑基、呋喃基、吡咯基、吡嗪(pyradinyl、ピラジニル)、嘧啶基、噠嗪基(pyridadinyl、ピリダジニル)、硒唑基、哌啶基、sulforanyl、哌啶基、吡唑基、或四唑基)、鹵素原子(例如，氯、溴，碘或氟)、烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、戊氧基、環(huán)戊氧基、己氧基、或環(huán)己氧基)、芳氧基(例如，苯氧基)、烷氧基羰基(例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、或丁氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧羰基)、磺酰胺基(例如，甲烷磺酰胺基、乙烷磺酰胺基、丁烷磺酰胺基、己烷磺酰胺基、環(huán)己烷磺酰胺基、苯磺酰胺基)、氨磺酰基(例如，氨基磺?；⒓谆被酋；?、二甲基氨基磺?；?、丁基氨基磺?；?、己基氨基磺?；?、環(huán)己基氨基磺酰基、苯基氨基磺?；?、或2-吡啶基氨基磺?；?、脲烷基團(例如，甲基脲基、乙基脲基、戊基脲基、環(huán)戊基脲基、苯基脲基、或2-吡啶基脲基)、酰基(例如，乙?；⒈；⒍□；?、己酰基、環(huán)己酰基、苯甲?；⒒蜻拎ぜ柞；?pyridinoyl))、氨基甲?；?例如，氨基羰基、甲基氨基羰基、二甲基氨基羰基、丙基氨基羰基、戊基氨基羰基基團、環(huán)己基氨基羰基、苯基氨基羰基、或2-吡啶基氨基羰基)、酰胺基(例如，乙酰胺基、丙酰胺基、丁酰胺基、己酰胺基、或苯甲酰氨基)、磺?；?例如，甲基磺?；?、乙基磺?；?、丁基磺酰基、環(huán)己基磺?；?、苯磺酰基、或2-吡啶基磺?；?、氨基(例如，氨基、乙基氨基、二甲基氨基、丁基氨基、環(huán)戊基氨基、苯胺基、或2-吡啶基氨基)、氰基、硝基、磺基、羧基、羥基、和氨基草?；４送?，這些基團可以進一步被這些基團取代。n和m中的每一個表示0到2的整數(shù)。然而，最優(yōu)選的情況是n和m都是0。此外，R4可以與R2和R3一起形成飽和環(huán)。R4優(yōu)選是氫原子、鹵素原子、或烷基、和更優(yōu)選是氫原子。多個R4可以是相同的或不同的。
在通式(RD2)中，R5是與在R1中相同定義的基團，和R8是與在R4中相同定義的基團。兩個R6都是烷基，它們可以是相同的或不同的，并且不是仲或叔烷基。
R7是氫原子或能夠在苯環(huán)上被取代的基團。能夠在苯環(huán)上被取代的基團的例子包括鹵素原子、如氟、，氯、溴或碘、烷基、芳基、環(huán)烷基、鏈烯基、環(huán)烯基、炔基、氨基、?；?、酰氧基、酰胺基、磺酰基氨基、氨磺?；被柞；?、烷硫基、磺?；?、烷基磺?；?、亞磺?；?、氰基和雜環(huán)基團。R7優(yōu)選是甲基、乙基、異丙基、叔丁基、環(huán)己基、1-甲基環(huán)己基、2-羥乙基、或3-羥丙基；和更優(yōu)選甲基或3-羥丙基。
烷基優(yōu)選是具有1-20個碳原子的取代或未被取代的烷基，并且它的具體例子包括甲基、乙基、丙基和丁基。烷基的取代基沒有特別限制和其例子包括芳基、羥基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、酰胺基、磺酰胺基、磺酰基、磷酰基、酰基、氨基甲酰基、酯基和鹵素原子。
R6可以與(R8)n或(R8)m相結(jié)合以形成飽和環(huán)。R6優(yōu)選是甲基，它是最優(yōu)選的通式(RD2)的化合物。所述化合物是符合在歐洲專利No.1,278,101中描述的通式(S)和通式(T)的那些，具體地說，列舉化合物(1-24)、(1-28)到(1-54)和(1-56)到(1-75)。
通式(RD1)或(RD2)的化合物的具體例子顯示如下但不限于這些。





通式(RD1)或(RD2)的雙酚化合物能夠容易地根據(jù)通常已知的方法來合成。
可與如上所述的還原劑相結(jié)合使用的還原劑的例子描述在美國專利No3,770,448、3,773,512和3,593,863；RD17029和29963；JP-A No.平11-119372和2002-62616中。
包括通式(RD1)的化合物的還原劑優(yōu)選以每mol的銀1×10-2到10mol，和更優(yōu)選1×10-2到1.5mol的量引入。
圖像顏色 描述了由成像材料的熱顯影所獲得的圖像的色調(diào)。
已經(jīng)指出，對于醫(yī)療診斷用的輸出圖像色調(diào)，冷的圖像色調(diào)傾向于導(dǎo)致放射線照片的更準確的診斷觀察。在這里描述的冷的圖像色調(diào)是指純黑色調(diào)或其中黑色圖像被著色成藍色的藍黑色調(diào)。另一方面，暖的圖像色調(diào)指其中黑色圖像著色成棕色的暖黑色調(diào)。
基于Commission Internationale de l’Eclairage(CIE)推薦的方法所定義的表達方式，下面更詳細地描述色調(diào)，以便更加定量地定義。
“較冷的色調(diào)”以及“較暖的色調(diào)”，屬于圖像色調(diào)的術(shù)語，通過使用最小密度Dmin和在1.0的光學(xué)密度D下的色相角hab來表達。通過使用由Commission Internationale de l’Eclairage(CIE)在1976年推薦的L*a*b*色空間(它是從感知上具有大致均勻等級的色空間)的顏色座標a*和b*，由下式獲得色相角hab。
hab＝tan-1(b*/a*) 在本發(fā)明中，hab優(yōu)選是在180度<hab<270度的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在200度<hab<270度的范圍內(nèi)，和最優(yōu)選在220度<hab<260度的范圍內(nèi)。
這一發(fā)現(xiàn)也已公開于JP-A2002-6463中。
順便說一下，正如例如在JP-A No.2000-29164中所述，通常已知的是，具有在視覺上優(yōu)選的色調(diào)的診斷圖像是通過將在接近1.0的光學(xué)密度下在CIE1976(L*u*v*)色空間或(L*a*b*)色空間中的u*和v*或a*和b*調(diào)節(jié)到規(guī)定值來獲得的。
對于按照本發(fā)明的銀鹽光熱照相材料進行了廣泛的研究。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，當在CIE1976(L*u*v*)色空間或(L*a*b*)色空間中，u*或a*用作橫坐標和v*或b*用作縱坐標的圖上形成線性回歸線時，通過將所獲得的線性回歸線調(diào)節(jié)到規(guī)定范圍內(nèi)，使得上述材料顯示出等于或優(yōu)于常規(guī)的濕式銀鹽感光材料的診斷性能?，F(xiàn)在描述本發(fā)明的條件范圍。
(1)優(yōu)選的是，線性回歸線的決定值R2的系數(shù)也是0.998到1.000，該線是通過依據(jù)0.5、1.0和1.5的光學(xué)密度中的每一個和最低光學(xué)密度排列u*和v*來形成的。
上述線性回歸線與縱坐標的交叉點的v*值是-5到+5；和斜率(v*/u*)是0.7到2.5。
(2)線性回歸線的決定值R2的系數(shù)是0.998到1.000，該線是按照這樣的方式形成的測量0.5、1.0和1.5的每一個光學(xué)密度和上述成像材料的最低光學(xué)密度，以及依據(jù)以上光學(xué)密度中的每一種的a*和b*是在兩維坐標中排列的，其中a*用作CIE1976(L*a*b*)色空間的橫坐標，而b*用作它的縱坐標。另外，上述線性回歸線與縱坐標的交叉點的b*值是-5到+5，而斜率(b*/a*)是0.7到2.5。
現(xiàn)在描述形成上述線性回歸線的方法，即測定在CIE1976色空間中的u*和v*、以及a*和b*的方法的一個例子。
通過使用熱顯影裝置，制備包括未曝光部分和具有0.5、1.0和1.5的光學(xué)密度的4-階躍式光楔樣品。按上述方法制備的光楔密度部分的每一個通過使用光譜式精密記時計(例如，由Minolta Co.，Ltd制造的CM-3600d)來測定，然后計算u*和v*或a*和b*。測量條件如下F7光源用作光源，視野角度是10度，和采用透射測定模式。隨后，所測量的u*和v*、或所測量的a*和b*被描繪在圖上，其中u*或a*用作橫坐標，而v*或b*用作縱坐標，和形成線性回歸線，據(jù)此來測定決定值R2的系數(shù)以及交叉點和斜率。
下面將描述能夠獲得具有上述特性的線性回歸線的具體方法。在本發(fā)明中，通過調(diào)節(jié)直接或間接地牽涉在顯影反應(yīng)過程中的還原劑(顯影劑)、鹵化銀晶粒和脂肪族羧酸銀的添加量，有可能優(yōu)化顯影的銀的形狀以獲得所需色調(diào)。例如，當顯影的銀形狀為樹枝狀晶體時，所得圖像傾向于是藍色的，而當形狀為絲狀時，所得圖像傾向于是黃色的。即，有可能考慮顯影的銀的形狀性能來調(diào)節(jié)圖像色調(diào)。
通常，使用圖像調(diào)色劑，如酞酮，或酞嗪與酞酸的結(jié)合物，或酞酸酐。合適的圖像調(diào)色劑的例子已公開于Research Disclosure，Item 17029，和美國專利No4,123,282、3,994,732、3,846,136和4,021,249。
在本發(fā)明中，當使用具有短長度的冷卻區(qū)段的小型激光成像器來進行快速處理時，已證明，銀圖像色調(diào)大大地不同于優(yōu)選的顏色。為了克服此類問題，常規(guī)的調(diào)色劑是不足夠的，因此需要一些化合物，這些化合物能夠在熱顯影時進行圖像方式染色形成以形成染料圖像(例如，無色染料或成色劑化合物)。此類化合物優(yōu)選是能夠在熱顯影時形成具有在360-450nm的波長下的吸收峰的染料圖像的化合物或能夠在熱顯影時形成具有在600-700nm的波長下的吸收峰的染料圖像的化合物。特別優(yōu)選的是含有兩種化合物以獲得優(yōu)異的圖像色調(diào)。因此，優(yōu)選的是通過使用在JP-A No.平11-288057和EP1134611A2中公開的成色劑以及下面詳細描述的無色染料來控制色調(diào)。
無色染料 根據(jù)本發(fā)明的光熱照相材料能夠使用無色染料來控制圖像色調(diào)，如上所述。無色染料用于根據(jù)本發(fā)明的銀鹽光熱照相材料中。作為無色染料，可以使用無色或稍微著色的化合物中的任何一種，當在約80℃到約200℃的溫度下加熱約0.5到約30秒時，該化合物氧化形成有色狀態(tài)。有可能使用被銀離子氧化形成染料的無色染料中的任何一種?？墒褂玫幕衔飳H敏感并且可氧化成有色狀態(tài)。
適合于用于本發(fā)明中的代表性無色染料沒有特別限制。例子包括雙酚無色染料、苯酚無色染料、靛苯胺無色染料、丙烯酸酯化吖嗪無色染料、吩噁嗪無色染料、苯并二嗪無色染料、和吩噻嗪無色染料。此外，其它有用的無色染料是公開在美國專利No3,445,234、3,846,136、3,994,732、4,021,249、4,021,250、4,022,617、4,123,282、4,368,247和4,461,681，以及JP-ANo.昭50-36110、昭59-206831、平5-204087、平11-231460、2002-169249和2002-236334中的那些。
為了將圖像控制到規(guī)定的色調(diào)，優(yōu)選的是各種顏色的無色染料分別地使用或以多種類型結(jié)合使用。在本發(fā)明中，為了使由于高活性還原劑的使用所引起的過度偏黃的色調(diào)最小化，以及使由于微細的鹵化銀晶粒的使用所引起的過度偏紅的圖像(尤其在至少2.0的密度下)最小化，優(yōu)選的是使用轉(zhuǎn)變成青色的無色染料。此外，為了實現(xiàn)色調(diào)的精確調(diào)節(jié)，進一步優(yōu)選的是同時使用黃色無色染料和轉(zhuǎn)變成青色的其它無色染料。
優(yōu)選的是在考慮與已顯影的銀本身的色調(diào)的關(guān)系同時，適當?shù)乜刂扑妙伾拿芏?。在本發(fā)明中，進行染料形成以便具有0.01到0.05的反射密度或0.005到0.50的透射密度，以及對圖像色調(diào)進行調(diào)節(jié)以便形成具有在上述色調(diào)范圍內(nèi)的色調(diào)的圖像。在本發(fā)明中，進行顏色形成，以使得在由無色染料形成的染料圖像的最高吸收波長下，最高密度的總和通常是0.01到0.50，優(yōu)選是0.02到0.30，和最優(yōu)選是0.03到0.10。此外，優(yōu)選的是，圖像被控制在如下所述的優(yōu)選的色調(diào)范圍內(nèi)。
黃色染料形成用無色染料 在本發(fā)明中，特別優(yōu)選用作黃色染料形成用無色染料的是由以下通式(YA)表示的彩色圖像形成劑，其經(jīng)由氧化作用來增加在360和450nm之間的吸收率 通式(YA)
其中R11是取代的或未被取代的烷基；R12是氫原子或取代的或未被取代的烷基或?；疤釛l件是R11和R12不是2-羥基苯基甲基；R13是氫原子或取代的或未被取代的烷基；R14是能夠在苯環(huán)上被取代的基團。
現(xiàn)在描述由通式(YA)表示的化合物。在通式(YA)中，R11是取代的或未被取代的烷基，前提條件是當R12是除氫原子之外的取代基時，R11是烷基。在上述通式(YA)中，由R1表示的烷基優(yōu)選是具有1到30個碳原子的那些，它們可具有取代基。特別優(yōu)選的是甲基、乙基、丁基、辛基、異丙基、叔丁基、叔辛基、叔戊基、仲丁基、環(huán)己基、或1-甲基-環(huán)己基。在三維尺寸上大于異丙基的基團(異丙基、異壬基、叔丁基、叔戊基、叔辛基、環(huán)己基、1-甲基-環(huán)己基或金剛烷基)是優(yōu)選的。這些當中，優(yōu)選的是仲或叔烷基，而叔丁基、叔辛基和叔戊基(它們是叔烷基類)是特別優(yōu)選的。R1可具有的取代基的例子包括鹵素原子、芳基、烷氧基、氨基、?；Ⅴ０坊?、烷硫基、芳硫基、磺酰胺基、酰氧基、氧羰基、氨基甲酰基、氨磺?；⒒酋；?、和磷酰基。
R12表示氫原子、取代的或未被取代的烷基、或酰胺基。由R2表示的烷基優(yōu)選是具有1-30個碳原子的烷基，而該酰胺基優(yōu)選是具有1-30個碳原子的酰胺基。這些當中，對于烷基的描述與對于以上R11的描述相同。
由R2表示的酰胺基可以是未被取代的或具有取代基。其具體例子包括乙酰氨基、烷氧基乙酰胺基和芳基氧基乙?；被?。R12優(yōu)選是氫原子或具有1到24個碳原子的未被取代的基團，和具體列舉的是甲基、異丙基和叔丁基。此外，R1或R2都不是2-羥基苯基甲基。
R13表示氫原子、和取代的或未被取代的烷基。優(yōu)選作為烷基的是具有1到30個碳原子的那些。對于以上烷基的描述與對于R11的描述相同。優(yōu)選作為R13的是氫原子和具有1到24個碳原子的未被取代的烷基，和具體列舉的是甲基、異丙基和叔丁基。優(yōu)選的是，R12或R13表示氫原子。
R14表示能夠被取代到苯環(huán)上的基團，并且表示與對于取代基R4所述的相同的基團，例如在以上通式(RED)中。R14優(yōu)選是具有1到30個碳原子的取代的或未被取代的烷基，以及具有2到30個碳原子的氧羰基。具有1到24個碳原子的烷基是更優(yōu)選的。作為該烷基的取代基可列舉芳基、氨基、烷氧基、氧羰基、酰胺基、酰氧基、亞氨基、和脲基。這些當中，更優(yōu)選的是芳基、氨基、氧羰基和烷氧基。烷基的取代基可以被以上烷基中的任何一個所取代。
在由以上通式(YA)表示的化合物之中，優(yōu)選的化合物是由以下通式(YB)表示的雙酚化合物 通式(YB)
其中，Z表示-S-或-C(R21)(R21')-基團。R21和R21'各自表示氫原子或取代基。由R21和R21'表示的取代基是與在以上通式(RED)中對于R21所列舉的相同取代基。R21和R21'優(yōu)選是氫原子或烷基。
R22、R23、R22’和R23’各自表示取代基。由R22、R23、R22’和R23’表示的取代基是與對于在上述通式(1)中的R2和R3所列舉的相同取代基。R22、R23、R22’和R23’優(yōu)選是烷基、鏈烯基、炔基、芳基、雜環(huán)基，和更優(yōu)選是烷基。在烷基上的取代基是與對于在上述通式(RD1)中的取代基所列舉的相同取代基。R22、R23、R22’和R23’更優(yōu)選是叔烷基如叔丁基、叔氨基、叔辛基和1-甲基-環(huán)己基。
R24和R24’各自表示氫原子或取代基，和該取代基是與對于在上述通式(RD1)中的R4所列舉的相同取代基。
由通式(YA)和(YB)表示的雙酚化合物的例子是，公開在JP-A No.2002-169249段落No
-
中的化合物(II-1)到(II-40)；和EP 1211093的段落No.
