專利名稱：：電子照相感光體和導(dǎo)電性基體的制造方法以及成像裝置和電子照相盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：木發(fā)明涉及電子照相感光體和用于該電子照相感光體的導(dǎo)電性基體的制造方法以及使用了該電子照相感光體的成像裝置和電子照相盒。
背景技術(shù)：
：由于電子照相技術(shù)可以得到即時(shí)性、高品質(zhì)的圖像等，近年來該技術(shù)不再駐足于復(fù)印機(jī)領(lǐng)域，在各種打印機(jī)領(lǐng)域也正得到廣泛地應(yīng)用。對(duì)于作為電子照相技術(shù)的核心的電子照相感光體(以下為方便起見，將艽簡(jiǎn)稱為"感光體")，人們已經(jīng)開發(fā)出了一種有機(jī)感光體，該冇機(jī)感光休使.H」了冇機(jī)系的光電導(dǎo)材料作為其光電導(dǎo)材料，與無機(jī)系的光電W桐料相比，有機(jī)系的光電導(dǎo)材料具有無公害、制造容易等優(yōu)點(diǎn)。通常，有機(jī)感光體是在導(dǎo)電性基體(導(dǎo)電性支持體)上形成感光層而成的。作為感光體的類型，已知有所謂的單層型感光體和所謂的層積型感光體等，所述單層型感光體具有在粘結(jié)劑樹脂中溶解或分散有光電導(dǎo)性材料的單層的感光層(單層型感光層)，所述層積型感光體具有由層積電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而成的2層以上的層構(gòu)成的感光層(層積型感光層)，所述電荷產(chǎn)生層含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)，所述電荷傳輸層含有電荷傳輸物質(zhì)。對(duì)于有機(jī)感光體，由于感光體的使用環(huán)境的變化和反復(fù)使用導(dǎo)致的電學(xué)特性等的變化，有時(shí)在使用該感光體而形成的圖像中會(huì)出現(xiàn)各種缺陷。作為改善這些缺陷的技術(shù)之一，已知有如下方法在導(dǎo)電性基板和感光層之間設(shè)置具有粘結(jié)劑樹脂和二氧化鈦顆粒的底涂層以穩(wěn)定地形成良好的圖像(例如，參見專利文獻(xiàn)l)。'從生產(chǎn)率高的角度考慮，有機(jī)感光體所具有的層通常是通過將在各種溶劑屮溶解或分散有材料的涂布液涂布、干燥而形成的。此時(shí)，在含有二氧化鈦顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層中，二氧化鈦顆粒和粘結(jié)劑樹脂在底涂層中以不相容的狀態(tài)存在，因此該底涂層形成用涂布液是分散有二氧化鈦顆粒的涂布液，利用該涂布液進(jìn)行涂布來形成底涂層。以往，這樣的涂布液一般是通過利用球磨機(jī)、砂磨機(jī)、行星磨、輥磨機(jī)等公知的機(jī)械粉碎裝置經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間將二氧化鈦顆粒濕式分散到有機(jī)溶劑中而制造的(例如，參見專利文獻(xiàn)l)。此外，有文獻(xiàn)披露，在使用分散介質(zhì)將二氧化鈦顆粒分散在底涂層形成用涂布液中時(shí)，通過將分散介質(zhì)的材質(zhì)定為二氧化鈦或氧化鋯，即使在低溫低濕條件下也能夠提供反復(fù)充電曝光特性優(yōu)異的電子照相感光體(例如，參見專利文獻(xiàn)2)。并且，眾所周知，通常來說，二氧化鈦顆粒凝集而形成二次顆粒，通過將該二次顆粒分散成接近一次顆粒的形狀而使黑點(diǎn)、色點(diǎn)等圖像缺陷變少。另一方面，使用感光體進(jìn)行成像時(shí)，作為圖像缺陷的一種，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋這樣的圖像不均勻。這是由以下原因所導(dǎo)致的激光器和發(fā)光二極管(LED)產(chǎn)生的寫入光在電子照相感光體的基體表面和涂布膜界而發(fā)生反射干涉，閑涂布膜的細(xì)微的膜厚差而使作用丁-電荷產(chǎn)牛.層的光強(qiáng)度出現(xiàn)不均勻，由此靈敏度因部位的不同而發(fā)牛/變化。作為防止該干涉條紋缺陷的對(duì)策，將基體表面粗糙化的方法是有效的，并且有文獻(xiàn)提出了各種表面粗糙化的方法(專利文獻(xiàn)39)。專利文獻(xiàn)l:日本特開平11-202519號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本特開平6-273962號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開2000-105481號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4:日本特開平6-138683號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)5:日本特開2001-296679號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)6:日本特開平5-224437號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)7:日本特開平8-248660號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)8:日本特開平6-138683號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)9:日本特開平1-123246號(hào)公報(bào)但是，如果過度增大基體表面的粗糙度，則基體的粗糙度有時(shí)會(huì)對(duì)在基體上形成的涂布膜的厚度的均勻性產(chǎn)生不良影響，或者有時(shí)會(huì)在基體上產(chǎn)生毛刺并在局部產(chǎn)生涂布膜厚度較薄的部分，導(dǎo)致在圖像上產(chǎn)生黑點(diǎn)、黑線、色點(diǎn)等圖像缺陷。并且，在使激光器和LED等產(chǎn)生的寫入光發(fā)生散射方面，分散在底涂層中的二氧化鈦等金屬氧化物顆粒具有減少干涉條紋的效果。但是，如果該金屬氧化物顆粒被分散成接近一次顆粒的形狀以減少黑點(diǎn)和色點(diǎn)等圖像缺陷，則由底涂層帶來的減少干涉條紋的效果減小，圖像上的干涉條紋增加。此外，如果將基體表面顯著粗糙化以減少干涉條紋，則結(jié)果使黑點(diǎn)、色點(diǎn)、黑線等圖像缺陷增加。如此，從均衡地減少所有圖像缺陷的方面來看，現(xiàn)有電子照相技術(shù)在性能上還有很多不足之處。
發(fā)明內(nèi)容木發(fā)明是鑒于上述的電子照相技術(shù)問題而提出的，本發(fā)明的目的在于提供難以出現(xiàn)黑點(diǎn)、色點(diǎn)、干涉條紋等圖像缺陷的高性能的電子照相感光休和用于該電子照相感光體的^電性基體的制造方法以及使用r該電子照相感光體的成像裝置和電子照相盒。本發(fā)明人對(duì)上述問題進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過將底涂層屮的二氧化鈦顆粒的粒度控制在特定范圍，即使在不同的使用環(huán)境中也具有良好的電學(xué)特性，并能夠形成極難出現(xiàn)黑點(diǎn)、色點(diǎn)等圖像缺陷的高品質(zhì)圖像，而且通過與具有特定范圍的表面粗糙度的導(dǎo)電性基體組合，形成難以出現(xiàn)干涉條紋的高畫質(zhì)圖像，從而完成了本發(fā)明。艮口，本發(fā)明的要點(diǎn)在于一種電子照相感光體，該電子照相感光體在表面最大高低粗糙度值Rz為0.8pm^RzS2)im的導(dǎo)電性基體上具有含冇金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層和形成在該底涂層上的感光層，其特征在于，將該底涂層分散在以7:3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為O.l)im以下，并且其累積90%粒徑為0.3iam以下，所述體積平均粒徑和累積90%粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的(技術(shù)方案1)。