中的化合物(ITS-1)～(ITS-12)。
由通式(YA)和(YB)表示的雙酚化合物的具體例子顯示如下。


屬于受阻酚化合物并包括通式(YB)的化合物的由通式(YA)表示的所引入化合物的量，通常相對于每mol的Ag為0.00001到0.01mol，和優(yōu)選0.0005到0.01mol，和更優(yōu)選，0.001到0.008mol。
黃色染料形成用無色染料優(yōu)選是以0.00001到0.2，和更優(yōu)選0.005到0.1的摩爾比率被引入，基于通式(RD1)和(RD2)的還原劑的總量。在本發(fā)明的光熱照相材料中，在由黃色染料形成用的無色染料所形成的染料圖像的最大吸收波長下的最高密度的總和優(yōu)選是0.01到0.50，更優(yōu)選0.02到0.30，和更進一步優(yōu)選0.03到0.10。
青色染料形成用無色染料 除上述黃色染料形成用無色染料之外，青色染料形成用無色染料也可以在光熱照相材料中使用以控制圖像色調(diào)。
下面將描述青色染料形成用無色染料。無色染料優(yōu)選是無色或稍微有色的化合物，它在80-200℃下加熱5-30秒時能夠通過氧化形成顏色。還可以使用能夠在銀離子氧化之后形成染料的任何無色染料。對pH敏感和被氧化成有色形式的化合物。
現(xiàn)在描述青色染料形成用無色染料。在本發(fā)明中，特別優(yōu)選用作青色染料形成用無色染料的是彩色圖像形成劑，它經(jīng)由氧化作用來提高在600和700nm之間的吸收率，并且包括在JP-ANo.昭59-206831中描述的化合物(特別地，λmax在600至700nm范圍內(nèi)的化合物)，由JP-A No.平5-204087的通式(I)至(IV)表示的化合物(具體地，描述在段落
至
中的化合物(1)至(18))，和由JP-A No.平11-231460的通式4-7表示的化合物(具體地，描述在段落
中的化合物No1至79)。
青色染料形成用無色染料的具體例子顯示如下，但是絕不限于這些。


青色形成用無色染料的添加量通常是0.00001-0.05mol/molAg，優(yōu)選0.0005-0.02mol/molAg，和更優(yōu)選0.001-0.01mol/molAg。青色形成用無色染料優(yōu)選是以0.00001-0.2，和更優(yōu)選0.005-0.1的摩爾比率被引入，以通式(1)和(2)的還原劑的總量計。青色染料優(yōu)選形成為使得在由青色形成用無色染料所形成的彩色圖像的最大吸收下的最高密度的總和優(yōu)選是0.01到0.50，更優(yōu)選0.02到0.30，和更進一步優(yōu)選0.03到0.10。
除上述青色形成用無色染料之外，品紅色形成用無色染料或黃色形成用無色染料可用來控制淺色調(diào)。
由上述通式(YA)和(YB)表示的化合物和青色形成用無色染料可以通過用于以上通式(RD1)表示的還原劑相同的方法來添加。它們通過使用任選的方法被引入到液體涂覆組合物中以得到溶液形式、乳化分散體形式、或微細固體顆粒分散體形式，然后引入到感光材料中。
優(yōu)選的是將通式(RD1)和(RD2)、通式(YA)和(YB)表示的化合物，和青色形成用無色染料引入到含有有機銀鹽的感光層中。另一方面，前者可以引入到感光層中，而后者可以引入到與上述感光層相鄰的非感光層中?；蛘?，兩者可以引入到非感光層中。此外，當感光層由多個層組成時，引入可以對于這些層中的每一個進行。
本發(fā)明的光熱照相材料可以在感光層或非感光層中含有粘結(jié)劑。
銀鹽光熱照相材料的合適粘結(jié)劑是透明的或半透明的和通常無色的，并且包括天然聚合物、合成樹脂聚合物和共聚物，以及介質(zhì)以形成膜，例如，描述在JP-A No.2001-330918的段落
中的那些。本發(fā)明的光熱照相材料的感光層的優(yōu)選粘結(jié)劑是聚(乙烯醇縮醛)，和特別優(yōu)選的粘結(jié)劑是聚(乙烯醇縮丁醛)，它們將在下面詳細描述。
聚合物類如纖維素酯，尤其諸如三乙?；w維素、醋酸丁酸纖維素之類的聚合物(它們具有較高的軟化溫度)，優(yōu)選用于上涂層和底涂層，特別用于非感光層如保護層和背面層。順便說一下，如果需要的話，這些粘結(jié)劑能夠以至少兩種類型結(jié)合使用。
該粘結(jié)劑優(yōu)選在共聚合或加成反應(yīng)的階段中至少引入選自-COOM、-SO3M、-OSO3M、-P＝O(OM)2、-O-P＝O(OM)2、-N(R)2、-N+(R)3(其中M是氫原子、堿金屬堿或烴基)、環(huán)氧基、-SH、和-CN中的極性基團。這些當中，-SO3M或-OSO3M是優(yōu)選的。極性基團的含量是在1×10-8到1×10-1，和優(yōu)選1×10-6到1×10-2范圍內(nèi)。
此類粘結(jié)劑是以粘結(jié)劑有效地發(fā)揮的范圍內(nèi)使用的。本領(lǐng)域中技術(shù)人員能夠容易地確定該有效范圍。例如，作為維持脂肪族羧酸銀鹽在感光層中的指標優(yōu)選是15:1到1:2和最優(yōu)選8:1到1:1的粘結(jié)劑與脂肪族羧酸銀鹽的比例范圍。即，在該感光層中粘結(jié)劑量優(yōu)選是1.5-6g/m2，和進一步落入該范圍抑制未曝光部分的密度增加。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，熱轉(zhuǎn)變點溫度(Tg)優(yōu)選是70-105℃。熱轉(zhuǎn)變點溫度(Tg)能夠由差示掃描量熱計測量，其中基線與吸熱峰的斜率的交點被定義為Tg。
該玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)通過使用描述在Brandlap等人著的“PolymerHandbook”，第III-139到III-179頁，1966年(Wiley and Son Co.出版)中的方法來測定。由共聚物樹脂組成的粘結(jié)劑的Tg是以下面公式為基礎(chǔ)獲得的 共聚物的Tg(℃)＝v1Tg1+v2Tg2+…+VnTgn 其中v1、v2、...、vn各自表示在共聚物中單體的質(zhì)量比，以及Tg1、Tg2、...Tgn各自表示均聚物(它通過使用在共聚物中的每一種單體來制備的)的Tg(℃)。以公式為基礎(chǔ)計算的Tg的精度是±5℃。
具有70℃到105℃的Tg的粘結(jié)劑的使用能夠在圖像形成中獲得足夠的最高密度。
在本發(fā)明中可用的粘結(jié)劑具有70℃到105℃的Tg，1,000到1,000,000(優(yōu)選10,000到500,000)的數(shù)均分子量以及50到1,000的聚合度。含有烯屬不飽和單體作為構(gòu)成單元的聚合物和這些單體的共聚物是描述在JP-A No.2001-330918，段落
中的那些。這些當中，它們的優(yōu)選例子包括甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯和苯乙烯。含有乙縮醛基的聚合物化合物在這些聚合物化合物之中是優(yōu)選的。含有乙縮醛基的聚合物化合物當中，具有縮醛結(jié)構(gòu)的聚乙烯醇縮醛是優(yōu)選的，其中包括，例如，已描述在美國專利No2,358,836、3,003,879和2,828,204；和英國專利No.771,155中的聚乙烯醇縮醛。此外，含有乙縮醛基的聚合物化合物也優(yōu)選是由描述在JP-A No.2002-287299，段落[150]中的通式(V)表示的化合物。
可在本發(fā)明中使用通常已知的聚氨酯樹脂，如聚酯-聚氨酯、聚醚-聚氨酯、聚醚-聚酯聚氨酯、聚碳酸酯-聚氨酯、聚酯-聚碳酸酯聚氨酯、或聚己酸內(nèi)酯-聚氨酯。聚氨酯優(yōu)選在分子兩端的每一端上含有至少一個羥基，即總共至少兩個羥基。該羥基與作為硬化劑的多異氰酸酯發(fā)生交聯(lián)而形成網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，因此它優(yōu)選含有盡可能多的羥基。具體地，在分子末端上的羥基具有更強的與硬化劑之間的反應(yīng)性。聚氨酯優(yōu)選在分子的末端含有至少三個(更優(yōu)選至少四個)羥基。當使用聚氨酯時，聚氨酯優(yōu)選具有70℃到105℃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，100-2,000％的斷裂伸長率，和0.5-100M/mm2的斷裂應(yīng)力。
上述聚合物化合物(或聚合物)可以單獨使用或多種聚合物可以共混使用。
上述聚合物優(yōu)選作為主要粘結(jié)劑用于感光膜中。主要粘結(jié)劑指上述聚合物占了在感光層中全部粘結(jié)劑的至少50質(zhì)量％。因此，其它聚合物可以在低于全部粘結(jié)劑的50質(zhì)量％的范圍內(nèi)共混。此類聚合物沒有特別限制，當使用其中主要聚合物可溶于其中的溶劑時。它的優(yōu)選例子包括聚乙酸乙烯酯、丙烯酸類樹脂和聚氨酯樹脂。
感光層可以含有有機凝膠化劑。有機凝膠化劑指一種化合物，當被引入到有機液體中時該化合物為它的體系提供屈服點(yield point)和具有使之消失或降低流動性的作用。
在本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施方案中，感光層的涂覆溶液含有水性分散聚合物膠乳。水性分散聚合物膠乳優(yōu)選占涂覆溶液的全部粘結(jié)劑的至少50質(zhì)量％。聚合物膠乳優(yōu)選占感光層的全部粘結(jié)劑的至少50質(zhì)量％，和更優(yōu)選至少70質(zhì)量％。聚合物膠乳是分散體，其中水不溶性疏水性聚合物以微細顆粒的形式分散在水性分散介質(zhì)中。聚合物能夠以任何形式分散，如被乳化在分散介質(zhì)中，是乳液聚合而成的，以膠束或以在分子中部分地具有親水性結(jié)構(gòu)并且它的分子鏈在分子水平上被分散的聚合物的形式被分散。分散顆粒的平均粒度優(yōu)選是1到50,000nm，和更優(yōu)選5到1,000nm。分散顆粒的粒度分布沒有特別地限制，并且可以是具有寬的分布或單分散分布的顆粒。
可用于本發(fā)明中的聚合物膠乳可以不僅是具有均勻結(jié)構(gòu)的常規(guī)聚合物膠乳還可以是所謂的核/殼型膠乳。在這方面，在Tg上不同的核和殼往往是優(yōu)選的。根據(jù)本發(fā)明的聚合物膠乳的最低成膜溫度(MFT)優(yōu)選是-30℃到90℃，和更優(yōu)選0℃到70℃。可以添加成膜用助劑來控制最低成膜溫度。成膜助劑也被稱作增塑劑和降低該最低成膜溫度的有機化合物(通常為有機溶劑)，如在S.Muroi“Gosei Latex no Kagaku”(Chemistry of Synthetic Latex)Kobunshi Kankokai，1970中所述。
用于聚合物膠乳中的聚合物物質(zhì)包括，例如，丙烯酸類樹脂、醋酸乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、橡膠型樹脂、氯乙烯樹脂、偏二氯乙烯樹脂、聚烯烴樹脂和它們的共聚物。聚合物可以是直鏈或支化聚合物，或可以是交聯(lián)的。聚合物可以是由單一單體組成的均聚物或由至少兩種單體組成的共聚物。共聚物可以是無規(guī)共聚物或嵌段共聚物。聚合物分子量通常是5,000到1,000,000，和優(yōu)選10,000到100,000，以數(shù)均分子量計。在以上范圍內(nèi)的分子量會導(dǎo)致兼?zhèn)錂C械強度和成膜能力。
聚合物膠乳的平衡含水量在25℃和60％RH(相對濕度)下優(yōu)選是0.01％-2％(質(zhì)量)，和更優(yōu)選0.01％-1％(質(zhì)量)。平衡含水量的定義和測量可以參見例如“Kobunshi-Kogaku Koza 14，Kobunshi-Shikenho”(由KobunshiGakkai，Chijin Shoin編)。
聚合物膠乳的具體例子包括在JP-A No.2002-287299，{0173}中描述的那些。這些聚合物可以單獨使用或以它們作為共混物的組合物來使用。作為聚合物物質(zhì)的羧酸組分，如丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯組分，優(yōu)選以0.1-10％(質(zhì)量)的量包含在其中。
親水性聚合物如明膠、聚乙烯醇、甲基纖維素、羥丙基纖維素、羧甲基纖維素、或羥丙基甲基纖維素任選地以不超過全部粘結(jié)劑的50質(zhì)量％的范圍的量被引入。親水性聚合物含量優(yōu)選是不超過感光層的30質(zhì)量％。
在感光層的涂覆溶液的制備中，有機銀鹽和水性分散聚合物膠乳能夠按照任何順序被添加。因此，任一種能夠首先被添加或兩種可以同時添加，但是聚合物膠乳優(yōu)選后添加。
在添加聚合物膠乳之前，添加有機銀鹽，然后優(yōu)選混合還原劑。在過低的溫度下將有機銀鹽和聚合物膠乳的混合物熟化會導(dǎo)致變劣的涂層表面，而在過高的溫度下熟化會導(dǎo)致提高的灰霧。在混合后，涂覆溶液優(yōu)選在30℃到65℃溫度下，更優(yōu)選35℃到60℃，和更進一步優(yōu)選35℃到55℃的溫度下熟化。為了維持該溫度，涂覆溶液的浴可以保持溫熱。
在混合有機銀鹽和水性分散聚合物膠乳之后，感光層的涂覆溶液優(yōu)選在30分鐘到24小時后，更優(yōu)選在60分鐘到10小時后，和更進一步優(yōu)選在120分鐘到10小時后進行涂覆。表述“在混合后”指有機銀鹽和水性分散聚合物膠乳被添加并且添加劑材料已經(jīng)均勻地分散。
交聯(lián)劑 該感光層可以含有能夠經(jīng)由交聯(lián)來連接粘結(jié)劑分子的交聯(lián)劑。眾所周知的是在上述粘結(jié)劑中使用交聯(lián)劑會最大程度減少不均勻的顯影，這歸因于改進該層對于載體的粘合性。另外，它會帶來一些效果在貯存過程中的灰霧減到最少以及在顯影之后印出的銀的產(chǎn)生也減到最少。