6此時(shí)，優(yōu)選該導(dǎo)電性基體表面形狀是通過切削加工形成的(技術(shù)方案2)。此外，優(yōu)選在所述導(dǎo)電性基體表面上形成微細(xì)的槽，并且在平面上展開該導(dǎo)電性基體表面時(shí)，該槽的形狀是彎曲且不連續(xù)的(技術(shù)方案3)。進(jìn)而，優(yōu)選所述形成在該導(dǎo)電性基體表面上的槽為網(wǎng)格形狀(技術(shù)方案4)。另外，優(yōu)選該導(dǎo)電性基體的表面的峰度Rku為3.5^Rku^25，并且形成在該導(dǎo)電性基體的表面上的槽的寬度L為0.5^m^L^6.0pm(技術(shù)方案5)。本發(fā)明的另一要點(diǎn)在于一種導(dǎo)電性基體的制造方法，該方法為上述電子照相感光體所具有的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，使撓性材料與上述導(dǎo)電性基體表而接觸，并使所述撓性材料相對(duì)于上述導(dǎo)電性基體表面進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)(技術(shù)方案6)。此時(shí)，優(yōu)選」二述導(dǎo)電性基休的表面預(yù)先實(shí)施了切削加工、減薄拉深、磨削加工以及珩磨加工屮的任意一種加工(技術(shù)方案710)。此外，作為上述撓性材料，優(yōu)選使用刷(技術(shù)方案11)，特別是，更優(yōu)選使用由混有磨料的樹脂形成的刷(技術(shù)方案12)。本發(fā)明的又一要點(diǎn)在于一種成像裝置，其特征在于，所述成像裝置具有上述電子照相感光體、使該電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的該電子照相感光休進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、利用調(diào)色劑將所述靜電潛像顯影的顯影單元和將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元(技術(shù)方案13)。本發(fā)明的再一要點(diǎn)在于一種電子照相盒，其特征在于，所述電子照相盒具有上述電子照相感光體和以下單元中的至少一個(gè)單元使該電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的該電子照相感光體進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、利用調(diào)色劑將所述靜電潛像顯影的顯影單元、將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元、使轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的調(diào)色劑定影的定影單元以及將附著在該電子照相感光體上的所述調(diào)色劑回收的清潔單元(技術(shù)方案14)。本發(fā)明能夠提供難以出現(xiàn)黑點(diǎn)、色點(diǎn)、干涉條紋等圖像缺陷的高性能的電子照相感光體和用于該電子照相感光體的導(dǎo)電性基體以及使用該電子照相感光體的成像裝置和電子照相盒。圖1為用于說明將本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面粗糙化的方法的一實(shí)例的示意圖。圖2為將本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面展開成平面時(shí)槽的形狀的一實(shí)例的示意圖。圖3為將本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面展開成平面時(shí)槽的形狀的一實(shí)例的示意圖。圖4為用于說明制造本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的方法的一實(shí)例的示意圖。圖5為用于說明制造本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的方法的一實(shí)例的示意l冬l。圖6為用于說明制造木發(fā)明的導(dǎo)'ti性基休的方法的一實(shí)例的小意圖。圖7為示意性表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的濕式攪拌球磨機(jī)的結(jié)構(gòu)的縱截而圖。圖8為示意性表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的濕式攪拌球磨機(jī)所使用的機(jī)械密封件的放大縱截面圖。圖9為示意性表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的濕式攪拌球磨機(jī)的另一個(gè)實(shí)例的縱截面圖。圖10為示意性表示圖9所示的濕式攪拌球磨機(jī)的分離器的橫截面圖。圖il表示具有本發(fā)明的電子照相感光體的成像裝置的一實(shí)施方式的主要部分結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)圖。圖12為在本發(fā)明的實(shí)施例和比較例的電子照相感光體中用作電荷產(chǎn)生物質(zhì)的氧鈦酞菁的CuKa特征X射線的粉末X射線衍射譜圖。(寸圖說明符號(hào)說明1導(dǎo)電性基體1A導(dǎo)電性基體的軸2內(nèi)擴(kuò)保持機(jī)構(gòu)3輪狀刷3A輪狀刷的軸4杯狀刷4A杯狀刷的軸5清潔刷14分離器15軸16夾套17定子19排出路21轉(zhuǎn)子24皮帶輪25f—口l轉(zhuǎn)接頭26原料漿料的供給口27篩支架28篩29制品漿料取出口31盤32葉片35閥體100密封環(huán)101接合環(huán)102彈簧103嵌合槽104O形環(huán)105軸106分離器107定位架108轉(zhuǎn)子109塞子110螺釘111排出路112孔113定位架14葉片嵌合槽115盤i16葉片201感光體202充電裝置(充電輥)203曝光裝置204顯影裝置205轉(zhuǎn)印裝置206清潔裝置207定影裝置241顯影槽242攪拌器243供給輥244顯影輥245調(diào)整部件271上部定影部件(定影輥)272下部定影部件(定影輥)273加熱裝置T調(diào)色劑P轉(zhuǎn)印材料(紙張、介質(zhì))具體實(shí)施例方式下面，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明，但以下記載的對(duì)構(gòu)成要件的說明為本發(fā)明的實(shí)施方式的代表例，在不脫離本發(fā)明的要點(diǎn)的范圍內(nèi)可以進(jìn)行任意變形來實(shí)施。本發(fā)明的電子照相感光體是在導(dǎo)電性基體上具有含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層以及在該底涂層上形成的感光層而構(gòu)成的。并且，在本發(fā)明的電子照相感光體中，使用的導(dǎo)電性基體具有規(guī)定的表面粗糙度，同時(shí)，使用的底涂層包含具有規(guī)定的粒徑分布的金屬氧化物顆粒。木發(fā)明的導(dǎo)電性基體具有規(guī)定范圍的最大高低粗糙度Rz，由此能夠防止千涉條紋缺陷。具體地說，木發(fā)明的導(dǎo)電性基休的表面最大高低粗糙度Rz通常為0.8夂im以l:，優(yōu)選為1.0|im以上，更優(yōu)選為.1以上，并丘通常為2|im以下，優(yōu)選為1.8)im以下，更優(yōu)選為1.6|_im以卜。如果最大高低粗糙度Rz過小，則反射光的散射效果可能不充分，如果Rz過大，則有時(shí)易出現(xiàn)圖像黑點(diǎn)等缺陷。此外，所述最大高低粗糙度Rz由JISB0601:2001所規(guī)定。并且，此處所稱的導(dǎo)電性基體的表面是指導(dǎo)電性基體的表面的至少一部分，但是通常是指導(dǎo)電性基體的成像區(qū)域。只要表面的粗糙度為上述范圍的最大高低粗糙度Rz，則對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面形狀沒有限制，并且使該導(dǎo)電性基體表面粗糙的方法也是任意的。例如，可以在與導(dǎo)電性基體的軸大致正交的方向上形成槽。這樣的槽大多是在通過切削加工對(duì)表面進(jìn)行粗糙化時(shí)形成的。但是，在這種情況下，射到感光體上的寫入光的反射光在與基體軸平行的特定面內(nèi)發(fā)生散射，可能不能充分得到抑制千涉條紋的效果。于是，當(dāng)對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面進(jìn)行粗糙化時(shí)，優(yōu)選在導(dǎo)電性基體的表面上形成在平面上展開導(dǎo)電性基體表面時(shí)為彎曲且不連續(xù)的ii形狀的微細(xì)槽(以下為方便起見，將其稱為"弧形槽")。此處，在平面上展開導(dǎo)電性基體表面時(shí)彎曲且不連續(xù)的形狀是指，將在導(dǎo)電性基體表面上觀察到的槽投影到平面上時(shí)的形狀，并且形成為該形狀的微細(xì)的槽有深度變化等，但開口部存在于基體表面內(nèi)，在與基體表面平行的面方向上該槽實(shí)質(zhì)上是彎曲且不連續(xù)的。通過弧形槽而使導(dǎo)電性基體的表面粗糙化，由于使用該表面粗糙化的導(dǎo)電性基體，導(dǎo)致導(dǎo)電性基體表面的反射光的規(guī)則性雜亂，該反射光與涂布膜(即，底涂層或感光層)界面反射光的干涉也雜亂。由此能夠提高抑制干涉條紋的效果。并且，在導(dǎo)電性基體的表面上形成直線狀的槽來進(jìn)行表面粗糙化的情況下，被槽散射的反射光的方向?yàn)樘囟ǖ慕嵌确较颍峭ㄟ^使槽形狀如弧形槽那樣為曲線時(shí)，被散射的反射光的方向產(chǎn)生微小變化。進(jìn)而，通過使槽不連續(xù)，使在槽的相接部分的反射光的方向發(fā)生變化。由此，只要進(jìn)行由弧形槽帶來的表面粗糙化，則在導(dǎo)電性基體表面上的反射光的方向就變得復(fù)雜，從而抑制干涉條紋的效果得到提高。此外，弧形槽優(yōu)選形成為網(wǎng)格形狀。即，在導(dǎo)電性基休的表面h形成的弧形槽通常被大量形成，因此在3電性基休的表面形成由大景弧形槽形成的槽圖案，但是該槽圖案也優(yōu)選成為網(wǎng)格形狀。由此，能夠更進(jìn)一歩提高導(dǎo)電性基體的表面形狀的不規(guī)則性，因此能夠更穩(wěn)定地防止干^'作為本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面的粗糙度的指標(biāo)，只要滿足上述的最大高低粗糙度Rz，就沒有其他限制，然而優(yōu)選滿足以下條件。艮P，本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面的峰度Rku通常為3.5以上，優(yōu)選為4.2以上，更優(yōu)選為4.5以上，并且通常為25以下，優(yōu)選為15以下，更優(yōu)選為9以下。峰度Rku是表示粗糙度分布波形的陡度的指標(biāo)，由于所述峰度Rku處于上述范圍內(nèi)，因此能夠防止成像時(shí)的圖像缺陷，并且導(dǎo)電性基體在實(shí)用上的生產(chǎn)率良好。此外，峰度Rku可以通過JISB0601:2001所規(guī)定的方法測(cè)定。在弧形槽稀疏的狀態(tài)峰度Rku取較大值，如果對(duì)導(dǎo)電性基體的表面進(jìn)行粗糙化，則峰度Rku有變小的傾向。峰度Rku根據(jù)加工法的不同而有若干差別，然而通常隨著表面粗糙化的進(jìn)行，峰度Rku逐漸變小，收斂于接近3的數(shù)值。此外，例如，利用如銜磨加工或噴砂加工那樣的技術(shù)進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，峰度Rku通常為2.53左右的情況比較多。此外，通過使用了刀具的切削加工進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，由于形成鋸齒狀的凹凸，峰度Rku通常為23左右的情況比較多。此外，形成了上述的弧形槽時(shí)，所述弧形槽的槽寬L通常為0.5(im以上，.優(yōu)選為0.6(im以上，更優(yōu)選為0.7iam以上，并且通常為6.0pm以下，優(yōu)選為4.0,以下，更優(yōu)選為3.0pm以下。如果所述槽寬L過狹，則導(dǎo)電性基體的生產(chǎn)率有時(shí)會(huì)降低，如果所述槽寬L過寬，則有時(shí)導(dǎo)電性基休的表面的凹凸的深度也相應(yīng)地變大，成像時(shí)易出現(xiàn)黑線等圖像缺陷。此處，槽寬L可以以如下方式測(cè)定利用光學(xué)顯微鏡在400倍的放大倍數(shù)下觀察導(dǎo)電性基體表面的任意20個(gè)槽，對(duì)各槽分別測(cè)定任意5點(diǎn)的槽寬，以所得到的總共100處的槽寬值的算術(shù)平均值作為槽寬L。特別足，優(yōu)選本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的上述最大高低粗糙度Rz、峰位Rku和槽寬L均處亍—匕述優(yōu)選范ill。即，特別優(yōu)選本發(fā)明的^U性基休的表面最大高低粗糙度Rz為0.8!imSRzS2pm，表面的峰度Rku為3.5^Rku^25，并且在表面形成的槽寬L為0.5nm^L^6.0|_im。作為本發(fā)明的導(dǎo)電性基體，可以使用公知的電子照相感光體所釆用的導(dǎo)電性基體?？梢耘e出例如，由鋁、不銹鋼、銅、鎳等金屬材料形成的鼓、片或者這些金屬材料的金屬箔的層積物、蒸鍍物，或者在表面設(shè)冇鋁、銅、鈀、氧化錫、氧化銦等導(dǎo)電性層的聚酯膜、紙等絕緣性基體等。此外，還可以舉出例如，將金屬粉末、炭黑、碘化銅、高分子電解質(zhì)等導(dǎo)電性物質(zhì)與適當(dāng)?shù)恼辰Y(jié)劑樹脂一起涂布而進(jìn)行了導(dǎo)電處理的塑料膜、塑料鼓、紙張、紙管等。另外，還可以舉出例如，含有金屬粉末、炭黑、碳纖維等導(dǎo)電性物質(zhì)而呈導(dǎo)電性的塑料片和塑料鼓等。此外，還可以舉出例如，以氧化錫、氧化銦等導(dǎo)電性金屬氧化物進(jìn)行了導(dǎo)電處理的塑料膜和塑料帶等。其中，優(yōu)選以鋁等金屬形成的環(huán)狀管。特別是鋁或鋁合金(以下，有時(shí)總稱為鋁)的環(huán)狀管能夠很好地用作本發(fā)明中的這種導(dǎo)電性基體。[1-3.導(dǎo)電性基體的制造方法]對(duì)導(dǎo)電性基體的表面進(jìn)行粗糙化來制造本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的方法是任意的。作為一般的表面粗糙化的方法，例如有如下方法利用車床等進(jìn)行切削加工來形成導(dǎo)電性基體的表面形狀，并在導(dǎo)電性基體的表面形成凹凸。通過所述切削加工能夠?qū)崿F(xiàn)上述的最大高低粗糙度Rz。但是，通過切削加工對(duì)表面進(jìn)行粗糙化時(shí)，表面粗糙度的微小變化有時(shí)會(huì)對(duì)干涉條紋的有無產(chǎn)生影響。因此，通過切削加工對(duì)表面進(jìn)行粗糙化時(shí)，對(duì)切削條件的維持控制需要給予細(xì)心的注意。并且，在通常的切削加工的情況中，如上所述，規(guī)則性高的連續(xù)的槽大多形成在與基體軸大致正交的方向上。于是，在本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的制造方法中，作為表面粗糙化的方法，優(yōu)選使撓性材料與-卜.述導(dǎo)電性基體表面接觸，并使所述撓性材料相對(duì)T!:述導(dǎo)電性基體表面進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，山此對(duì)基體進(jìn)行表面粗糙化。卜'面，對(duì)所述表面粗糙化方法進(jìn)行說明。首先，準(zhǔn)備作為表面粗糙化的對(duì)象的導(dǎo)電性基體。如上所述，導(dǎo)電性基體是任意的，但其中優(yōu)選鋁或鋁合金的環(huán)狀管。對(duì)于成型制造上述的環(huán)狀管時(shí)所使用的成型方法也沒有限制。