作為用于本發(fā)明中的交聯(lián)劑，可以使用已經(jīng)用于鹵化銀感光性照相材料中的各種常規(guī)的交聯(lián)劑，如醛型、環(huán)氧化物型、乙抱亞胺類型、乙烯基砜型、磺酸酯型、丙烯酰基型、碳化二亞胺型、和硅烷化合物型交聯(lián)劑，它們已描述在JP-A No.昭50-96216中。這些當中，異氰酸酯型化合物、硅烷型化合物、環(huán)氧化物型化合物和酸酐是優(yōu)選的。
上述基于異氰酸酯的交聯(lián)劑是具有至少兩個異氰酸酯基的異氰酸酯類和它們的加合物。其的特定例子包括脂肪族異氰酸酯、具有環(huán)基團的脂肪族異氰酸酯、苯二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、聯(lián)苯異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、三苯基甲烷二異氰酸酯、三異氰酸酯類、四異氰酸酯類、以及這些異氰酸酯類的加合物和這些異氰酸酯與二元醇或三元醇的加合物。用作具體例子使用的可以是在JP-A No.昭56-5535的10-12頁中描述的異氰酸酯化合物。
順便說一下，異氰酸酯與多元醇的加合物能夠顯著地改進在各層之間的粘合性并且還能夠顯著地最小化層剝離、圖像錯位、和氣泡形成。此類異氰酸酯能夠引入到銀鹽光熱照相材料的任何部分中。它們能夠引入到例如載體(特別地，當該載體是紙時，它們可以引入到施膠組合物中)和任選的層如感光層、表面保護層、中間層、消暈層和底涂層中，所有這些層位于載體的感光層側(cè)，并且可以引入在這些層中的至少兩層中。
此外，作為可用于本發(fā)明中的基于硫異氰酸酯的交聯(lián)劑，具有與異氰酸酯類相應(yīng)的硫異氰酸酯結(jié)構(gòu)的化合物也可用作在本發(fā)明中使用的硫異氰酸酯型交聯(lián)劑。
在本發(fā)明中交聯(lián)劑的用量是在每mol銀0.001到2.000mol范圍內(nèi)，和優(yōu)選是在0.005至0.500mol范圍內(nèi)。
在本發(fā)明中可引入的異氰酸酯化合物以及硫異氰酸酯化合物優(yōu)選是起交聯(lián)劑作用的那些。然而，有可能通過使用具有0的“v”值的化合物，即，僅具有一個官能團的化合物來獲得所需結(jié)果。
在本發(fā)明中能夠用作交聯(lián)劑的硅烷化合物的例子是由描述在JP-A No.2001-264930中的通式(1)至(3)表示的化合物。
能夠用作交聯(lián)劑的化合物可以是具有至少一個環(huán)氧基的那些。環(huán)氧基的數(shù)量和相應(yīng)分子量沒有限制。優(yōu)選的是，環(huán)氧基作為縮水甘油基經(jīng)由醚鍵或亞胺基鍵被引入到分子中。此外，環(huán)氧化合物可以是單體、低聚物、或聚合物。在分子中環(huán)氧基的數(shù)量通常是約1到約10，和優(yōu)選是2到4。當環(huán)氧化合物是聚合物時，它可以是均聚物或者是共聚物，并且它的數(shù)均分子量Mn最優(yōu)選在約2,000到約20,000的范圍內(nèi)。
可用于本發(fā)明中的酸酐是具有以下所示結(jié)構(gòu)的含有至少一個酸酐基團的化合物 -CO-O-CO-。
對于酸酐基團的數(shù)量、分子量和其它因素，具有至少一個酸酐基團的任何化合物即可，沒有限制。
上述環(huán)氧化合物或酸酐可以單獨使用或相結(jié)合使用。添加量優(yōu)選是1×10-6到1×10-2mol/m2，和更優(yōu)選1×10-5到1×10-3mol/m2。環(huán)氧化合物或酸酐可以引入到感光層側(cè)的任何層中，如感光層、表面保護層、中間層、消暈層或底層?；衔锟梢砸脒@些層當中的一個或多個中。
銀節(jié)約劑 銀節(jié)約劑可以引入到感光層或非感光層中。銀節(jié)約劑指能夠減少為了獲得規(guī)定的銀圖像密度所需要的銀量的化合物。對于減少銀量的功能已經(jīng)假設(shè)了各種工作機理，但是能夠增強顯影的銀的覆蓋能力的化合物是優(yōu)選的。顯影的銀的覆蓋能力指每單位量的銀而言的光學(xué)密度。銀節(jié)約劑可以引入到感光層或非感光層中，或引入到兩層中。銀節(jié)約劑的例子包括肼衍生物化合物、乙烯基化合物、苯酚化合物、萘酚化合物、季化鎓(quaternary oniun)化合物和硅烷化合物。
肼衍生物的具體例子包括描述在美國專利No.5,545,505，1-20欄中的化合物H-1至H-29；描述在美國專利No5,464,738，9-11欄中的化合物1至12；和描述在JP-A No.2001-27790的化合物H1-1至H1-28，H2-1至H2-9，H3-1至H-3-12，H4-1至H4-21，和H-5-1至H-5-5。
乙烯基化合物的具體例子包括描述在美國專利No5,545,515的13-14欄中的化合物CN-01至CN-13；描述在美國專利No.5,635,339的10欄中的化合物HET-01至HET-02；描述在美國專利No.5,654,130的9-10欄中的化合物MA-01至MA-07；描述在美國專利No.5,705,324的9-10欄中的化合物IS-01至IS-04；和描述在JP-A No.2001-125224中的化合物1-1至218-2。
苯酚和萘酚衍生物的具體例子包括描述在JP-A No.2000-267222，段落
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中的化合物A-1至A-89；描述在JP-A No.2003-66558，段落
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中的化合物A-1至A-258。
鎓類化合物的具體例子包括三苯基四唑鎓。
硅烷化合物的具體例子包括具有伯或仲氨基的烷氧基硅烷化合物，例如，描述在JP-A No.2003-5324，段落
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中的化合物A1至A33。
銀省劑的含量相對于每mol的有機銀鹽為1×10-5到1mol，優(yōu)選1×10-4到5×10-1mol。
優(yōu)選的銀省劑的具體例子顯示如下，但不限于這些。

本發(fā)明的光熱照相材料優(yōu)選含有熱效溶劑(thermal solvent)。在本發(fā)明中，熱效溶劑被定義為，與不含熱效溶劑的光熱照相材料相比能夠使含有熱效溶劑的光熱照相材料的熱顯影溫度降低了至少1℃(優(yōu)選至少2℃，和更優(yōu)選至少3℃)的材料。例如，通過在120℃將不含熱效溶劑的光熱照相材料(B)顯影20秒所獲得的密度，能夠通過在119℃或更低的溫度下以與光熱照相材料(B)相同的時間使其中熱效溶劑添加到光熱照相材料(B)的光熱照相材料(A)顯影而獲得也可獲得。
熱效溶劑含有極性基團和優(yōu)選是由下面通式(TS)表示的化合物 通式(TS) (Y)rZ 其中Y是選自烷基、鏈烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基中的基團；Z是羥基、羧基、氨基、酰胺基、磺酰胺基、磷酸酰胺(基)、氰基、酰亞胺基、脲基、亞砜(sulfonoxide)、砜、膦、膦氧化物和含氮的雜環(huán)基；r是1到3的整數(shù)，前提條件是當Z是單價時，r是1和當Z具有2以上的價態(tài)時，r與Z的價數(shù)相同，和當r是2以上時，多個Y可以是相同的或不同的。
Y可以被取代并且取代基的例子與由如上所述的Z表示的相同。在通式(TS)中，Y是直鏈、支化或環(huán)狀烷基(優(yōu)選具有1-40個碳原子，更優(yōu)選1-30個，更進一步優(yōu)選1-25個碳原子，例如，甲基、乙基、丙基、異丙基、仲丁基、叔丁基、叔辛基、正戊基、叔戊基、正十二烷基、正十三烷基、十八烷基、二十烷基、二十二烷基、環(huán)戊基、環(huán)己基)，鏈烯基(優(yōu)選具有2-40個碳原子，更優(yōu)選2-30個，更進一步優(yōu)選2-25個碳原子，例如，乙烯基，烯丙基，2-丁烯基，3-戊烯基)，芳基(優(yōu)選具有6-40個碳原子，更優(yōu)選6-30個碳原子，更進一步優(yōu)選6-25個碳原子，例如，苯基、對甲基苯基、萘基)，雜環(huán)基團(優(yōu)選具有2-20個碳原子，更優(yōu)選2-16個，更進一步優(yōu)選2-12個碳原子，例如，吡啶基、吡唑基、咪唑基、吡咯烷基)。這些取代基可以被取代和這些取代基可以彼此相結(jié)合以形成環(huán)。
Y可以被取代和作為取代基的例子列舉在JP-A No.2004-21068，段落
中描述的那些。對于熱效溶劑的使用而活化顯影的原因，推測是熱效溶劑在接近顯影溫度的一種溫度下熔化并溶解參與顯影的物質(zhì)，使得反應(yīng)在比不含熱效溶劑的情況更低的溫度下可以進行。熱顯影是還原反應(yīng)，其中牽涉到具有較高極性的羧酸或銀離子載體。因此優(yōu)選的是，具有適當極性的反應(yīng)場是由具有極性基團的熱效溶劑所形成。
熱效溶劑的熔點優(yōu)選是50℃到200℃，和更優(yōu)選60℃到150℃。該熔點優(yōu)選是100℃到150℃，特別是在重視對于外部環(huán)境的穩(wěn)定性，如圖像牢度的光熱照相材料中。
熱效溶劑的特定例子包括在JP-A No.2004-21068，段落
中描述的化合物和化合物MF-1至MF-3、MF-6、MF-7、MF-9至MF-12和MF-15至MF-22。
熱效溶劑的含量優(yōu)選是0.01-5.0g/m2，更優(yōu)選0.05-2.5g/m2，和更進一步優(yōu)選0.1-1.5g/m2。熱效溶劑能夠單獨包含或以它們的結(jié)合包含。熱效溶劑能夠以任何方式，如溶液、乳液或固體顆粒分散體被添加到涂覆溶液中。
現(xiàn)已知一種方法，在該方法中熱效溶劑通過使用油如酞酸二丁酯、磷酸三甲苯酚酯、甘油三乙酸酯或酞酸二乙酯，和任選的助溶劑如乙酸乙酯或環(huán)己酮溶解，然后機械分散而獲得乳化分散體。
通過使用球磨機、膠體磨機、振動球磨機、噴射磨機、輥磨機或超聲波均質(zhì)機將粉末狀熱效溶劑分散在適當?shù)娜軇┤缢衼碇苽涔腆w顆粒分散體。保護膠體(例如，聚乙烯醇)，表面活性劑(例如陰離子表面活性劑，如三異丙基萘磺酸鈉)可以用在其中。在上述磨機中，通常使用珠粒如二氧化鋯。Zr等有時以1-1,000ppm范圍內(nèi)的量溶出和混合在分散體中，這取決于分散條件。0.5g以下/每g銀的Zr含量是實際使用可接受的。水性分散體優(yōu)選含有防腐劑(例如，苯并異噻唑啉酮鈉鹽)。
防灰霧劑和圖像穩(wěn)定劑 本發(fā)明的光熱照相材料的任何組成層優(yōu)選含有防灰霧劑以防止在熱顯影之前所引起的灰霧和含有圖像穩(wěn)定劑以防止在熱顯影之后圖像的退化。
下面將描述在本發(fā)明的光熱照相材料中使用的防灰霧劑和圖像穩(wěn)定劑。
因為含有質(zhì)子的雙酚和磺酰胺基酚類主要用作還原劑，會產(chǎn)生能夠奪取氫的反應(yīng)活性物質(zhì)的化合物的引入對于使該還原劑失活是優(yōu)選的。也優(yōu)選的是包括一種化合物，該化合物能夠氧化在未曝光膠片或圖像的貯存過程中產(chǎn)生的銀原子或金屬銀(銀簇)。具有該功能的化合物的具體例子包括雙咪唑基化合物和碘鎓化合物。上述雙咪唑基化合物或碘鎓化合物優(yōu)選以0.001-0.1mol/m2和更優(yōu)選0.005-0.05mol/m2的量引入。
當用于本發(fā)明中的還原劑是含有芳族羥基的化合物(特別是雙酚)時，優(yōu)選使用能夠與該基團形成氫鍵的非還原性化合物，例如描述在JP-A No.2002-90937，段落
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中的化合物(II-1)至(II-40)。
作為反應(yīng)活性物質(zhì)，能夠產(chǎn)生鹵素原子的許多化合物已知是防灰霧劑或圖像穩(wěn)定劑。產(chǎn)生活性鹵素原子的化合物的具體例子包括描述在JP-A No.2002-287299，段落
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中的通式(9)化合物。這些化合物優(yōu)選是以在鹵化銀形成的印出銀的增加可被忽視的范圍內(nèi)的用量被引入。因此，該化合物與不形成活性鹵素基團的化合物的比率優(yōu)選是至多150％，更優(yōu)選至多100％。產(chǎn)生活性鹵素原子的化合物的具體例子包括描述在JP-A No.2002-169249的段落
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中的化合物(III-1)至(III-23)；描述在JP-A No.2003-50441的段落
到
中的化合物1-1a至1-1o，和1-2a至1-2o和描述在段落
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中的化合物2a至2z，2aa至2ll和2-1a至2-1f；以及描述在JP-A No.2003-91054的段落
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中的化合物4-1至4-32和描述在段落
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中的化合物5-1至5-10。
可在本發(fā)明中使用的優(yōu)選的防灰霧劑的例子包括描述在JP-A No.平8-314059的段落
中的化合物a到j(luò)，描述在JP-A No.平7-209797的段落