作為成型方法，例如，己知有擠出加工、拉拔加工、切削加工、減薄拉深等，組合這些加工中的兩種以上的加工工序而將最終的環(huán)狀管成型的情況比較多。通常，進(jìn)行切削加工或減薄拉深來作為最終工序。其中，利用減薄拉深的成型由于生產(chǎn)率優(yōu)異而優(yōu)選。與利用切削加工來成型導(dǎo)電性基體的情況相比，利用減薄拉深來成型導(dǎo)電性基體能夠大幅縮短制造導(dǎo)電性基體所需的時(shí)間。作為鋁的環(huán)狀管，可以直接使用通過如上所述的常規(guī)加工法而成型的環(huán)狀管。但是，為了滿足作為電子照相感光體所要求的機(jī)械精度，優(yōu)選通過以下方法得到的導(dǎo)電性基休在進(jìn)行表面粗糙化之前，預(yù)先進(jìn)行14減薄拉深、切削加工、磨削加工、銜磨加工等加工(事前加工)中的至少--種加工，在導(dǎo)電性基體的表面上形成某種程度的凹凸后，將表面加工到規(guī)定的表面粗糙度(上述的最大高低粗糙度Rz)。.此外，使用鋁的環(huán)狀管以外的導(dǎo)電性基體時(shí)，也優(yōu)選預(yù)先進(jìn)行上述的事前加工，在導(dǎo)電性基體的表面形成某種程度的凹凸后，進(jìn)行弧形槽的形成。通過進(jìn)行這樣的事前加工，導(dǎo)電性基體的生產(chǎn)率得到提高。艮口，根據(jù)事前加工的種類，能夠在導(dǎo)電性基體的表面上形成沿軸向、圓周方向等存在的連續(xù)的或斷續(xù)的槽，與僅形成弧形槽的情況相比，能夠使導(dǎo)電性基體的表面形狀更加不規(guī)則，由此，能夠得到更優(yōu)異的抑制干涉條紋的效果。此外，在導(dǎo)電性基休的成型時(shí)進(jìn)行的加工之中，減薄拉深或切削加工等成型加工也起到上述的事前加工的作用。準(zhǔn)備好導(dǎo)電性基體以后，將撓性材料作為摩擦材料并使其與所述導(dǎo)電性基體的表面接觸，并使該摩擦材料相對(duì)移動(dòng)，由此形成弧形槽。摩檫材料在接觸部位發(fā)生變形，因而從接觸開始到接觸結(jié)束的期間摩擦速度發(fā)生變化而使槽成為曲線形狀。對(duì)于一般使用的具冇曲面的表而的3l乜性基體，只要不使導(dǎo)電性基體和摩擦材料的旋轉(zhuǎn)軸平行地接觸，槽就形成為曲線形狀。即，形成本發(fā)明的弧形槽時(shí)，導(dǎo)電性基體與摩檫材料的旋轉(zhuǎn)軸處于不平行的位置關(guān)系。作為撓性材料，可以舉出例如，橡膠、樹脂、海綿、刷、布、無紡布這樣的材料，但不限于這些。此外，為了提高弧形槽的生成效率，優(yōu)選在這些撓性材料中加入磨料，特別是，更優(yōu)選由混有磨料的樹脂形成使用幾乎沒有撓性的磨石那樣的材料作為摩擦材料時(shí)，導(dǎo)電性基體的表面產(chǎn)生具有較深傷痕的部位，因此不優(yōu)選。盡管通過使用細(xì)磨料能夠使槽較淺，但是在這種情況下，不僅生產(chǎn)率降低，而且磨石的氣孔發(fā)生堵塞的可能性存在。有時(shí)使用鋁或鋁合金作為導(dǎo)電性基體，但堵塞氣孔的磨削粉易被轉(zhuǎn)印到柔性的鋁或鋁合金的表面，由此易形成異物缺陷。并且，由于磨石在接觸部位幾乎不變形，因此大多形成長(zhǎng)度較短的直線狀槽。作為使用的刷，優(yōu)選在尼龍等樹脂中混有磨料的刷。一般使用的磨削刷主要利用在刷材料(所謂的"刷毛")的前端部的磨削力，但是對(duì)于加入磨料的刷，能夠有效地利用刷材料的體部進(jìn)行磨削。因此，能夠擴(kuò)大接觸部，使生產(chǎn)率也得到提高，進(jìn)而可充分發(fā)揮刷的彈性，使凹凸不過度增大且除去量也被控制在較少水平的穩(wěn)定的磨削成為可能。此外，由于刷材料的柔軟性和接觸部分經(jīng)常變化，因此也難以產(chǎn)生氣孔堵塞。通過充分發(fā)揮該特征，還可以使用在磨石磨削時(shí)堵塞氣孔而不能使用的小粒徑磨料，從而能夠容易地使表面粗糙度較小，因此對(duì)除干涉條紋以外的圖像缺陷也有較好的效果。進(jìn)而，形成的弧形槽的不規(guī)則性高，這也對(duì)干涉條紋的抑制產(chǎn)生較好的效果。此外，可以利用所使用的刷材料的長(zhǎng)度、硬度、植針密度、混入刷中的磨料的粒徑等物性、以及刷的轉(zhuǎn)速、刷與導(dǎo)電性基體接觸的時(shí)間等處理?xiàng)l件來控制上述的最大高低粗糙度&、峰度Rku和槽寬L。在這些參數(shù)中，特別是最大高低粗糙度Rz受到混入刷中的磨料的粒徑的影響較大，如果磨料粒徑較大，則Rz也較大，如果磨料粒徑較小，則Rz也有變小的傾向。因此，使用的所述磨料的粒徑通常為1以上，優(yōu)選為5以上并且通常為50pm以下，優(yōu)選為35(im以下。此外，峰度Rku與刷接觸導(dǎo)電性基體的頻率有關(guān)，特別是峰度Rku根據(jù)刷的轉(zhuǎn)速、刷和導(dǎo)電性基體的處理時(shí)間和利用刷進(jìn)行表面粗糙化處理的處理次數(shù)的不同而變化。通常，開始處理時(shí)峰度Rku較大，隨著處理的進(jìn)行，峰度Rku變小。因而，通過對(duì)處理過程中的峰度Rku進(jìn)行測(cè)量，只要在峰度Rku達(dá)到上述的適宜的范圍的時(shí)刻停止處理，就能夠得到形成了所期望的弧形槽的導(dǎo)電性基體。此外，進(jìn)行表面粗糙化處理時(shí)的條件既可以是恒定的，也可以是變化的。'特別是，如果進(jìn)行2次以上不同條件的處理，則能夠使弧形槽形成為網(wǎng)格形狀，因而進(jìn)行2次以上不同條件的處理是優(yōu)選的?？墒牵话憷们邢骷庸?、磨削加工、珩磨加工等在導(dǎo)電性基體表面形成凹凸時(shí)，會(huì)產(chǎn)生微細(xì)的毛刺，這是眾所周知的。在導(dǎo)電性基休上形成底涂層和感光層時(shí)所述毛刺會(huì)導(dǎo)致在底涂層或感光層上局部形成膜厚較薄的部分，常會(huì)在圖像上出現(xiàn)黑點(diǎn)、色點(diǎn)、黑線等圖像缺陷。但是，如上所述，使撓性材料作為摩擦材料與導(dǎo)電性基體表面接觸，并進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，由此可以除去導(dǎo)電性基體表面的毛刺。因此，利用本發(fā)明的導(dǎo)電性基體的表面粗糙化方法，還可以得到如下優(yōu)點(diǎn)即使由于事前處理而產(chǎn)生毛刺，但最終也不會(huì)降低導(dǎo)電性基體的品質(zhì)。下面，對(duì)于上述的表面粗糙化方法，舉出實(shí)例進(jìn)行具體說明。圖1為用于說明導(dǎo)電性基體的表面粗糙化方法的一個(gè)實(shí)例的示意圖。導(dǎo)電性基體1被內(nèi)擴(kuò)保持機(jī)構(gòu)2可旋轉(zhuǎn)地保持，并且其隨著內(nèi)擴(kuò)保持機(jī)構(gòu)2的旋轉(zhuǎn)而繞軸(以下為方便起見稱其為"基體軸")1A旋轉(zhuǎn)。作為以撓性材料形成的摩擦材料的輪狀刷3被設(shè)置成可移動(dòng)且可繞軸(以F為方便起見稱其為"刷軸")3A旋轉(zhuǎn)，以使所述刷材料可與導(dǎo)電性基體1接觸。由此，使刷3以刷軸3A為中心旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，能夠?qū)?dǎo)電性基體1做相對(duì)移動(dòng)。刷3的移動(dòng)方向是任意的，只要導(dǎo)電性基體1的農(nóng)面的成像ix:域中的部位能夠與刷3接觸即可，何是通常刷3^與4!htt:基體i的軸向平行的方向(圖i中的上下方向)匕移動(dòng)。在如本例那樣的輪狀刷3的情況中，優(yōu)選刷3的旋轉(zhuǎn)軸(通常為刷軸3A)處于不平行于導(dǎo)電性基體1的位置關(guān)系以形成弧形槽(參見圖2、圖3)。即，由于可以防止因?qū)щ娦曰w1和刷3的旋轉(zhuǎn)軸的傾斜或刷的偏磨耗產(chǎn)生的接觸不均一而導(dǎo)致出現(xiàn)加工不均，因此優(yōu)選將刷3的旋轉(zhuǎn)軸(即，刷軸3A)設(shè)定在與導(dǎo)電性基體1的基體軸1A不處于同一平面上的位置(扭曲的位置)。這是因?yàn)?，基體軸1A與刷軸3A平行時(shí)，難以形成彎曲且不連續(xù)的弧形槽。并且還因?yàn)椋?這種情況下，由于刷材料的長(zhǎng)度差和密度差導(dǎo)致刷3出現(xiàn)研磨力的不均勻性(特別是在刷軸3A的方向上的不均勻性)，所述不均勻性被直接轉(zhuǎn)印到導(dǎo)電性基體1的表面，由此有時(shí)導(dǎo)電性基體1的表面的研磨狀態(tài)也在軸向變得不均勻而導(dǎo)致有時(shí)出現(xiàn)不均。此外，利用如日本特開平9-14118號(hào)公報(bào)所公開的使刷3或?qū)щ娦曰輙在軸向上進(jìn)行相對(duì)擺動(dòng)的技術(shù)改善了局部的加工不均，但是在這種情況中，從導(dǎo)電性基體l的整個(gè)軸向上看時(shí)還會(huì)出現(xiàn)加工不均。以如本例那樣的構(gòu)成形成弧形槽時(shí)，使刷3與導(dǎo)電性基體1的表面接觸，在旋轉(zhuǎn)刷3的同時(shí)，使刷3在導(dǎo)電性基體1的軸向上移動(dòng)。'此時(shí)，使導(dǎo)電性基體1也以基體軸1A為中心旋轉(zhuǎn)。此外，在圖1中，以箭頭表示導(dǎo)電性基體1和刷3的旋轉(zhuǎn)方向。由此，刷3發(fā)生彈性變形的同時(shí)與導(dǎo)電性基體1接觸，因此在導(dǎo)電性基體1的表面上形成弧形槽。特別是，如圖1那樣，將基體軸1A與刷軸3A配置成大體正交時(shí)，由于將刷3的轉(zhuǎn)速設(shè)定得較低且將刷3接觸基體的長(zhǎng)度(接觸長(zhǎng)度)(當(dāng)/"c:^代)設(shè)定得較小，因此展開導(dǎo)電性基體l時(shí)形成如圖2所示的斜向的弧形槽。另一方面，如果提高刷3的轉(zhuǎn)速且增大接觸長(zhǎng)度，則形成圖3所示的斜網(wǎng)格形狀的弧形槽。兩者相比較，更優(yōu)選提高刷3的轉(zhuǎn)速且增大接觸長(zhǎng)度，因?yàn)檫@樣提高了生產(chǎn)率。此外，通常刷3與導(dǎo)電性基休1進(jìn)行一次相對(duì)移動(dòng)足以，但也可以進(jìn)行兩次以上。進(jìn)行兩次以上相對(duì)移動(dòng)時(shí)，既可以總向一個(gè)方向移動(dòng)，也可以相對(duì)地來冋移動(dòng)。此外，在本實(shí)例中，使用了輪狀刷3，但對(duì)刷形狀沒有限制。例如，也可以使用如圖4所示的杯狀刷4等。在使用杯狀刷4時(shí)，H要刷軸4A不平行于基體軸1A，則軸1A、4A兩者也可以在同一平面上。此外，在圖4中，以與圖1相同的符號(hào)表示的部位代表與圖1相同的部位。此外，使用如圖1所示的輪狀刷3時(shí)，對(duì)輪狀刷3的構(gòu)成沒有限制。因此，'可以采用將刷材料鋸齒狀地植針到導(dǎo)電性基體1上的構(gòu)成，但為了進(jìn)一歩提高植針密度，輪狀刷優(yōu)選為通過將盤刷(channelbrush)4纏繞在軸材上等方式構(gòu)成的刷。:此外，如圖5所示，可以使用2個(gè)以上的刷3。通過使用2個(gè)以上—:的刷3而使生產(chǎn)率得到提高，并且能夠通過改變各刷3的旋轉(zhuǎn)條件而使導(dǎo)電性基體1的表面成為形狀更復(fù)雜的粗糙表面，因此還能夠進(jìn)一步提高干涉條紋抑制效果。此外，在圖5中，以與圖1同樣的符號(hào)表示的部位代表與圖l相同的部位?？墒?，有時(shí)在導(dǎo)「tl性基體l的表面會(huì)殘留有硏磨粉(例如，被切削—I;來的導(dǎo)電性基體l的粉等)。并且，在刷3含有磨料時(shí)，該磨料有時(shí)也會(huì)從刷3中脫落而殘留在導(dǎo)電性基體1的表面上。因此，優(yōu)選在進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，一邊對(duì)導(dǎo)電性基體1施用清洗液或者將導(dǎo)電性基體1浸漬于清洗液中，一邊實(shí)施表面粗糙化，以從導(dǎo)電性基體1的表面上除去所述研磨粉和從刷3中脫落下來的磨料等微粒。對(duì)清洗液沒有限制，可以使用有機(jī)系、水系等各種清洗劑，但是也可以使用在半導(dǎo)體清洗中使用的氨水(7y乇二了添加水)以防止微粒的吸附。進(jìn)而，通過表面粗糙化而在導(dǎo)電性基體1的表面露出新生面，因而在表面粗糙化后不立即涂布形成底涂層的情況下，為了防止表面腐蝕，也可以使用加工油代替清洗液來實(shí)施表面粗糙化，并能保護(hù)導(dǎo)電性基體1的表面。也包括了上述情況，優(yōu)選在表面粗糙化后、底涂層形成前實(shí)施修整清洗，而且從提高生產(chǎn)率的角度出發(fā)，更優(yōu)選在底涂層形成前的導(dǎo)電性基體的清潔工序中組合進(jìn)表面粗糙化工序。例如，如圖6所示，在清潔刷5的正下方設(shè)置用于表面粗糙化的刷3，由此能夠在粗糙化后立即進(jìn)行強(qiáng)力的物理清潔，從而能夠一邊保持導(dǎo)電性基休1的表面處于清沾狀態(tài)一邊進(jìn)行表面粗糙化。此外，在圖6中，以與圖1相同的符號(hào)表示的部位代表與圖1相同的部位。并且，此處通過刷3的移動(dòng)來使刷3相對(duì)于導(dǎo)電性基體1進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，但是也可以通過使導(dǎo)電性基體1移動(dòng)來使刷3相對(duì)于導(dǎo)電性基體1進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。并且，還可以通過導(dǎo)電性基體1和刷3兩者的移動(dòng)來使刷3對(duì)導(dǎo)電性基體1做相對(duì)移動(dòng)。關(guān)于導(dǎo)電性基體的其他事項(xiàng)]使用鋁合金等金屬材料作為導(dǎo)電性基體時(shí)，也可以使用實(shí)施了陽極氧化處理的鋁合金等金屬材料。在對(duì)鋁合金等金屬材料實(shí)施了陽極氧化處理的情況下，優(yōu)選利用公知方法實(shí)施封孔處理。底涂層為含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的層。此外，只要不顯著損害木發(fā)明的效果，.底涂層還可以含有其他成分。本發(fā)明的底涂層設(shè)在導(dǎo)電性基體和感光層之間，其至少具有以下功19能之一改善導(dǎo)電性基體與感光層的粘結(jié)性、遮蓋導(dǎo)電性基體的污垢和傷痕等、防止因雜質(zhì)或表面物性的不均質(zhì)化導(dǎo)致的載流子注入、改良電學(xué)特性的不均一性、防止因反復(fù)使用導(dǎo)致的表面電位降低、防止導(dǎo)致畫質(zhì)缺陷的局部表面電位變動(dòng)等功能，底涂層不是為呈現(xiàn)光電特性而必需的層。作為本發(fā)明的金屬氧化物顆粒，也可以使用任意的可用于電子照相感光體的金屬氧化物顆粒。作為形成金屬氧化物顆粒的金屬氧化物的具體例，可以舉出二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、氧化鋅、氧化鐵等包含一種金屬元素的金屬氧化物；鈦酸鈣、鈦酸鍶、鈦酸鋇等包含兩種以上金屬元素的金屬氧化物等。在這些之巾，優(yōu)選由帶隙為2eV4eV的金屬氧化物構(gòu)成的金屬氧化物顆粒。這是因?yàn)?，如果帶隙過小，則易于引起來自導(dǎo)電性基體的載流子注入，易于發(fā)生黑點(diǎn)和色點(diǎn)等圖像缺陷。并且，如果帶隙過大，則因電子被捕獲而阻礙電荷的移動(dòng)，電學(xué)特性可能惡化。此外，作為金屬氧化物顆粒，可以僅使用一種顆粒，也可以以任意的組合和比例合用兩種以上的顆粒。并且，作為金屬氧化物顆粒，5/以使用僅由一種金屬氧化物形成的顆粒，也可以使用以任意組合和比例合用兩種以上的金屬氧化物而形成的顆粒。在形成上述金屬氧化物顆粒的金屬氧化物之中，優(yōu)選二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅和氧化鋅，更優(yōu)選二氧化鈦和氧化鋁，特別優(yōu)選二氧化鈦。此外，金屬氧化物顆粒的晶型是任意的，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可。例如，對(duì)使用二氧化鈦?zhàn)鳛榻饘傺趸锏慕饘傺趸镱w粒(即，二氧化鈦顆粒)的晶型沒有限制，可以使用金紅石型、銳鈦礦型、板鈦礦型、無定形二氧化鈦中的任意一種。