中的硫代磺酸酯a到k，描述在JP-ANo.昭55-140833的14頁中的化合物(1)到(44)，描述在JP-A No.2001-13627的段落
中的化合物(I-1)至(I-6)和描述在段落
中的化合物(C-1)至(C-3)，描述在JP-A No.2002-90937的
段落中的化合物(III-1)至(III-108)，描述在JP-A No.平6-208192的段落
中的乙烯基砜和/或β-鹵代砜化合物VS-1至VS-7和HS-1至HS-5，描述在JP-A No.2000-330235中的磺?；讲⑷蚧衔颣S-1至KS-8，描述在JP-A No.2000-515995(專利申請用的PCT國際出版物的已公布的日本語翻譯本)中的取代丙烯腈化合物PR-01至PR-08以及描述在JP-A No.2002-207273的段落
至
中的化合物(1)-1至(1)-132。上述防灰霧劑的使用量，相對于每mol銀通常是至少0.001mol，優(yōu)選0.01-5mol，和更優(yōu)選0.02-0.6mol。
與上述化合物不同的通常已知的化合物可以包含在本發(fā)明的光熱照相材料中，這些化合物可以是能夠形成反應(yīng)活性物質(zhì)的化合物或顯示出不同的防灰霧機理的化合物。此類化合物的例子包括已描述在美國專利No.3,589,903、4,546,075和4,452,885中；JP-A No.昭59-57234中；美國專利3,874,946和4,756,999中；JP-A No.昭59-57234、平9-188328和9-90550中的那些。此外，其它防灰霧劑包括，例如，描述在美國專利No.5,028,523和歐洲專利No.600,587、605,981和631,176中的化合物。
調(diào)色劑 本發(fā)明的光熱照相材料在熱顯影時形成照相圖像并且優(yōu)選以在有機粘結(jié)劑基質(zhì)中的分散體形式含有圖像調(diào)色劑以控制圖像顏色。
合適的圖像調(diào)色劑的例子描述在RD17029中、美國專利No.4,123,282、3,994,732和4,021,249中。具體例子包括酰亞胺(例如琥珀酰亞胺、酞酰亞胺、萘二甲酰亞胺、N-羥基-1，8-萘二甲酰亞胺)，硫醇(例如，3-巰基-1，2，4-三唑)、酞嗪酮(phthalazinone)衍生物和它們的金屬鹽(例如，酞嗪酮、4-(1-萘基)酞嗪酮、6-氯酞嗪酮、5，7-二甲氧基酞嗪酮、2，3-二羥基-1，4-酞嗪二酮)、酞嗪和酞酸的結(jié)合物(例如，酞酸、4-甲基酞酸、4-硝基酞酸、四氯酞酸)；酞嗪與選自馬來酸酐、酞酸、2，3-萘二羧酸和鄰-亞苯基酸衍生物和它們的酸酐(例如，酞酸、4-甲基酞酸、4-硝基酞酸、四氯酸酐)中的化合物的結(jié)合物。這些當中，特別優(yōu)選的圖像調(diào)色劑是酞酮或酞嗪，與酞酸或酞酸酐的結(jié)合物。
輻射吸收化合物 現(xiàn)有技術(shù)中已知的各種類型的染料和顏料可以用作在感光層側(cè)設(shè)置的層中或在與感光層相反側(cè)設(shè)置的層中所使用的輻射吸收化合物。此類染料和顏料包括描述在染料索引(Color Index)中的那些，例如吡唑啉酮偶氮染料(pyrazoloazole dyes)、蒽醌染料、偶氮染料、偶氮甲堿染料、氧雜菁染料、羰花青染料、苯乙烯基染料、三苯甲烷染料、靛苯胺染料、靛酚染料、有機顏料如酞菁和無機顏料。
用于本發(fā)明中的優(yōu)選染料的例子包括蒽醌染料(例如，描述在JP-A No.平5-341441中的化合物1-9、描述在JP-A No.平5-165147中的化合物3-6至3-18和3-23至3-38)，偶氮甲堿染料(例如，描述在JP-ANo.平5-289227中的化合物17-47)，靛苯胺染料(例如，描述在JP-A No.平5-289227中的化合物11-19、描述在JP-A No.平5-341441中的化合物47、描述在JP-A No.5-165147中的化合物2-10到2-11)，和偶氮染料(例如，描述在JP-A No.平5-341441中的化合物10-16)。
當本發(fā)明的光熱照相材料用作采用紅外光的圖像記錄材料時，例如，含有硫代吡喃鎓(thiopyrylium)核的角鯊烯鎓(squarilium，スクアリリウム)染料和含有吡喃鎓核的角鯊烯鎓染料，與角鯊烯鎓染料類似的硫代吡喃鎓鄰二羥基環(huán)戊烯三酮鎓(thiopyryliumchroconium)染料，以及吡喃鎓鄰二羥基環(huán)戊烯三酮鎓(pyryliumchroconium)染料是優(yōu)選的。含有角鯊烯鎓核的化合物指在分子結(jié)構(gòu)中含有1-環(huán)丁烯-羥基-4-酮的化合物，和含有鄰二羥基環(huán)戊烯三酮鎓核的化合物指在分子結(jié)構(gòu)中含有含有1-環(huán)戊烯-2-羥基-4，5-二酮的化合物，其中該羥基可以離解。此類染料的優(yōu)選例子包括已描述在JP-A No.8-201959中的化合物，已描述在PCT國際專利申請出版物No.9-509503中的日語翻譯本中的化合物，和描述在JP-A No.2003-195450中的化合物AD-1至AD-55。
當本發(fā)明的光熱照相材料用作采用藍光的圖像記錄材料時，優(yōu)選使用已描述在JP-A No.2003-215751中的化合物No.1-93和已描述在JP-A No.2005-157245中的Dye-1至Dye-51。
如上所述的這些染料或化合物能夠以任何方式引入，例如以溶液、乳液或固體顆粒分散體的形式，或以被媒染劑所媒染的狀態(tài)。這些染料或化合物的用量取決于目標吸收量，但是優(yōu)選在1μg-1g每平方米光熱照相材料的范圍內(nèi)。
在本發(fā)明的光熱照相材料中，優(yōu)選的是輻射吸收化合物(染料或顏料)包含在設(shè)置在載體的感光層側(cè)的層中，例如底層(sublayer)、感光層、中間層或保護層(優(yōu)選，感光層)并且設(shè)定為在如上所述的全部層的吸收波長下具有0.40到0.90(優(yōu)選，0.50到0.80)的吸收率，以及輻射吸收化合物(染料或顏料)包含在設(shè)置在載體的與感光層相反側(cè)的層中，例如抗靜電的底層(sublayer)，消暈層或保護層并且設(shè)定為在如上所述的全部層的吸收波長下具有0.30-1.20，和優(yōu)選0.40-1.00的吸收率。落在如上所述的范圍內(nèi)的吸收率能夠改進隨圖像質(zhì)量或濕度變化一起所引起的密度變化，即使當在曝光系統(tǒng)中使用樹脂透鏡時。
載體 用于本發(fā)明的光熱照相成像材料中的合適載體包括各種聚合物材料、玻璃、羊毛布料、棉布、紙、和金屬(如鋁)。柔性片材或可轉(zhuǎn)化成卷(roll-convertible)的片材是優(yōu)選的。用于本發(fā)明中的優(yōu)選的載體的例子包括塑料樹脂膜如纖維素乙酸酯膜、聚酯膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰胺膜、聚酰亞胺膜、三乙酸纖維素膜和聚碳酸酯膜，而雙軸拉伸的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜是特別優(yōu)選的。載體厚度是50-300μm，和優(yōu)選70-180μm。
為了改進光熱照相成像材料的帶電性能，金屬氧化物和/或?qū)щ娀衔锶鐚?dǎo)電聚合物可以引入到構(gòu)成層中。這些化合物可以引入任何層中和優(yōu)選引入到底層、背面層、在感光層與底層中間的中間層。導(dǎo)電化合物已描述在美國專利No.5,244,773，第14-20欄中。特別地，背面層側(cè)的表面保護層優(yōu)選含有導(dǎo)電性金屬氧化物。
導(dǎo)電金屬氧化物是晶體金屬氧化物顆粒，和含有氧缺陷的晶體金屬氧化物顆粒或含有能夠形成金屬氧化物的給體的少量雜原子的晶體金屬氧化物顆粒，兩者顯示出增強的導(dǎo)電性并且是優(yōu)選的。不使鹵化銀乳液產(chǎn)生灰霧的后一種是優(yōu)選的。金屬氧化物的例子包括ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO3和V2O5和它們的結(jié)合氧化物。這些當中，ZnO、TiO2和SnO2是優(yōu)選的。作為含雜原子的實例，Al或In在ZnO中的添加，Sb、Nb、P或鹵素元素在SnO2中的添加，以及Nb或Ta在TiO2中的添加是有效的。雜原子優(yōu)選以0.01-30mol％，和更優(yōu)選0.1-10mol％的量添加。為了改進顆粒分散性和透明度，硅化合物可以在顆粒制備的過程中添加。
金屬氧化物顆粒具有電導(dǎo)性，具有107Ω·cm或更低和優(yōu)選105Ω·cm或更低的體積電阻。上述金屬氧化物可以附著于其它晶體金屬氧化物顆?；蚶w維材料(如二氧化鈦)上，如在JP-A No.昭56-143431、昭56-120519和昭58-62647和JP-BNo.昭50-6235中所述。
可用于本發(fā)明中的顆粒尺寸優(yōu)選是不超過1μm，而不超過0.5μm的粒度會導(dǎo)致分散之后增強的穩(wěn)定性，使得它更容易使用。0.3μm或更低的導(dǎo)電顆粒的使用使得能夠形成透明的光熱照相材料。針形或纖維狀導(dǎo)電金屬氧化物優(yōu)選具有30μm或更低的長度和1μm或更低的直徑，和更優(yōu)選10μm或更低的長度和0.3μm或更低的直徑，其中長度與直徑的比率優(yōu)選是3以上。SnO2也可從Ishihara Sangyo Co.，Ltd商購，其中包括SNS10M、SN-100P、SN-100D和FSS10M。
構(gòu)成層 本發(fā)明的光熱照相材料在其載體上具備至少一個感光層作為感光層。可以在載體上僅設(shè)置感光層，但是優(yōu)選的是在感光層上形成至少一個非感光層。例如，保護層可以設(shè)置在感光層上以保護該感光層。此外，為了防止在光熱照相材料之間的粘連或光熱照相材料與輥的粘附，可以在載體的相對側(cè)設(shè)置背涂層。
用于保護層或背涂層中的粘結(jié)劑能夠優(yōu)選地選自具有比在感光層所用的粘結(jié)劑更高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)和具有耐磨性或耐變形性的聚合物，例如乙酸纖維素，丁酸纖維素或丙酸纖維素。
為了控制灰度，可以在載體的一側(cè)設(shè)置至少兩個感光層或可以在載體的兩側(cè)各設(shè)置至少一個感光層。
當使用滑移涂覆器來涂覆該感光層側(cè)時，優(yōu)選通過同時多層涂覆提供底涂層(滑移層)、感光層和在感光層上的保護層。優(yōu)選通過同時涂覆使滑移層和BC層設(shè)置在BC層側(cè)。感光層、在該感光層上的保護層和BC層均可以由多個層構(gòu)成?；茖油ǔＳ珊杏袡C銀鹽和粘結(jié)劑的層或含有粘結(jié)劑的層薄薄地形成。當感光層側(cè)的滑移層的干燥厚度和感光層的干燥厚度分別地表示為SA和SB時，優(yōu)選SA/SB的比率是0.005到0.10，更優(yōu)選0.01到0.07，和更進一步優(yōu)選0.02到0.06。感光層側(cè)的滑移層的干燥厚度SA優(yōu)選是0.1到1.0μm，更優(yōu)選0.2到0.7μm，和更進一步優(yōu)選0.3到0.6μm。Sc/Sd的比率，其中Sc是BC層側(cè)的滑移層的干燥厚度和Sd是BC層的干燥厚度，優(yōu)選是0.01到0.30，更優(yōu)選0.05到0.25，和更進一步優(yōu)選0.08到0.20。BC層側(cè)的滑移層的干燥厚度(Sd)優(yōu)選是0.1到0.8μm，更優(yōu)選0.15到0.7μm，和更進一步優(yōu)選0.2到0.5μm。
作為滑移層的粘結(jié)劑優(yōu)選使用聚乙烯醇縮醛樹脂、丙烯酸類樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂和纖維素酯。
當同時涂覆滑移層和感光層時，在不少于25m/min的感光層涂覆速度下涂層不均勻度會得到顯著地改進，并且該改進在不少于30m/min的涂覆速度下更顯著，和在不少于35m/min的涂覆速度下更進一步顯著。更大的涂覆速度對于生產(chǎn)率而言是優(yōu)選的，但是涂覆速度通常不超過300m/min，而不超過200m/min的涂覆速度是保持生產(chǎn)率所優(yōu)選的?；茖涌梢允撬泽w系或使用有機溶劑的溶劑體系。水性體系是水性感光層所優(yōu)選的，和有機溶劑體系是有機溶劑體系的感光層所優(yōu)選的，以進行同時的多層涂覆。當在水性體系中使用丙烯酸類樹脂或聚氨酯時，優(yōu)選的是使用水溶性的丙烯酸類樹脂或聚氨酯或以水可分散性膠乳的形式。
優(yōu)選按照以下制備本發(fā)明的光熱照相材料。如上所述的各構(gòu)成層的材料被溶解或分散在溶劑中制備涂覆組合物。所形成的涂覆組合物進行同時多層涂覆，和隨后，所形成的涂層進行熱處理。在這里描述的“同時多層涂覆”指下述意思。制備各構(gòu)成層(例如，感光層和保護層)的涂覆組合物，并且當所形成的涂覆組合物被施涂到載體上時，涂覆組合物不是按照它們分別地施涂和隨后干燥以及該操作重復(fù)進行的方式被施涂到載體上，而是同時被施涂到載體上和隨后干燥。即，在下層的總?cè)軇┑臍埩袅窟_到70wt％之前，施涂上層。
用于各構(gòu)成層的同時多層涂覆方法沒有特別限制。例如使用現(xiàn)有技術(shù)中已知的方法，如刮棒涂布方法、幕涂方法、浸涂方法、氣刀涂覆方法、進料斗涂覆法、和擠出涂覆法。這些當中，更優(yōu)選的是稱作擠出涂覆方法的預(yù)稱量型涂覆系統(tǒng)。擠出涂覆方法適合于準確涂覆和有機溶劑涂覆，因為在滑移涂覆體系中發(fā)生的在滑移表面上的揮發(fā)不發(fā)生。對于在感光層側(cè)上的涂層已經(jīng)描述了涂覆方法。然而，背面層和底涂層按照與上述方法相同的方式被施涂到載體上。
在本發(fā)明中，銀覆蓋率優(yōu)選是0.3-1.5g/m2，和更優(yōu)選是0.5-1.5g/m2，以便用于醫(yī)學(xué)成像中。得自鹵化銀的銀覆蓋比率優(yōu)選是總銀的2％到18％，和更優(yōu)選是5％到15％。此外，在本發(fā)明中，具有至少0.01μm的粒徑(球等效粒徑)的涂覆的鹵化銀晶粒的數(shù)量優(yōu)選是1×1014到1×1018個晶粒/m2，和更優(yōu)選是1×1015到1×1017個。此外，本發(fā)明的脂肪族羧酸銀鹽的涂覆重量是10-17到10-14g/每個具有至少0.01μm的粒徑(球等效粒徑)的鹵化銀晶粒，和更優(yōu)選是10-16到10-15g。當在上述范圍內(nèi)的條件下進行涂覆時，從對于一定的銀覆蓋率而言的最高光學(xué)銀圖像密度，即覆蓋能力和銀圖像色調(diào)來看，獲得了所希望的結(jié)果。
本發(fā)明的光熱照相材料當進行熱顯影時，含有溶劑，優(yōu)選含量為5-1,000mg/m2，和更優(yōu)選100-500mg/m2，因此導(dǎo)致增強的敏感性，減少的灰霧和增強的最高密度。此類溶劑的例子例如已描述在JP-ANo.2001-264936，段落
中但不限于這些。溶劑可以單獨使用或相結(jié)合使用。
在光熱照相材料中的溶劑含量能夠通過調(diào)節(jié)在涂覆之后的干燥階段中的條件，例如溫度條件來加以控制。溶劑含量能夠通過在適合于所含溶劑的檢測的條件下由氣相色譜法測定。
包裝材料 現(xiàn)描述用于本發(fā)明中的片形記錄材料的包裝方法和片形記錄材料的包裝體。
在本發(fā)明中，裁切和包裝的過程優(yōu)選在處于美國標準(U.S.Standard)209d類型的10,000或更低的空氣潔凈度之下的環(huán)境中進行，因此在熱加工過程中在熱加工器中的內(nèi)部沾污得到顯著地改善。其中的原因不清楚，但推測是如下。從裁切和包裝過程中攜帶進去并粘附于光熱照相材料上的碎屑或塵粒隨后粘附于傳輸元件如在熱處理器中的輥上并積累在其中，從而引起內(nèi)部沾污。
美國標準209d類型表示凈化室的標準，和處于美國標準209d類型的10,000或更低的空氣潔凈度之下的環(huán)境是，在該環(huán)境中具有0.5μm或更大的粒度的顆粒的累計數(shù)不大于10,000個/ft3(＝28,317cm3)和具有大于0.5μm的粒度的顆粒的累計數(shù)不大于65個顆粒/ft3。
符合以上條件的環(huán)境是在凈化室中形成的，但是本發(fā)明的方法不局限于在該凈化室中的實施方案。不一定要求將片形記錄材料的裁切和包裝所用的整個裝置放置在凈化室中進行作業(yè)。例如，將空氣流吹到片形記錄材料上的機構(gòu)設(shè)置在裁切包裝的裝置之中，并且進行作業(yè)，同時將環(huán)境維持在美國標準209d類型的10,000以下的空氣潔凈度。
在裁切步驟和包裝步驟當中的至少一個步驟中需要將環(huán)境維持在美國標準209d類型的10,000以下的空氣潔凈度。優(yōu)選，該裁切步驟是在處于美國標準209d類型的10,000以下的空氣潔凈度之下的環(huán)境中進行的，和更優(yōu)選，裁切步驟和包裝步驟兩者各自在處于美國標準209d類型的10,000以下的空氣潔凈度之下的環(huán)境中進行。
本發(fā)明的裁切步驟是指將片形記錄材料裁切成規(guī)定尺寸或裁切成常用尺寸(例如，A4尺寸或34.5×43.0cm的尺寸)的步驟。裁切的次數(shù)沒有限制，它可以是單次操作或多次操作。裁切可以全部一起在縱向上進行以形成條形記錄材料和然后在橫向中裁切成規(guī)定尺寸。用于裁切操作的裁切器或裁切設(shè)備沒有特別限制。
當在圖像記錄裝置中安放片形記錄材料時，在本發(fā)明中的包裝步驟是指包括了包裝該片形記錄材料的步驟的過程。當一定載量的片形記錄材料被安放在圖像記錄裝置中時，該包裝步驟是包括了包裝該片形記錄材料的步驟的一個過程。因此，它指包裝片形記錄材料或一定載量的片形記錄材料的步驟。不具體限制包裝機構(gòu)或包裝設(shè)備。
在從裁切步驟到包裝步驟的過程中的空氣潔凈度不一定是美國標準209d類型的10,000以下，但優(yōu)選的是將該環(huán)境維持在美國標準209d類型的10,000以下的空氣潔凈度。在一直到裁切所制造的片形記錄材料為止的過程中，類似的條件是優(yōu)選的。
在裁切步驟中的空氣潔凈度優(yōu)選屬于在根據(jù)美國標準209d的測量方法中的7,000以下的類型，更優(yōu)選4,000以下，更進一步優(yōu)選1,000以下，而500以下是特別優(yōu)選的。在包裝步驟中的空氣潔凈度優(yōu)選屬于在根據(jù)美國標準209d的測量方法中的7,000以下的類型，更優(yōu)選4,000以下，更進一步優(yōu)選1,000以下，而500以下是特別優(yōu)選的。
在本發(fā)明中，用于包裝記錄材料的片材的包裝材料選自幾乎不產(chǎn)生粉塵的材料。當由于包裝材料所引起的粉塵使得難以保持空氣潔凈度在美國標準209d類型的10,000以下的水平時，優(yōu)選的是不選擇此類包裝材料。
為了防止在貯存過程中隨時間的密度變化或灰霧產(chǎn)生或為了減少卷曲或輥-定形卷曲，優(yōu)選用具有低的氧滲透性和/或透濕性的包裝材料來包裝本發(fā)明的光熱照相材料。
氧滲透性優(yōu)選是不超過50ml/atm·m2·天，更優(yōu)選不超過10ml/atm·m2·天，和更進一步優(yōu)選不超過1.0ml/atm·m2·天。
透濕性優(yōu)選是不超過0.01g/m2·40℃·90％RH·天(根據(jù)JISZ0208，CapMethod)，更優(yōu)選不超過0.005g/m2·40℃·90％RH·天，和更進一步優(yōu)選不超過0.001g/m2·40℃·90％RH·天。
包裝材料的具體例子包括已描述在JP-A No.平8-254793、2000-206653、2000-235241、2002-062625、2003-015261、2003-057790、2003-084397、2003-098648、2003-098635、2003-107635、2003-131337、2003-146330、2003-226439和2003-228152中的那些。在包裝材料之內(nèi)的自由體積優(yōu)選是0.01到10％，和更優(yōu)選0.02到5％，和也優(yōu)選的是用至少80％，優(yōu)選至少90％的氮氣分壓來將氮氣填充在包裝材料內(nèi)部。在包裝內(nèi)部的相對濕度優(yōu)選是10％到60％，和更優(yōu)選40％到55％。
用于本發(fā)明中的激光成像器(熱顯影裝置)是由以下構(gòu)成以片形照相材料托盤為典型的片形照相材料供應(yīng)設(shè)備段，激光圖像記錄設(shè)備段，將均勻和穩(wěn)定的熱供應(yīng)到整個光熱照相材料上的熱顯影設(shè)備段，以及從光熱照相片材供應(yīng)段排出已經(jīng)經(jīng)由激光記錄熱顯影的光熱照相材料的輸送設(shè)備段。
在根據(jù)本發(fā)明的激光成像器中，冷卻段的通路長度與熱顯影段的通路長度的比率是1.5或更低，優(yōu)選0.1到1.2，更優(yōu)選0.2到1.0。熱顯影段的通路長度是指在顯影溫度下加熱的情況下輸送光熱照相材料的距離。冷卻段的通路長度是指從熱顯影段的末端(在加熱結(jié)束之后)到激光成像器的出口(或從激光成像器的不透光的區(qū)域直到在安裝激光成像器的房間的環(huán)境光條件下排出光熱照相材料為止)的輸送已經(jīng)熱顯影的光熱照相材料的距離。
該激光成像器優(yōu)選具有使得光熱照相材料的與感光層相反側(cè)(下面也表示為非感光側(cè))的冷卻速率大于感光層側(cè)(以下也表示為感光側(cè))的冷卻速率的功能。
在本發(fā)明中，非感光側(cè)與感光側(cè)的冷卻速率比值優(yōu)選是至少1.1，更優(yōu)選1.1到5.0，和更進一步優(yōu)選1.5到3.0。提高在非感光側(cè)上的冷卻速率的方式?jīng)]有具體限制，但是，優(yōu)選的實施方案是讓非感光側(cè)與金屬板、金屬輥、非織造物或植絨輥直接接觸。更優(yōu)選的是將吸熱器或熱管與上述元件相結(jié)合使用，以便將積累在這些元件中的熱量釋放到外部。
具有短的冷卻段(它具有的冷卻段的通路長度與熱顯影段的通路長度的比率為1.5以下)的激光成像器使得能夠提供小型、較高速的激光成像器。
從離開熱顯影段直到從激光成像器的出口排出為止的冷卻時間優(yōu)選是0到25秒，更優(yōu)選0到15秒，和更進一步優(yōu)選5到15秒。在離開熱顯影段之后和在被排出之前該光熱照相材料所通過的通路長度是任選的，優(yōu)選1到60cm，更優(yōu)選5到50cm，和更進一步優(yōu)選5到40cm。
根據(jù)本發(fā)明的光熱照相材料可以按照任何方法來熱顯影，但是通常來說，以成像方式曝光的光熱照相材料進行顯影，同時在較高溫度下加熱。顯影溫度優(yōu)選是80到250℃，更優(yōu)選100到140℃，和更進一步優(yōu)選110到130℃。顯影時間優(yōu)選是1到10秒，更優(yōu)選2到10秒，和更進一步優(yōu)選3到10秒。在上述范圍內(nèi)的顯影溫度能夠在短的時間中獲得足夠高的圖像密度以及能夠防止因粘結(jié)劑的熔化所導(dǎo)致的對于可輸送性或處理機的不利影響。加熱引起在有機銀鹽(它起氧化劑的作用)和還原劑之間的氧化還原反應(yīng)，形成銀圖像。這一反應(yīng)在沒有供應(yīng)任何處理溶液如水的情況下進行。熱處理時間(從在托盤段中拾取光熱照相材料到它的排出為止的時間)優(yōu)選是不超過60秒，和更優(yōu)選10到50秒，因此能夠應(yīng)付緊急情況的診斷。
本發(fā)明的熱顯影系統(tǒng)能夠使用圓筒式加熱器或板式加熱器，但是板式加熱器系統(tǒng)是優(yōu)選的。板式加熱器系統(tǒng)的優(yōu)選的熱顯影系統(tǒng)是已描述在JP-ANo.平11-133572中的方法，即激光成像器，其中已經(jīng)曝光以在鹵化銀晶粒上形成潛像的光熱照相材料與在熱顯影段中的加熱設(shè)備接觸而獲得可見圖像。加熱設(shè)備由板式加熱器組成并且多個壓力輥面向和沿著該板式加熱器的表面排列。光熱照相材料在板式加熱器和壓力輥之間通過以進行熱顯影。
在曝光段、熱顯影段和冷卻段之中的每一個段中的輸送速度(或線速度)是任選的，但是較高的速度是快速處理或生產(chǎn)量的提高所優(yōu)選的。輸送速度優(yōu)選是30-200mm/秒，更優(yōu)選30-150mm/秒，和更進一步優(yōu)選30-60mm/秒。在這一范圍內(nèi)的輸送速度能夠改進由于熱顯影所引起的密度不均勻度并且能夠減少處理時間，這適合于緊急的醫(yī)療診斷。
下面參考附圖來描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施方案的示例性熱顯影裝置。
圖1是說明根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方案的熱顯影裝置的主要部分的側(cè)視圖。
在曝光段和熱顯影段之間的距離優(yōu)選是在0-50cm范圍內(nèi)以便與曝光同時地進行熱顯影，即在同時曝光膠片的未曝光部分的同時，開始該片材的曝光部分的顯影。因此，曝光和顯影的處理時間大大縮短。該距離更優(yōu)選是3到40cm，和更進一步優(yōu)選是5到30cm。
曝光段是指來自光源的光使光熱照相材料曝光的區(qū)域，熱顯影段是指光熱照相材料被加熱進行熱顯影的區(qū)域。
在圖1中，光熱照相材料曝光于激光(箭頭的頂部)的以L表示的部分是曝光段，和從光熱照相片材容納段45輸出的光熱照相材料與板50接觸的部分是顯影段。
對儀器、設(shè)備或裝置進行的加熱能夠使用典型的加熱設(shè)備，如加熱板、熨斗、熱輥和采用碳或白鈦的熱發(fā)生器。就熱效率和可工作性而言，在使保護層側(cè)與加熱裝置接觸的情況下，加熱在感光層上有保護層的光熱照相材料以實現(xiàn)均勻加熱是優(yōu)選的。
在圖1中所示的熱顯影裝置40中，包括EC-面(它具有在由PET等組成的片形載體的一側(cè)上的光熱照相材料涂層)和在與EC-面相反側(cè)上的BC-面的膠片F(xiàn)曝光于來自光掃描曝光段55的激光而形成潛像，同時在副掃描方向上傳輸。隨后，膠片F(xiàn)從BC-面?zhèn)燃訜嵋允節(jié)撓耧@影而形成可見圖像，然后，經(jīng)由具有彎曲部分的傳輸路線被輸送到該裝置的上部分并排出。
如圖1中所示，圖像形成裝置40具有包含未曝光膠片(F)備料的膠片包含段45(安裝在裝置框架40a的底部附近)、拾取在該膠片包含托盤段45中膠片F(xiàn)的最上面張的拾取輥46、用于從拾取輥46傳遞膠片F(xiàn)到曲形導(dǎo)軌48(它以曲形排列以便引導(dǎo)運輸輥對47傳遞的膠片F(xiàn)并在幾乎相反的方向上輸送膠片F(xiàn))的輸送輥對47、將膠片F(xiàn)從曲形導(dǎo)軌48傳遞的運輸輥對49a和49b、以及通過基于圖像數(shù)據(jù)在運輸輥49a和49b之間的膠片F(xiàn)上進行光掃描來曝光激光L以便在EC面上形成潛像的光掃描曝光段55。
該圖像形成裝置40進一步具有用于通過從BC-面?zhèn)燃訜崮z片F(xiàn)將具有已形成了潛像的已曝光膠片F(xiàn)的溫度提高到預(yù)定的顯影溫度的溫度提升段50，用于加熱該已加熱膠片F(xiàn)以便將膠片F(xiàn)維持在規(guī)定溫度的溫度維持段53，用于BC-面?zhèn)壤鋮s已加熱膠片F(xiàn)的冷卻段54，排列在冷卻段54的出口側(cè)以測量膠片密度的密度計56，用于從密度計排出膠片的運輸輥對57，以及用于堆疊由運輸輥對57排出的膠片F(xiàn)并安裝在裝置框架的上表面上的向上傾斜的膠片貯存段58。