并且，二氧化鈦顆粒的晶型可以包含來自所述結(jié)晶狀態(tài)不同的二氧化鈦中的2個(gè)以上結(jié)晶狀態(tài)的二氧化鈦。此外，可以對(duì)金屬氧化物顆粒的表面進(jìn)行各種表面處理?？梢詫?shí)施利用如下處理劑的處理例如，氧化錫、氧化鋁、氧化銻、氧化鋯、二氧化硅等無機(jī)物；或硬脂酸、多元醇、有機(jī)硅化合物等有機(jī)物等。特別是，使用二氧化鈦顆粒作為金屬氧化物顆粒時(shí)，優(yōu)選利用有機(jī)硅化合物對(duì)其進(jìn)行了表面處理。作為有機(jī)硅化合物，可以舉出例如，二甲基聚硅氧烷、甲基氫聚硅氧垸等硅油；甲基二甲氧基硅垸、二苯基二甲氧基硅垸等有機(jī)硅烷；六甲基二硅氮烷等硅氮烷；乙烯基三甲氧基硅垸、Y-巰基丙基三甲氧基硅烷、Y-氨基丙基三乙氧基硅垸等硅烷偶聯(lián)劑等。此外，金屬氧化物顆粒特別優(yōu)選利用以下式(i)的結(jié)構(gòu)表示的硅烷處理劑進(jìn)行處理。該硅垸處理劑為與金屬氧化物顆粒的反應(yīng)性非常好的處理劑。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>(i)l二式(i)屮，R'和R"各自獨(dú)立地表示烷基。對(duì)R'和R"的碳原于數(shù)沒有限制，然而通常為1以上，并且通常為18以下，優(yōu)選為]0以卜，更優(yōu)選為6以下。作為R'和R"的優(yōu)選例，可以舉出屮基、乙基等。此外，在上式(i)中，F(xiàn)^表示垸基或垸氧基，對(duì)W的碳原子數(shù)沒有限制，然而通常為1以上，并且通常為18以下，優(yōu)選為10以下，更優(yōu)選為6以下。作為W的優(yōu)選例，可以舉出甲基、乙基、甲氧基、乙氧基等。如果R1113的碳原子數(shù)過多，則其與金屬氧化物顆粒的反應(yīng)性可能降低，或者處理后的金屬氧化物顆粒在底涂層形成用涂布液中的分散穩(wěn)定性可能會(huì)降低。此外，這些經(jīng)表面處理的金屬氧化物顆粒的最外表面通常被如上所述的處理劑進(jìn)行了處理。此時(shí)，對(duì)于上述的表面處理，可以僅進(jìn)行一種表面處理，也可以以任意組合進(jìn)行2種以上的表面處理。例如，也可以在用以上式(i)表示的硅垸處理劑進(jìn)行表面處理之前利用氧化鋁、二氧化硅或氧化鋯等處理劑等進(jìn)行處理。并且，還可以以仟意的組合和比例合用實(shí)施r不同的表面處理的金屬氧化物顆粒。在本發(fā)明的金屬氧化物顆粒之中，可以舉出已商品化的金屬氧化物顆粒的實(shí)例。但是，本發(fā)明的金屬氧化物顆粒并不限于以下例示出的商TOo作為二氧化鈦顆粒的具體的商品實(shí)例，可以舉出，未實(shí)施表面處理的超微粒二氧化鈦"TTO-55(N)";實(shí)施了A1203被覆的超微粒二氧化鈦"TTO-55(A)"、"TTO-55(B)";利用硬脂酸實(shí)施了表面處理的超微粒二氧化鈦"TTO-55(C)";利用Al203和有機(jī)硅氧烷實(shí)施了表面處理的超微粒二氧化鈦"TTO-55(S)";高純度二氧化鈦"CR-EL";硫酸法二氧化鈦"R-550"、"R-580"、"R-630"、"R-670"、"R-680"、"R-780"、"A-100"、"A-220"、"W-10";氯化法二氧化鈦"CR-50"、"CR-58"、"CR-60"、"CR-60-2"、"CR-67";導(dǎo)電性二氧化鈦"SN-100P"、"SN-100D"、"ET-300W";(以上均為石原產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)等。并且，以"R-60"、"A-110"、"A-150"等二氧化鈦為代表，還可以舉出實(shí)施了Al203被覆的"SR-l，，、"R-GL"、"R-5N"、"R-5N-2"、"R-52N"、"RK-1"、"A-SP，，；實(shí)施了Si02、A1203被覆的"R-GX"、"R-7E":實(shí)施了ZnO、Si02、A1203被覆的"R-650";實(shí)施了Zr02、A1203被覆的"R-61N";(以上為傻化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)。此外還可以舉出，用SK32、A1203進(jìn)行—/表面處理的"TR-700";用ZnO、Si02、八1203進(jìn)行『農(nóng)而處理的"TR-840"、"TA-500"，此外還可以舉出，"TA-100"、"TA-200"、"TA-300"等表面未處理的二氧化鈦；用A1203實(shí)施了表面處理的"TA-400"(以上為富士鈦工業(yè)株式會(huì)社制造)；未實(shí)施表面處理的"MT-150W"、"MT-500B";用Si02、A1203進(jìn)行了表面處理的"MT-100SA"、"MT-500SA";用Si02、A1203和有機(jī)硅氧烷進(jìn)行了表面處理的"MT-100SAS"、"MT-500SAS"(TAYCA株式會(huì)社制造)等。此外，作為氧化鋁顆粒的具體的商品實(shí)例，可以舉出"AlmmniumOxideC"(NIPPONAEROSILCO.,LTD.制造)等。此外，作為二氧化硅顆粒的具體的商品實(shí)例，可以舉出"200CF'、"R972"(NIPPONAEROSILCO.，LTD.制造)、"KEP-30"(日本觸媒株式會(huì)社制造)等。此外，作為氧化錫顆粒的具體的商品實(shí)例，可以舉出"SN-100P"(石原產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)等。此外，作為氧化鋅顆粒的具體的商品實(shí)例，可以舉出"MZ-305S"(TAYCA株式會(huì)社制造)等。[II-1-2.金屬氧化物顆粒的物性]對(duì)于本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的粒徑分布，以下要點(diǎn)是成立的。艮口，將本發(fā)明的這樣的底涂層分散在以7:3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體(以下為方便起見稱其為"底涂層測(cè)定用分散液")中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為0.1pm以下且累積90%粒徑為0.3pm以下，所述體積平均粒徑和累積90%粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。下面對(duì)所述要點(diǎn)進(jìn)行詳細(xì)說明。(關(guān)于金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑)本發(fā)明的金屬氧化物顆粒在底涂層測(cè)定用分散液中的利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的體積平均粒徑為0.1pm以下，優(yōu)選為95nm以下，更優(yōu)選為90nm以下。并且，對(duì)所述體積平均粒徑的下限沒有限制，然而通常為20nm以匕由于本發(fā)明的金屬氧化物顆粒滿足所述范圍，[天l此本發(fā)明的電子照相感光體在低溫低濕F的反復(fù)曝光-充電特性穩(wěn)定，能夠抑制在所得到的圖像上出現(xiàn)黑點(diǎn)、色點(diǎn)等圖像缺陷。(關(guān)于金屬氧化物顆粒的累積90%粒徑)本發(fā)明的金屬氧化物顆粒在底涂層測(cè)定用分散液中的利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的累積90%粒徑為0.3pm以下，優(yōu)選為0.25pm以下，更優(yōu)選為0.2pm以下。并且，對(duì)所述累積90%粒徑的下限沒有限制，然而通常為10nm以上，優(yōu)選為20nm以上，更優(yōu)選為50nm以上。在現(xiàn)有的電子照相感光體中，底涂層含有粗大的金屬氧化物顆粒凝集體，該凝集體是由金屬氧化物顆粒凝集而形成的，并且該凝集體粗大到能夠貫通底涂層表里的程度，所述粗大的金屬氧化物顆粒凝集體導(dǎo)致成像時(shí)可能出現(xiàn)缺陷。此外，在使用接觸式的裝置作為充電單元的情況中，也存在如下可能性對(duì)感光層進(jìn)行充電時(shí)，電荷通過所述金屬氧化物顆粒從感光層移動(dòng)到導(dǎo)電性支持體，從而不能進(jìn)行適當(dāng)?shù)爻潆?。