在圖1所示的圖像形成裝置40中，膠片包含段45、基板段59、運輸輥對49a和49b、溫度提升段50和溫度維持段53(上游側(cè))，是按照從裝置框架40a的底部到上部的順序來排列配置的，并且膠片包含段45位于最低處并且有間隔在溫度提升段50和溫度維持段53之下的基板段59，所以沒有受到加熱影響。
從運輸輥對49a和49b到溫度提升段50的傳輸路線被安排得較短，因此一張膠片F(xiàn)的前部已在溫度提升段50和溫度維持段53中進行熱顯影，而這張膠片F(xiàn)的末端部分由光掃描曝光段55曝光。
溫度提升段50和溫度維持段53構(gòu)成加熱段，其中膠片F(xiàn)被加熱至熱顯影溫度并維持在該熱顯影溫度。溫度提升段50由加熱膠片F(xiàn)的上游第一加熱區(qū)51和加熱膠片F(xiàn)的下游第二加熱區(qū)52組成。
第一加熱區(qū)51由金屬材料如鋁制成的固定的平面加熱引導(dǎo)板51b，硅橡膠加熱器等設(shè)備的平面加熱器51c(緊密地附著于加熱引導(dǎo)板51b的背面)和多個相對的輥51a組成，這些輥進行排列以使得保持比膠片厚度更窄的空隙來將膠片壓緊到固定導(dǎo)板表面51d上并且它的表面由具有高絕熱能力(與金屬等相比)的硅橡膠組成。
第二加熱區(qū)52由固定平面加熱引導(dǎo)板52b(由金屬材料如鋁組成)，硅酮橡膠加熱器或類似設(shè)備的平面加熱器52c(緊密地附著于加熱引導(dǎo)板52b的背面)和多個相對的輥52a構(gòu)成，這些輥進行排列以使得保持比膠片厚度更窄的空隙來將膠片壓緊到加熱導(dǎo)板52的固定導(dǎo)板表面52d上并且它的表面由具有較高絕熱性能(與金屬或類似物相比)的硅橡膠組成。
溫度維持段53是由固定平面加熱引導(dǎo)板53b(由金屬材料如鋁組成)，由硅酮橡膠加熱器等設(shè)備組成的平面加熱器53c(緊密地附著于加熱引導(dǎo)板52b的背面)，和引導(dǎo)段53a構(gòu)成，該引導(dǎo)段53a面向在加熱引導(dǎo)板53b的表面上構(gòu)成的固定導(dǎo)板表面53d排列并以保持預(yù)定的空隙(狹縫)d的方式配置，和它由絕熱材料形成。熱保持段53(其中溫度提升段50側(cè)面的一部分在第二加熱區(qū)52之后平面排列)在其中間以預(yù)定的曲率向上彎曲。
在溫度提升段50的第一加熱區(qū)51中，由運輸輥對49a和49b從溫度提升段50的上游送來的膠片F(xiàn)被輸送，與此同時在BC-面(表示為BC)之上進行加熱該BC面，通過驅(qū)動相對的輥51a加壓貼合于引導(dǎo)面51d上以便與固定導(dǎo)板表面51d緊密接觸。
類似地，在第二加熱區(qū)52中，從第一加熱區(qū)51送來的膠片F(xiàn)被輸送，與此同時在BC-面上進行加熱該BC面通過相對輥52壓到固定導(dǎo)板面51d上以便與固定導(dǎo)板表面51d緊密接觸。
V形的向上張開的凹口可以設(shè)置在溫度提升段50的第二加熱區(qū)52和溫度維持段53之間。從溫度提升段50攜帶過來的外來物能夠降落在凹口的內(nèi)部，因此防止了外來物被攜帶至溫度維持段53。
在溫度維持段53中，從第二加熱區(qū)輸送出的膠片F(xiàn)利用在第二加熱區(qū)52側(cè)面的相對輥52a的輸送力穿過在固定導(dǎo)板表面53d和引導(dǎo)段53a之間的空隙d，與此同時利用來自加熱引導(dǎo)板53b的熱量在該空隙d中加熱(或維持溫度)。膠片F(xiàn)被傳輸向著冷卻段54，同時逐漸從水平方向轉(zhuǎn)向垂直方向。
在冷卻段54中，從溫度維持段53垂直送來的膠片F(xiàn)被傳輸向著膠片積聚段58，同時利用相對輥54a讓膠片F(xiàn)與由金屬材料形成的冷卻板54b的冷卻引導(dǎo)表面54c接觸并將膠片的方向從垂直方向轉(zhuǎn)變至傾斜來進行冷卻。通過利用翅片形吸熱結(jié)構(gòu)改進冷卻板54b來促進冷卻效果。冷卻板54b的一部分可通過翅片形吸熱結(jié)構(gòu)來改進。
然后，從冷卻段送來的已冷卻膠片F(xiàn)利用密度計56進行密度測定，由運輸輥對57輸送并被排放到膠片貯存段58上。膠片貯存段58能夠暫時堆疊許多張的膠片F(xiàn)。
在圖1中所示的熱顯影裝置40中，膠片F(xiàn)被輸送通過溫度提升段50和溫度維持段53，與此同時BC-面面向固定導(dǎo)板表面51d、52d和53d和涂有光熱照相材料的EC-面被打開。
膠片F(xiàn)被相對輥51a和52a輸送以便在10秒內(nèi)穿過溫度提升段50和溫度維持段53。因此，在溫度提升段和溫度維持段上的加熱時間長度是10秒或更短。
如圖1中所示，膠片F(xiàn)在熱顯影裝置40的需要均勻熱傳遞的溫度提升段50被傳輸，與此同時，利用加熱引導(dǎo)板51b和52b讓膠片F(xiàn)與固定導(dǎo)板表面51d和52d直接接觸并且多個相對輥51a和52a將該膠片壓合到加熱引導(dǎo)板51b和52b上來確保接觸熱傳遞。因此，膠片總體上均勻地加熱，導(dǎo)致均勻的溫度升高，得到高圖像質(zhì)量的成品膠片而沒有密度的不均勻性。
在加熱至熱顯影溫度之后，膠片被輸送至在加熱引導(dǎo)板53b的固定導(dǎo)板表面53d與引導(dǎo)段53a之間的空隙d中。即使在沒有與固定導(dǎo)板表面53d接觸的情況下在空隙d中加熱(通過與固定導(dǎo)板表面53d直接接觸所實現(xiàn)的熱傳遞和/或由于與周圍的熱空氣接觸所實現(xiàn)的熱傳遞)，膠片溫度落入熱顯影溫度(例如，123℃)的范圍之內(nèi)(例如±0.5℃)。因此，即使當膠片沿著加熱引導(dǎo)板53d的表面或曲面引導(dǎo)板53a的表面在空隙d內(nèi)被傳輸，溫差低于0.5℃和均勻溫度維持得到保持，沒有在成品膠片中引起密度的不均勻性。溫度維持段53不需要驅(qū)動部件如輥i，實現(xiàn)了該裝置的部件數(shù)量的減少。
如前面所述，加熱該光熱照相片材F是在10秒內(nèi)完成的，實現(xiàn)快速熱處理。從溫度提升段水平延伸的溫度維持段是曲面形的并且在途中變成垂直的，以及膠片F(xiàn)在冷卻段54中幾乎翻轉(zhuǎn)它的方向并且被排放到膠片貯存段58中。因此，小型的裝置和該裝置的減少的設(shè)置面積能夠通過讓冷卻段54具有符合該裝置的布局設(shè)計的預(yù)定曲率來實現(xiàn)。
在常規(guī)的大側(cè)邊(large-side)的處理機，甚至在膠片溫度提高至顯影溫度之后的區(qū)段中設(shè)置加熱和運輸機構(gòu)，這對于溫度維持功能來說是足夠的，導(dǎo)致引入不必要的元件，進而導(dǎo)致部件數(shù)量和成本的增加。另一方面，常規(guī)的小型機不能確保充分的熱傳遞，導(dǎo)致不均勻密度并使得難以實現(xiàn)所需的高圖像質(zhì)量。相反地，在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方案中，熱顯影過程被分成溫度提升段50和溫度維持段53，它們中的每一個都單獨地進行，因此上述問題能夠克服。
在溫度提升段50和溫度維持段53中，光熱照相片材F在BC-側(cè)上被加熱，而涂有光熱照相材料的EC-側(cè)是開放的。當熱顯影在10秒內(nèi)快速進行時，在膠片F(xiàn)中所含的揮發(fā)性溶劑(如水或有機溶劑)從開放的EC-側(cè)揮發(fā)，這樣，即使當加熱時間縮短，縮短的時間幾乎沒有造成影響。即使當膠片F(xiàn)與固定導(dǎo)板表面51d或52d的接觸有些不足時，發(fā)生表面接觸的部分的任何溫差得以減輕，導(dǎo)致減少的溫度差異，從而獲得穩(wěn)定的圖像質(zhì)量和穩(wěn)定的密度。從EC-側(cè)加熱就加熱效率來說被認為是更好的。然而，考慮到用作膠片F(xiàn)的載體的PET的熱傳導(dǎo)率大約是0.17W/m·℃和PET的厚度是大約170μm，該時滯是小的和能夠容易地利用例如加熱器能力的提高來補償。上述不均勻接觸的改善因此預(yù)計是更有效的。
在膠片F(xiàn)中所含的仍然保持在較高溫度的溶劑(水、有機溶劑)也在從溫度維持段53走出至到達冷卻段54的過程中蒸發(fā)。因為甚至在冷卻段54中EC-側(cè)處于開放狀態(tài)，溶劑蒸發(fā)，導(dǎo)致穩(wěn)定化的圖像質(zhì)量。因此，冷卻時間在快速處理過程中不能忽略并且特別對于包括10秒或更短的加熱時間的快速過程是有效的。
熱顯影溫度優(yōu)選是在110℃至150℃的范圍，和更優(yōu)選115℃到135℃之間。將加熱溫度維持在這一范圍內(nèi)會在短的時間中獲得足夠的圖像密度并且也能夠防止由于粘結(jié)劑的熔化而轉(zhuǎn)移至輥上，和防止對于可運輸性或顯影儀器的不利影響。
加熱手段可以是利用加熱滾筒或加熱板的任何接觸式加熱和非接觸加熱如輻射，但是利用加熱板的接觸式加熱是優(yōu)選的。接觸加熱面可以是感光層側(cè)或非感光層側(cè)，但是對于在處理環(huán)境中的穩(wěn)定性而言，非感光層側(cè)的接觸加熱面是優(yōu)選的。顯影段優(yōu)選由多個獨立溫度控制的區(qū)段和多個機構(gòu)的結(jié)合所構(gòu)成并且優(yōu)選具有至少一個溫度保持區(qū)段以維持特定的顯影溫度。用于本發(fā)明中的一個優(yōu)選的熱顯影裝置能夠使用由溫度提升段和溫度維持段構(gòu)成的熱顯影過程。該溫度提升段實現(xiàn)加熱設(shè)備如加熱元件與光熱照相片材的緊密接觸以最大程度減少密度不均勻性但是溫度維持段不要求實現(xiàn)這一緊密接觸，這樣溫度提升段和溫度維持段能夠獨立地使用不同的、但合適的加熱系統(tǒng)，使得能夠進行快速熱顯影處理和縮小裝置尺寸并且導(dǎo)致裝置的成本降低，同時保持具有密度均勻性的高圖像質(zhì)量。
在上述熱顯影裝置中，該溫度提升段通過由相對輥將光熱照相材料按壓在板式加熱器上來加熱光熱照相片材，以及該溫度維持段加熱在引導(dǎo)板(在其至少一側(cè)上具有加熱器)之間所形成的狹縫內(nèi)的光熱照相片材。在溫度提升段中，該相對輥將光熱照相片材按壓在板式加熱器上，讓光熱照相材料與板式加熱器緊密接觸；另一方面，該溫度維持段僅僅利用溫度提升段的相對輥的輸送力在有加熱(溫度維持)的情況下在狹縫之間輸送光熱照相材料并且不需要任何運輸系統(tǒng)的驅(qū)動部件，也不需要狹縫尺寸的高精度，使得該裝置尺寸減少和成本降低。
這一熱顯影裝置確保加熱裝置如加熱元件與光熱照相片材在第一區(qū)段中的緊密接觸以進行光熱照相片材的溫度升高，導(dǎo)致降低密度不均勻性，但是第二區(qū)段不需要這樣的緊密接觸并且在引導(dǎo)板之間的間隙(或引導(dǎo)間隙)中光熱照相片材的溫度維持能夠?qū)崿F(xiàn)一種允許熱顯影過程快速進行的構(gòu)造(constitution)，使該裝置的尺寸減少和成本降低，同時保持具有密度均勻性的高圖像質(zhì)量。無論光熱照相片材的輸送位置如何，3mm或更少的引導(dǎo)間隙對于溫度維持能力有小的影響并且不需要固定導(dǎo)板和其它引導(dǎo)板的高布局精確度，使得兩個引導(dǎo)板有更高量的加工時引起的可允許的曲率誤差，和裝配精確度和在設(shè)計上有更大自由度，并且導(dǎo)致成本降低。
在本發(fā)明的熱顯影裝置中，第二區(qū)域的引導(dǎo)間隙優(yōu)選是在1至3mm之間。1mm或更高的引導(dǎo)間隙使得光熱照相片材的涂覆側(cè)難以與引導(dǎo)表面接觸，導(dǎo)致減少因磨損斑痕出現(xiàn)帶來的問題。
在第二區(qū)段中，固定導(dǎo)板和其它引導(dǎo)板優(yōu)選具有基本上相同的曲率。當在第二區(qū)段中的引導(dǎo)板經(jīng)過結(jié)構(gòu)設(shè)計之后具有允許縮小該裝置的尺寸的曲率時，能夠形成具有幾乎恒定的引導(dǎo)間隙的各個引導(dǎo)板。
可行的是構(gòu)造溫度提升段和溫度維持段以便與光熱照相片材之間有10秒以下的配合時間，因此溫度提升步驟和溫度維持步驟的時間得到縮短，使得熱顯影更快速進行。
在溫度提升段和溫度維持段之間可設(shè)置凹口以便讓從溫度提升段攜帶來的外來物質(zhì)進入該凹口中，防止聚集在光熱照相片材上的外來物質(zhì)進入溫度維持段并且抑制堵塞、磨損斑痕和密度不均勻性的發(fā)生。
溫度提升段和溫度維持段優(yōu)選加熱該光熱照相片材，同時開放光熱照相材料的涂覆側(cè)。在冷卻段中，也優(yōu)選的是在開放光熱照相材料的涂覆側(cè)的同時進行冷卻。
維持已加熱的光熱照相材料的溫度的溫度維持區(qū)段的機構(gòu)不局限于上述的機構(gòu)。顯影時間優(yōu)選是在5至10秒的范圍。
該顯影裝置可以備有預(yù)熱區(qū)段，后者在以成像方式曝光之后和在熱顯影步驟之前將光熱照相材料加熱到70-100℃(優(yōu)選90-100℃)的溫度，以便在預(yù)定的顯影溫度下進行加熱。預(yù)熱區(qū)段的加熱機構(gòu)沒有特別限制，但是利用加熱板的接觸式加熱是優(yōu)選的。預(yù)熱區(qū)段的加熱溫度的精度優(yōu)選是在±1℃內(nèi)。取決于加熱機構(gòu)，加熱時間優(yōu)選是在0.5至7秒的范圍。