但是，在本發(fā)明的電子照相感光體中，累積90%粒徑非常小，因此如上所述，導(dǎo)致缺陷的較大的金屬氧化物顆粒非常少。其結(jié)果，利用本發(fā)明的電子照相感光體能夠抑制缺陷的發(fā)生以及避免不能適當(dāng)?shù)爻潆?，能夠進(jìn)行高品質(zhì)成像。(體積平均粒徑和累積90%粒徑的測(cè)定方法)本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的上述體積平均粒徑和上述累積90%粒徑是通過如下方式得到的值將底涂層分散在將甲醇與1-丙醇以7:3的重量比混合得到的混合溶劑(該混合溶劑是粒度測(cè)定時(shí)的分散介質(zhì))中，制備出底涂層測(cè)定用分散液，利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定所述底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒的粒度分布，由此得到上述體積平均粒徑和上述累積90%粒徑的值。動(dòng)態(tài)光散射法如下將激光照射到顆粒上，檢測(cè)出與微分散顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)速度相對(duì)應(yīng)的不同相位的光散射(多普勒頻移)，從而求出粒度分布。底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑的值為在底涂層測(cè)定用分散液中金屬氧化物顆粒穩(wěn)定分散時(shí)的值，并不是指底涂層形成后的在底涂層內(nèi)的粒徑。在實(shí)際測(cè)定中，具體地說，所述體積平均粒徑和累積90%粒徑為使用動(dòng)態(tài)光散射式粒度分析儀(閂機(jī)裝社制造，MICROTRACUPAmodel:9340-UPA，以下簡(jiǎn)稱為UPA)在如下設(shè)定下進(jìn)行測(cè)定得到的。具體的測(cè)定操作基于所述粒度分析儀的操作說明書(日機(jī)裝社制，資料No.T15-490A00，修訂No.E)進(jìn)行。動(dòng)態(tài)光散射式粒度分析儀的設(shè)定測(cè)定上限5.9978(im測(cè)定下限0.0035,通道數(shù)44測(cè)定時(shí)間300秒顆粒透過性吸收顆粒折射率N/A(不應(yīng)用)顆粒形狀非球形密度4.20g/cm3(*)分散介質(zhì)種類甲醇/1-丙醇=7/3分散介質(zhì)折射率1.35(*)密度值是為二氧化鈦顆粒時(shí)的值，在為其他顆粒時(shí)使用上述操作說明書中記載的數(shù)值。此外，作為分散介質(zhì)的甲醇與l-丙醇的混合溶劑(重量比甲醇/1-丙醇=7/3;折射率=1.35)的用量為使作為試樣的底涂層測(cè)定用分散液的樣品濃度指數(shù)(SIGNALLEVEL:信號(hào)電平)達(dá)到0.60.8的量。此外，利用動(dòng)態(tài)光散射測(cè)定粒度是在25"C進(jìn)行的。本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑是指，如上所述利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定粒度分布時(shí)，以金屬氧化物顆粒的總體積為100%，利用所述動(dòng)態(tài)光散射法求出從小粒徑側(cè)開始的體積粒度分布的累積曲線時(shí)，以該累積曲線達(dá)到50%的點(diǎn)的粒徑為體積平均粒徑(中位徑Median徑(中值徑))，以累積曲線達(dá)到90%的點(diǎn)的粒徑為累積90%粒徑。(其他物性)對(duì)本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的平均---次粒徑?jīng)]有限制，只要不顯著損害本發(fā)明的效果，所述平均-次粒徑就是任意。但是，本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的平均一次粒徑通常為1nm以上，優(yōu)選為5nm以匕并且通常為100nm以F，優(yōu)選為70nm以下，更優(yōu)選為50nm以下。此外，所述平均一次粒徑可以山利用透射電子顯微鏡(Transmissionelectronmicroscope:以下為方便起見稱其為"TEM")直接觀察到的顆粒粒徑的算術(shù)平均值求出。此外，對(duì)本發(fā)明的金屬氧化物顆粒的折射率也沒有限制，只要能夠用于電子照相感光體，就也可以使用任意折射率的金屬氧化物顆粒。木發(fā)明的金屬氧化物顆粒的折射率通常為1.3以上，優(yōu)選為1.4以上，并且通常為3.0以下，優(yōu)選為2.9以下，更優(yōu)選為2.8以下。此外，金屬氧化物顆粒的折射率可以使用記載于各種出版物的文獻(xiàn)值。例如，根據(jù)《7一，一活用辭典》(7一，一研究會(huì)編，大成社，1994)，金屬氧化物顆粒的折射率如下表1所示。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>在本發(fā)明的底涂層中，金屬氧化物顆粒與粘結(jié)劑樹脂的使用比例是任意的，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可。但是，在本發(fā)明的底涂層屮，相對(duì)干1重量份粘結(jié)劑樹脂，金屬氧化物顆粒在如下范闈使用通常為().5—屯量份以上，優(yōu)選為0.7:'￡量份以—匕更優(yōu)選為1.0重量份以卜.，并且通常為8重量份以下，優(yōu)選為4重量份以下，史優(yōu)選為3.8重量份以下，特別優(yōu)選為3.5重量份以下。如果金屬氧化物顆粒相對(duì)于粘結(jié)劑樹脂過少，則所得到的電子照相感光體的電學(xué)特性惡化，特別是殘余電位可能上升，如果金屬氧化物顆粒相對(duì)于粘結(jié)劑樹脂過多，則在使用該電子照相感光體而形成的圖像上黑點(diǎn)或色點(diǎn)等圖像缺陷可能會(huì)增加。[II-2.粘結(jié)劑樹脂]作為本發(fā)明的底涂層中所使用的粘結(jié)劑樹脂，可以使用任意的粘結(jié)劑樹脂，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可。通常使用如下粘結(jié)劑樹脂，該粘結(jié)劑樹脂可溶于有機(jī)溶劑等溶劑，并且該樹脂使底涂層不溶于感光層形成用的涂布液所使用的有機(jī)溶劑等溶劑或者使底涂層在感光層形成用的涂布液所使用的有機(jī)溶劑等溶劑中的溶解性低而實(shí)質(zhì)上不發(fā)生混口。作為這樣的粘結(jié)劑樹脂，可以單獨(dú)使用如下樹脂或者以與固化劑-起固化的形式來使用如下樹脂例如，苯氧、環(huán)氧、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、酪蛋白、聚丙烯酸、纖維素類、明膠、淀粉、聚氨酯、聚酰亞胺、聚酰胺等樹脂。其中，醇可溶性的共聚聚酰胺、改性聚酰胺等聚酰胺樹脂因顯示出良好的分散性和涂布性而優(yōu)選。作為聚酰胺樹脂，'可以舉出例如，使尼龍-6、尼龍-66、尼龍-610、尼龍-il、尼龍-12等共聚得到的所謂的共聚尼龍；如N-烷氧基甲基改性尼龍、N-烷氧基乙基改性尼龍那樣的對(duì)尼龍進(jìn)行了化學(xué)改性的類型等醇可溶性尼龍樹脂，等等。作為具體的商品，可以舉出例如"CM4000"、"CM8000"(以上為東麗制造)、"F-30K"、"MF-30"、"EF-30T"(以上為NagaseChemteX株式會(huì)社制造)等。在這些聚酰胺樹脂之中，特別優(yōu)選地使用包含與以下式(ii)表示的二胺對(duì)應(yīng)的二胺成分(以下為方便起見稱其為"與式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分")作為構(gòu)成成分的共聚聚酰胺樹脂。在上式(ii)中，WF^表示氫原子或有機(jī)取代基。m、n各自獨(dú)立地表示()4的整數(shù)。此外，取代基為2個(gè)以上時(shí)，這些取代基可以相互相同，也可以不同。