該顯影裝置可以備有緩慢冷卻區(qū)段，后者在比熱顯影溫度低10-20℃(優(yōu)選10-15℃)的溫度下加熱該光熱照相材料，以便在以成像方式曝光和熱顯影的完成之后停止顯影。緩慢冷卻區(qū)段的機構(gòu)沒有特別限制，但是就成本和可控性而言，優(yōu)選的是用已調(diào)節(jié)至預(yù)定溫度的板進行接觸冷卻。緩慢冷卻區(qū)段的溫度精度優(yōu)選是±1℃，和更優(yōu)選±0.5℃。緩慢冷卻時間優(yōu)選是不少于顯影時間的0.25倍和更優(yōu)選是顯影時間的0.25-1.0倍，就快速處理而言。
在本發(fā)明中，可在光熱照相片材容納段(45)至溫度提升段(50)的運輸路線的附近提供溫度-濕度傳感器以便以所測量的溫度或濕度為基礎(chǔ)來控制顯影時間或顯影溫度，使得能夠維持穩(wěn)定的圖像質(zhì)量。在高的環(huán)境濕度下，降低顯影溫度或縮短顯影時間能夠?qū)崿F(xiàn)圖像密度的穩(wěn)定化。
實施例 本發(fā)明進一步以實施例為基礎(chǔ)進行描述，但是本發(fā)明絕不限于這些實施例。除非特別指出，否則“％”表示wt％。
實施例1 根據(jù)下列工序制備光熱照相材料。
有底涂層的照相載體的制備 已經(jīng)在兩側(cè)上進行8W·分鐘/m2的電暈放電處理的由在0.170的光學(xué)密度(由Konica Corp.制造的Densitometer PDA-65測定)下染成藍色的175μm厚度的雙軸取向聚對苯二甲酸乙二醇酯膜組成的照相載體進行底涂。即，將底涂用液體涂覆組合物a-1在22℃的溫度和100m/分鐘下涂布到以上照相載體的一側(cè)上獲得0.2μm的干燥層厚度并在140℃下干燥，因此在感光層側(cè)上形成底涂層(表示為底涂層A-1)。此外，作為背面層底涂層，將如下所述的底涂用液體涂覆組合物b-1在22℃的溫度和100m/分鐘下涂布于相對側(cè)上，得到0.12μm的干燥層厚度并在140℃下干燥。將具有抗靜電功能的導(dǎo)電性底涂層(表示為底涂下層B-1)涂布于背面層側(cè)上。底涂下層A-1和底涂下層B-1的表面進行8W·分鐘/m2的電暈放電處理。隨后，底涂用液體涂覆組合物a-2在33℃的溫度和100m/分鐘下被涂布到底涂下層A-1上，獲得0.03μm的干燥層厚度并在140℃下干燥。所得層表示為底涂上層A-2。如下所述的底涂用液體涂覆組合物b-2在33℃的溫度和100m/分鐘下被涂布到底涂下層B-1上，獲得0.2μm的干燥層厚度并在140℃下干燥。所得層表示為底涂上層B-2。其后，所得載體在123℃下進行熱處理兩分鐘，然后在25℃和50％相對濕度的條件下卷繞，由此制備了有底涂層的樣品。
藍色染料
親水性聚酯A-1的制備 由35.4重量份的對苯二甲酸二甲酯、33.63重量份的間苯二甲酸二甲酯、17.92重量份的5-磺酸基間苯二甲酸二甲基酯的鈉鹽、62重量份的乙二醇、0.065重量份的乙酸鈣一水合物、和0.022重量份的乙酸錳四水合物組成的混合物在氮氣流中在170℃到220℃的溫度下進行酯交換，同時蒸餾出甲醇。其后，添加0.04重量份的磷酸三甲酯、0.04重量份的三氧化銻、和6.8重量份的4-環(huán)己烷二羧酸。所得混合物在220℃到235℃的反應(yīng)溫度下進行酯化，同時蒸餾出接近理論量的水。其后，反應(yīng)體系進行壓降并在一個小時的時間中加熱，然后在280℃的最終溫度和133Pa的最高壓力下進行縮聚反應(yīng)一個小時，由此合成了水溶性聚酯A-1。所得水溶性聚酯A-1的特性粘度是0.33，平均粒度是40nm，和Mw是80,000到100,000。
隨后，將850ml的純水加入到裝有攪拌槳葉、回流冷卻管和溫度計的2升三口燒瓶中，在旋轉(zhuǎn)攪拌槳葉的同時，逐漸添加150g的水溶性聚酯A-1。所得混合物在室溫下攪拌30分鐘，沒有任何改性(modification)。
其后，內(nèi)部溫度經(jīng)過1.5小時的時間提高至98℃，然后在該溫度下進行溶解。其后，溫度經(jīng)過一個小時的時間降低至室溫，和所得產(chǎn)物靜置一夜，由此制備親水性聚酯A-1溶液。
改性親水性聚酯溶液的制備 在裝有攪拌槳葉、回流冷卻管、溫度計和滴液漏斗的3升四口燒瓶中添加1,900ml的上述15wt％聚酯A-1水溶液，內(nèi)部溫度提高至80℃，同時旋轉(zhuǎn)攪拌槳葉。在其中添加6.52ml的24％過氧化銨水溶液，和經(jīng)過30分鐘滴加單體混合液體組合物(由28.5g的甲基丙烯酸縮水甘油酯、21.4g的丙烯酸乙酯和21.4g的甲基丙烯酸甲酯組成)，然后反應(yīng)進行另外3小時。其后，所得產(chǎn)物被冷卻到至多30℃，然后過濾，由此獲得了具有18wt％固體的改性水基聚酯溶液B-1(20wt％的基于乙烯基組分改性率)。
隨后，按照與以上相同的方法制備具有18wt％的固體濃度的改性聚酯B-2(20wt％的基于乙烯基組分改性率)，只是乙烯基改性率改變?yōu)?6wt％和改性組分改變?yōu)楸揭蚁?甲基丙烯酸縮水甘油酯:甲基丙烯酸乙?；阴Ｑ趸阴?丙烯酸正丁酯＝39.5:40:20:0.5。
丙烯酸類聚合物膠乳C-1到C-3的制備 具有表1中所示單體組成的丙烯酸類聚合物膠乳C-1到C-3通過使用乳液聚合法來合成。全部固體濃度調(diào)節(jié)到30wt％。
表1 底涂層涂覆溶液的制備 在感光層側(cè)上的底涂下層a-1的涂覆組合物(a-1) 丙烯酸類聚合物膠乳C-3(30％固體)70.0g 乙氧基化醇和乙烯均聚物的水分散體(10％固體) 5.0g 表面活性劑(A) 0.1g 蒸餾水，補充至 1000ml 感光層側(cè)底涂上層的涂覆組合物(a-2) 改性水基聚酯B-2(18wt％) 30.0g 表面活性劑(A) 0.1g 球形硅石消光劑(Sea Hoster KE-P50，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造) 0.04g 蒸餾水，補充至1000ml 背面層側(cè)底涂下層的涂覆組合物(b-1) 丙烯酸類聚合物膠乳C-1(30％固體) 30.0g 丙烯酸類聚合物膠乳C-2(30％固體) 7.6g SnO2溶膠* 180g 表面活性劑(A) 0.5g 5wt％PVA-613水溶液(PVA，由Kuraray Co.，Ltd.制造)0.4g 蒸餾水，補充至1000ml* *通過使用描述在JP-B No.昭35-6616的實施例1中的方法所合成的SnO2溶膠的固體濃縮物被加熱并濃縮達到10wt％的固體濃度，隨后通過添加氨水將pH調(diào)節(jié)到10。
背面層側(cè)底涂上層的涂覆組合物(b-2) 改性水基聚酯B-1(18wt％)145.0g 球形硅石消光劑(Sea Hoster KE-P50，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造)0.2g 表面活性劑(A) 0.1g 蒸餾水，補充至 1000ml 表面活性劑(A)
鹵化銀乳液的制備 溶液A 酞酰化明膠(99％酞?；?66.20g 表面活性劑(AO-1)(10％甲醇水溶液) 10ml 溴化鉀 0.32g 水，補充至 5429ml 溶液B 0.67mol/L硝酸銀水溶液2635ml 溶液C 溴化鉀 51.55g 碘化鉀 1.47g 水，補充至 660ml 溶液D 溴化鉀 154.90g 碘化鉀 4.41g 六氰合鐵(II)酸鉀(0.5％溶液) 15ml 六氯合銥(III)酸鉀(1％溶液) 0.93ml 水，補充至 1982ml 溶液E 0.4mol/L溴化鉀水溶液，用量為控制銀電位所需要的 溶液F 氫氧化鉀 0.71g 水，補充至20ml 溶液G 56％乙酸水溶液10.0ml 溶液H 無水碳酸鈉1.16g 水，補充至107ml AO-1:化合物(AO-1)HO(CH2CH2O)n(CH(CH3)CH2O)17(CH2CH2O)mH(m+n＝5～7) 使用在JP-B No.昭58-58288中所示的混合攪拌器，溶液B的1/4部分和整個溶液C通過采用雙噴嘴沉淀法經(jīng)過4分鐘45秒的時間被添加到溶液A中，同時調(diào)節(jié)溫度到35℃和調(diào)節(jié)pAg到8.09，由此形成核。在一分鐘后，添加全部溶液F。在添加過程中，pAg使用溶液E來作適當?shù)卣{(diào)節(jié)。在6分鐘后，溶液B的3/4部分和全部溶液D通過使用雙噴嘴添加方法經(jīng)過14分鐘15秒的時間被添加進去，同時調(diào)節(jié)溫度到35℃和調(diào)節(jié)pAg到8.09。在攪拌5分鐘后，混合物被冷卻到30℃，添加全部溶液G，由此鹵化銀乳液發(fā)生絮凝。隨后，留下2000ml的絮凝部分，上層清液被除去，然后添加10L水。在攪拌后，鹵化銀乳液再次絮凝。留下1,500ml的絮凝部分，上層清液被除去。此外，添加10L水。在攪拌后，鹵化銀乳液絮凝。留下1,500ml的絮凝部分，上層清液被除去。隨后，添加溶液H，所得的混合物被加熱至60℃，然后攪拌另外120分鐘。最終，pH被調(diào)節(jié)到5.8和添加水，以使重量被調(diào)節(jié)至每mol銀1,161g，由此制備感光鹵化銀乳液。
所制備的乳液由具有0.043μm的平均晶粒粒度和92％的(100)晶面比率的單分散立方體形碘溴化銀晶粒組成。
兩親性聚合物的制備 在裝有滴液設(shè)備、溫度計、氮氣導(dǎo)入管、攪拌器和回流冷凝器的0.5升四口可拆卸式燒瓶中添加50g的甲基乙基酮(MEK)、20g的二丙酮丙烯酰胺、20g的甲氧基-聚乙二醇單甲基丙烯酸酯(Blemmer PME-400，由Nippon YushiCo.，Ltd.生產(chǎn))、20g的硬脂酰氧基(stearoxy)聚乙二醇單甲基丙烯酸酯(Blemmer PSE-400，由Nippon Yushi Co.，Ltd.生產(chǎn))和0.12g的月桂基過氧化物，然后在80℃下加熱。此外，經(jīng)過2小時將由40g的N-異丙基丙烯酰胺溶于43g的MEK中所得到的溶液添加到可拆卸式的燒瓶中。其后，混合物進行加熱，當達到回流狀態(tài)時，經(jīng)過2小時將由0.17g的月桂基過氧化物溶于33g MEK中所得到的溶液添加到燒瓶中，并在該溫度下反應(yīng)3小時。然后，將由0.33g的甲基氫醌溶于107g的MEK中所得到的溶液添加進去，和在冷卻之后，得到用于分散的30％兩親性聚合物溶液。由GPC(凝膠滲透色譜法)以聚苯乙烯測量的分子量(Mw)是大約55,000。隨后，這一聚合物溶液被滴加到足夠量的水中，除去上層清液而獲得聚合物固體。
鹵化銀晶粒的兩親性分散體的制備 將10g的上述聚合物固體添加到67g的甲醇中，并在45℃下攪拌30分鐘來進行溶解。此外，經(jīng)過2分鐘將25g已調(diào)節(jié)至45℃的上述鹵化銀乳液添加進去，然后攪拌30分鐘。溶液被冷卻到18℃，靜置30分鐘，然后分離成兩層。除去溶液的上層清液和添加230g的MEK，然后在減壓下蒸鎦直至溶液達到低于10％的水含量為止。最終，添加MEK直到總量達到157g為止，獲得鹵化銀乳液的兩親性分散體。
粉末狀脂肪族羧酸銀的制備 使用在圖2中所示的裝置，根據(jù)以下工序制備脂肪族羧酸銀鹽顆粒。在罐11中在85℃下攪拌1850g的脂肪族羧酸(具有在表2中所示的摩爾比率)和純水(其中純水的量是調(diào)節(jié)到表2中所示的濃度所需要的用量的90％)的同時，在5分鐘內(nèi)將1036ml的5M/L KOH水溶液添加進去并進行反應(yīng)60分鐘而獲得脂肪族羧酸鉀水溶液。最終，添加附加的純水進行補充，以使脂肪族羧酸鉀水溶液的濃度是5％。
在罐22中制備38,300g的5％硝酸銀水溶液，然后維持在10℃下。上述脂肪族羧酸鉀水溶液和硝酸銀水溶液同時由雙噴嘴添加法在恒定流速下經(jīng)過4分鐘的時間添加到混合設(shè)備24中，所獲得的反應(yīng)混合物被貯存在罐26中。在添加過程中，罐26保持在35℃。隨后，由吸濾器過濾出固體，用純水在溫度25℃下洗滌，直至透過水的導(dǎo)電率達到30μS/cm為止。脫水濾餅在50℃下干燥而獲得干燥粉末狀脂肪族羧酸銀鹽顆粒。由此獲得了顆粒狀脂肪族羧酸銀鹽1-1至1-8。在圖中，編號23、27和28分別表示罐、流量計和泵。
脂肪族羧酸銀分散體的制備 在1300g的甲基乙基酮(以下簡稱MEK)中溶解49g的聚乙烯醇縮丁醛(BL-SHP，Tg＝62℃，由Sekisui Kagaku Kogyo Co.，Ltd.生產(chǎn))。在由溶解器DISPERMAT Type CA-40M(由VMA-Getzmann Co.制造)攪拌的同時，將500g的上述粉末狀脂肪族羧酸銀鹽逐漸添加進去并充分混合，制得初級分散體。在粉末狀脂肪族羧酸銀的添加完成之后，在1500rpm下繼續(xù)進行攪拌15分鐘。將所制備的初級分散體加入到媒介型(media type)均化器DISPERMATType SL-C12EX(由VMA-Getzmann Co.制造)中，填充0.5mm直徑二氧化鋯珠粒(Toreselam，由Toray Co.生產(chǎn))使得占據(jù)內(nèi)部體積的80％，這樣在該磨機中的停留時間達到1.2分鐘，并在9m/秒的磨機的圓周速率和25℃的溫度下分散獲得分散有感光乳液的溶液。所獲得的脂肪族羧酸銀分散體的固體含量是27％。
在所獲得的1670g的脂肪族羧酸銀分散體中添加157g的上述鹵化銀晶粒兩親性分散體，然后按照以下所述，制備感光層涂覆組合物。
組成層的涂覆 在有底涂層的載體的感光層側(cè)上的底涂上層A-2之上通過使用滑動涂覆器在50m/min的涂覆速度下同時涂覆滑移層涂覆溶液、感光層涂覆溶液和感光層的保護層(表面保護層)，這樣滑移層、感光層和保護層的干燥厚度分別是0.5μm、12.0μm和3.0μm。
隨后，在底涂層B-2上通過使用滑移涂覆器在50m/min的涂覆速度下同時涂覆滑移層涂覆溶液和BC層涂覆溶液，這樣滑移層和BC層的干燥厚度分別是0.3μm和2.1μm。如此涂覆的樣品在79℃下進行熱處理10分鐘，獲得光熱照相材料(樣品102-125)，如表2中所示。
感光層涂覆溶液的制備 在攪拌的同時，1670g的上述脂肪族羧酸銀分散體和1670g的MEK進行混合和所得的混合物維持在18℃，然后，添加1.2g的11％雙(二甲基乙酰胺)二溴酸鹽(bis(dimethylacetoamide)dibromobromate)的甲醇溶液并攪拌1小時。隨后，添加15.1g的11％溴化鈣的甲醇溶液和攪拌30分鐘。此外在其中添加如下所述的紅外增感染料溶液并攪拌1小時。然后，溫度降低到13℃并繼續(xù)攪拌30分鐘。在維持于13℃的同時，添加345g的聚乙烯醇縮丁醛粉末A(Tg＝75℃，縮醛比率乙?；s醛(acetoacetal)/丁基縮醛(butylacetal)＝3/7，聚合度為700)和30g的聚乙烯醇縮丁醛粉末B(Tg＝75℃，縮醛比率乙酰基縮醛/丁基縮醛＝3/7，聚合度為2,600)和進行溶解。在溶解完成之后，添加19.8g的四氯酞酸(13％MEK溶液)。在進一步攪拌的同時，以15分鐘的間隔添加下列添加劑獲得感光層涂覆溶液。
酞嗪 12.4g Desmodur N3300(由Mobay Chemical Co.制造的脂肪族多異氰 酸酯)17.6g 黃色染料形成用無色染料YA-1 1.4g 青色染料形成用無色染料CLA-4 0.6g 防灰霧劑溶液(如下所述) 180.0g 顯影劑溶液(如下所述) 800.0g 紅外增感染料溶液 在135g的MEK中溶解400mg的紅外增感染料-1、400mg的紅外增感染料-2、130mg的5-甲基-2-巰基苯并咪唑、21.5g的2-氯苯甲酸和2.5g的染料增溶劑，獲得紅外增感染料溶液。
紅外增感染料-1
紅外增感染料-2
染料增溶劑
顯影劑溶液 通過將還原劑(表2中所示的化合物和量)，0.0002摩爾的銀節(jié)約劑SE1-4、9g的4-甲基酞酸和0.7g的染料-A溶解在MEK(它補充溶液總量至800g)中來獲得顯影劑溶液。
防灰霧劑溶液 通過將11.6g的三溴甲基磺?；拎と芙庠贛EK中并補充至180g，來獲得防灰霧劑溶液。
表面保護層涂覆溶液 MEK 1056g DesmodurN3300(多異氰酸酯，Mobay Chemical Corp.) 148g PMMA(ParaloidA21，Rohm&Haas Co.) 6g 消光劑分散體(硅石，分散度10％，平均粒度4μm，固體 含量1.7％) 170g 亞乙基雙硬脂酸酰胺(平均粒度3μm) 2.0g 潤滑劑(表2)2.0g (CH2＝CHSO2CH2)2CH(OH) 3.6g 苯并三唑 2.0g 氟表面活性劑C9F17O(CH2CH2O)23C9F175.4g 氟表面活性劑(表2) 0.12g BC層涂覆溶液 MEK1350g 纖維素乙酸丙酸酯(CAP482-20，Eastman Chemical Co.) 121g 染料-A 0.23g 染料-B 0.62g 氟化丙烯酸類共聚物(Optoflon FM450，DAIKIN Co.) 1.21g 單分散球形三維固化PMMA(平均粒度10μm) 2.4g 潤滑劑(表2)2.0g 亞乙基雙硬脂酸酰胺(平均粒度10μm) 2.0g 氟表面活性劑C9F17O(CH2CH2O)23C9F175.21g 氟表面活性劑(表2) 0.81g 染料-A
染料-B
滑移層涂覆溶液(感光層側(cè)) 感光層涂覆溶液用MEK稀釋，直至達到10.5％的固體含量為止。通過使用溶解器型均化器，將與涂覆溶液的總粘結(jié)劑(不包括交聯(lián)劑)的50％固體含量對應(yīng)的PMMA(Paraloid A21)溶解在MEK中，添加到涂覆溶液中并用MEK稀釋，直至達到10.5％的固體含量為止，從而獲得滑移層涂覆溶液。
滑移層涂覆溶液(BC層側(cè)) 與上述BC層涂覆溶液類似，根據(jù)以下組成制備BC層側(cè)的滑移層的涂覆溶液 纖維素乙酸丙酸酯(CAP482-20) 15g 聚酯樹脂(Vitel PE2200B，Bostic Co.) 0.15g 由此獲得的光熱照相材料(樣品101)在感光層側(cè)上具有5.3的pH值和9,000秒的Bekk光滑度，和在BC側(cè)上具有5.5的pH值和10,000秒的Bekk光滑度。樣品101也具有表面粗糙度Rz(E)/Rz(B)＝0.14，Rz(E)＝0.9μm[Rz(B)＝6.4μm，Ra(E)＝0.06μm]和Ra(B)＝0.12μm。
在樣品102-125中，在420nm的波長下觀察到黃色染料形成用無色染料的最大吸收(吸收峰)和在620nm的波長下觀察到青色染料形成用無色染料的最大吸收(吸收峰)。
與樣品118類似地制備樣品120，前提條件是，345g的聚乙烯醇縮丁醛粉末A(Tg＝75℃，700的聚合度)和30g的聚乙烯醇縮丁醛粉末B(Tg＝75℃，2,600的聚合度)被375g的聚乙烯醇縮丁醛(ESLEX B·BL-SHP，由SekisuiKagaku Kogyo Co.，Ltd制造)替代。
與樣品121類似地制備樣品122，前提條件是，在BC層涂覆溶液的制備中，進一步添加0.03g的單分散三維固化球形PMMA(20μm的平均粒度，Tg＝135℃，15％的單分散度)作為消光劑。
與樣品122類似地制備樣品123，前提條件是，在感光層側(cè)的保護層涂覆溶液的制備中沒有添加2.0g的亞乙基雙硬脂酸酰胺(3μm的平均粒度)以及在BC層側(cè)的保護層的制備中沒有添加2.0g的亞乙基雙硬脂酸酰胺(10μm的平均粒度)。
由此制備的光熱照相材料，樣品101到125各自裁切成34.5cm×43.0cm的尺寸，在25℃和50％R.H.的氣氛中用如下所述的包裝材料包裝并在常溫下放置2個星期。其后，樣品被評價如下。
包裝材料 使用紙盤和阻隔性袋，該袋包括10μm厚度聚乙烯/9μm厚度鋁箔/15μm厚度尼龍/50μm厚度的含有3％碳的聚乙烯并具有0.02ml/atm·m2·25℃·天的氧滲透性和0.001g/m2·40℃·90％RH·天的透濕性。使用紙盤。
曝光和處理 由此制備的樣品在如圖1中所示的熱處理器(圖像形成裝置)(裝備786nm半導(dǎo)體激光器，它具有50mW的最大輸出功率，0.35m2的安裝面積)中同時曝光和顯影，如圖1中所示(其中符號51、52和53的部件分別設(shè)定至100℃，123℃和127℃的溫度，各自時間是2秒、2秒和6秒，和總時間是10秒)。表達短語“同時曝光和顯影”指，在一張光熱照相材料中，該片材的一部分曝光，同時其他已曝光部分進行顯影。在曝光段和顯影段之間的距離是12cm，其中線性傳輸速度是33mm/秒。從光熱照相材料供應(yīng)設(shè)備段到曝光段的傳輸速度，在曝光段的傳輸速度和在顯影段的傳輸速度均為33mm/秒。光熱照相材料貯存托盤的底部位于離地面45cm的高度。熱處理需要的時間(從托盤段中的拾取到排出的時間)是30秒，其中當進行連續(xù)處理時熱顯影的間隔是4秒。通過從最高輸出功率開始逐步將曝光能量每步減少0.05(按LogE)進行曝光。
評價 熱處理樣品就圖像進行評價。
圖像密度 由密度計(PDM 65 Densitometer，由Konica Corp生產(chǎn))測量的所獲得圖像的最高密度被定義為圖像密度(Dmax)。
γ值 測量所獲得圖像的光學(xué)密度，以測定γ值。γ值(也表示為γ-值)利用在各自光熱照相材料樣品的熱顯影所獲得的特性曲線的1.2的光學(xué)密度下的γ值來表示。該特性曲線是指D-logE曲線，該曲線表示通過描繪作為縱坐標的光學(xué)密度(即散射密度(D))與作為橫坐標的曝光率常用對數(shù)(logE)的曲線所獲得的關(guān)系。γ值是在特性曲線上在1.2的光學(xué)密度處切線的斜率(它也由tanθ表示，其中θ是在切線和橫坐標之間的角度)。
磨蝕痕跡 膠片傳輸通過使用如圖1中所示的熱處理器來進行，目視觀察在感光層側(cè)的最上面的表面之上磨損斑痕的出現(xiàn)并且根據(jù)以下標準進行評價，在該標準中最佳水平評分為5和最壞的水平評分為1，并且分五個等級來評價，前提條件是以0.5間隔進行評價。2.5或更低的水平在實際中是無法接受的。
內(nèi)部沾污 在5,000張的各樣品在圖1中所示的熱處理器中在25℃和65％RH的環(huán)境中進行熱處理之后，根據(jù)以下標準針對粘附于處理器的運輸輥上的污漬目視評價各樣品，在該標準中在輥表面上沒有污漬的最佳水平評分為5和最壞水平(在輥的整個表面上有沾污)評分為1，并且分五個等級進行評價，前提條件是以0.5間隔進行評價。
由于各樣品中使用的化合物示于表2。評價結(jié)果示于表3。

在表2中， *1:脂肪族羧酸的摩爾比率(山萮酸/花生酸/硬脂酸) *2:mol％的山萮酸銀 *3:感光層的保護層 *4:通式(RD1)的還原劑 *5:通式(RD2)的還原劑 A:US-270(由TOAGOSEI Co.，Ltd.生產(chǎn)) B:US-350(由TOAGOSEI Co.，Ltd.生產(chǎn)) C:ACTFLOW UTMM-LS2(由Soken Chemical & Engineering Co.，Ltd.生產(chǎn)) D:ACTOFLOW IBMGV-LS2(由Soken Chemical & Engineering Co.，Ltd.生產(chǎn)) E:含硅的丙烯酸類聚合物(具有甲基丙烯酸甲酯的重復(fù)單元的含羥基的共聚物，Mw5000) F:C8F17SO3Li 表3 如表3中所示，已經(jīng)證明本發(fā)明的光熱照相材料防止磨損斑痕的出現(xiàn)和在顯影裝置內(nèi)部的沾污。
也證明在樣品101中，當使用具有提高的底部結(jié)構(gòu)(其中硅膠包含到較低部分的空間中)的紙盤時，隨濕度的變化所發(fā)生的密度變化得到減少，因此獲得改進。
權(quán)利要求
1.一種光熱照相材料，其包括在載體的一側(cè)上的包含感光鹵化銀、對光不敏感的脂肪族羧酸銀鹽、還原劑和粘結(jié)劑樹脂的感光層和第一非感光層，以及在載體的另一側(cè)上的第二非感光層，其中，第一非感光層和第二非感光層中的至少一層包括含硅的聚合物潤滑劑和由通式(SF)表示的含氟的化合物:
通式(SF)
[Rf-(L1)m1-]p-(L2)n1-(A)q
式中Rf是具有2到16個碳原子和13個或更少的氟原子的取代基；L1是不具有氟原子的連接基團；L2是不具有氟原子的(p+q)價連接基團；A是陰離子或它的鹽；m1和n1各自是0或1的整數(shù)；p和q各自是1到3的整數(shù)，前提條件是當q是1時，m1和n1不同時是0。
2.權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，含硅的聚合物潤滑劑具有1,000-20,000的質(zhì)量平均分子量。
3、權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，含硅的聚合物潤滑劑是含硅的丙烯酸類聚合物。
4.權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，第一種非感光層和第二種非感光層中的至少一層包括有機固體潤滑劑。
5.權(quán)利要求4的光熱照相材料，其中，有機固體潤滑劑顯示出110-200℃的熔點。
6.權(quán)利要求4的光熱照相材料，其中，有機固體潤滑劑是選自聚乙烯、聚丙烯和聚四氟乙烯中的顆粒聚合物化合物。
7.權(quán)利要求4的光熱照相材料，其中，有機固體潤滑劑是由通式(1)表示的化合物:
通式(1)
(R1-X1)p-L-(X2-R2)q
式中p和q各是0～6的整數(shù)，R1和R2各為烷基、鏈烯基、芳烷基或芳基，X1和X2各為含氮的二價連接基團，L是(p+q)價的基團。
8.權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，還原劑是由通式(RD1)表示:
通式(RD1)
式中X1是硫族元素原子或CHR1，其中R1是氫原子，鹵素原子，烷基，鏈烯基，芳基或雜環(huán)基團；R2是烷基，前提條件是兩個R2中的至少一個是仲或叔烷基；R3是氫原子或在苯環(huán)上能夠被取代的基團；R4是在苯環(huán)上能夠被取代的基團；m和n各自是0到2的整數(shù)。
9.權(quán)利要求5的光熱照相材料，其中，在通式(RD1)中，兩個R3中的至少一個是具有1-20個碳原子和被羥基取代的烷基，或具有1-20個碳原子和被能夠在去保護之后形成羥基的基團取代的烷基。
10.權(quán)利要求8的光熱照相材料，其中，感光層包括由通式(RD2)表示的還原劑:
通式(RD2)
式中X2表示硫族元素原子或CHR5，其中R5是氫原子、鹵素原子、烷基、鏈烯基、芳基或雜環(huán)基團；兩個R6是烷基，它們兩者可以是相同的或不同的，前提條件是R6不是仲或叔烷基；R7是氫原子或能夠在苯環(huán)上被取代的基團；R8是能夠取代在苯環(huán)上的基團；m和n各自是0到2的整數(shù)。
11.權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，山萮酸銀占脂肪族羧酸銀鹽的70-99.99mol％。
12.權(quán)利要求1的光熱照相材料，其中，粘結(jié)劑樹脂顯示出65-95℃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光熱照相材料，其包括在載體的一側(cè)的包含感光鹵化銀、非感光的脂肪族羧酸銀鹽、還原劑和粘結(jié)劑樹脂的感光層和非感光層，以及在載體的另一側(cè)的非感光層，其中在感光層側(cè)的非感光層和在載體的另一側(cè)的非感光層包括含硅的聚合物潤滑劑和由通式[Rf-(L1)m1-]p-(L2)n1-(A)q表示的含氟的化合物。
文檔編號G03C1/498GK101387823SQ20081017563
公開日2009年3月18日 申請日期2008年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月2日
發(fā)明者后藤成人, 森田圣和, 板屋敬子 申請人:柯尼卡美能達醫(yī)療印刷器材株式會社