對(duì)于適合作為以R"R"表示的有機(jī)取代基的實(shí)例，可以舉出含雜原子或不含雜原子的烴基。作為其中優(yōu)選的實(shí)例，可以舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基等烷基；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基等烷氧基；苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，進(jìn)一步優(yōu)選垸基或烷氧基。特別優(yōu)選甲基、乙基。此外，以WW表示的有機(jī)取代基的碳原子數(shù)是任意的，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可，但通常為20以下，優(yōu)選為18以下，更優(yōu)選為12以下，并且通常為1以上。如果碳原子數(shù)過大，則準(zhǔn)備底涂層形成用涂布液時(shí)聚酰胺樹脂在溶劑中的溶解性惡化，并且即使能夠溶解，作為底涂層形成用涂布液的保存穩(wěn)定性顯示出惡化的傾向。含有與上式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分作為構(gòu)成成分的共聚聚酰胺樹脂還可以含有除了與式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分以外的構(gòu)成成分(以下為方便起見簡(jiǎn)稱為"其他聚酰胺構(gòu)成成分")作為構(gòu)成單元。作為其他聚酰胺構(gòu)成成分，可以舉出例如，，丁內(nèi)酰胺、e-己內(nèi)酰胺、十二碳內(nèi)酰胺等內(nèi)酰胺類；1，4-丁烷二羧酸、1,12-十二烷二羧酸、1，20-二十烷二羧酸等二羧酸類；1，4-丁二胺、1,6-己二胺、1,8-辛二胺、、,12-十二烷二胺等二胺類；哌嗪等等。此時(shí)，對(duì)于所述共聚聚酰'胺樹脂，可以舉出使其構(gòu)成成分進(jìn)行二元共聚、三元共聚、四元共聚等而形成的共聚物。含有與上式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分作為構(gòu)成成分的共聚聚酰胺樹脂含有其他聚酰胺構(gòu)成成分作為構(gòu)成單元時(shí)，對(duì)與式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分占總構(gòu)成成分的比例沒有限制，然而通常該比例為5摩爾％以上，優(yōu)選為10摩爾％以上，更優(yōu)選為15摩爾％以上，并且通常為40摩爾％以下，優(yōu)選為30摩爾％以下。如果與式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分過多，則底涂層形成用涂布液的穩(wěn)定性可能變差，'如果與式(ii)對(duì)應(yīng)的二胺成分過少，則在高溫高濕條件下電學(xué)特性的變化增大，電學(xué)特性對(duì)環(huán)境變化的穩(wěn)定性可能變差。以下給出卜.述共聚聚酰胺樹脂的具體例。其中，在具體例中共聚比例農(nóng)示單體的投料比例(摩爾比例)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>對(duì)上述的共聚聚酰胺的制造方法沒有特別限制，通常的聚酰胺的縮聚方法是適合使用的。例如熔融聚合法、溶液聚合法、界面聚合法等縮聚方法可適合使用。此外，在聚合時(shí)，聚合體系中可以含有例如乙酸、苯甲酸等一元酸；己胺、苯胺等一元堿等作為分子量調(diào)節(jié)劑。此外，粘結(jié)劑樹脂可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。此外，對(duì)本發(fā)明的粘結(jié)劑樹脂的數(shù)均分子量也沒有限制。例如，使用共聚聚酰胺作為粘結(jié)劑樹脂時(shí)，共聚聚酰胺的數(shù)均分子量通常為ioooo以上，優(yōu)選為15000以上，并且通常為50000以下，優(yōu)選為35000以下。數(shù)均分子量過小或者過大，均難以保持底涂層的均勻性。[II-3.其他成分]只要不顯著損害本發(fā)明的效果，本發(fā)明的底涂層還可以含有除上述的金屬氧化物顆粒、粘結(jié)劑樹脂和溶劑以外的成分。例如，底涂層中還可以含有添加劑作為其他成分。作為添加劑，可以舉出例如，以亞磷酸鈉、次磷酸鈉、亞磷酸、次磷酸和受阻酚為代表的熱穩(wěn)定劑、其他聚合添加劑、抗氧化劑等。此外，添加劑可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。(膜厚)底涂層的膜厚是任意的，但從提高本發(fā)明的電子照相感光體的感光體特性和涂布性的方面考慮，優(yōu)選底涂層的膜厚處于以下范圍通常為0.1iam以上，優(yōu)選為0.3以1:，更優(yōu)選為0.5(im以上，并且通常為20|am以F，優(yōu)選為15)am以下，更優(yōu)選為10以下。(表面粗糙度)對(duì)本發(fā)明的底涂層的表面形狀沒有限制，但是通常表面均方根粗糙度(RMS)、表面算術(shù)平均粗糙度(Ra)、表面最大粗糙度(P-V)具有特征數(shù)值。此外，這些數(shù)值為將JISB0601:2001標(biāo)準(zhǔn)中的均方根高度的基準(zhǔn)長(zhǎng)度、算術(shù)平均高度的基準(zhǔn)長(zhǎng)度、最大高度的基準(zhǔn)長(zhǎng)度擴(kuò)展到基準(zhǔn)面而得到的數(shù)值，并[i使用基準(zhǔn)面的在高度方向的值Z(x)，表面均方根粗糙度(RMS)表示Z(x)的均方根，表面算術(shù)平均粗糙度(Ra)表示Z(x)的絕對(duì)值的平均，表面最大粗糙度(P-V)表示Z(x)的峰高度的最大值與谷深度的最大值之和。本發(fā)明的底涂層的表面均方根粗糙度(RMS)處于以下范圍通常為10nm以上，優(yōu)選為20nm以上，并且通常為100nm以下，優(yōu)選為50nm以下。如果表面均方根粗糙度(RMS)過小，則底涂層與上層的粘結(jié)性可能會(huì)惡化，如果表面均方根粗糙度(RMS)過大，則可能會(huì)導(dǎo)致上層的涂布膜厚度的均勻性的惡化。.本發(fā)明的底涂層的表面算術(shù)平均粗糙度(Ra)處于以下范圍通常為10nm以上，并且通常為50nm以下。如果所述表面算術(shù)平均粗糙度(Ra)過小，則底涂層與上層的粘結(jié)性可能會(huì)惡化，如果所述表面算術(shù)平均粗糙度(Ra)過大，則可能會(huì)導(dǎo)致上層的涂布膜厚度的均勻性的惡化。本發(fā)明的底涂層的表面最大粗糙度(P-V)處于以下范圍通常為100nm以上，優(yōu)選為300nm以上，并且通常為1000nm以下，優(yōu)選為800nm以下。如果所述表面最大粗糙度(P-V)過小，則底涂層與上層的粘結(jié)性可能會(huì)惡化，如果所述表面最大粗糙度(P-V)過大，則可能會(huì)導(dǎo)致上層的涂布膜厚度的均勻性的惡化。此外，對(duì)丁-與上述的表面形狀有關(guān)的指標(biāo)(RMS、Ra、P-V)的數(shù)值，只要是利用能夠以高精度測(cè)定基準(zhǔn)面內(nèi)的凹凸的表面形狀分析裝置來進(jìn)行測(cè)定，就可以利用任意的表面形狀分析裝置來測(cè)定，但優(yōu)選利用如下方法進(jìn)行測(cè)定使用光干涉顯微鏡，將高精度相移檢測(cè)法和干涉條紋級(jí)數(shù)的計(jì)數(shù)相組合，從而檢測(cè)出試樣表面的凹凸。更具體地說，優(yōu)選使用RyokaSystemsInc.的Micromap，利用干涉條紋尋址(addressing)方式，在波牛莫式(wavemode)下進(jìn)行測(cè)定。(制成分散液時(shí)的吸光度)此外，本發(fā)明的底涂層分散在能夠?qū)⒄辰Y(jié)著該底涂層的粘結(jié)劑樹脂溶解的溶劑中而制成分散液(以下'為方便起見稱其為"吸光度測(cè)定用分散液")時(shí)，通常該分散液的吸光度表示特定的物性。吸光度測(cè)定用分散液的吸光度可以利用通常公知的分光光度計(jì)(absorptionspectrophotometer(吸收分光光度計(jì)))測(cè)定。測(cè)定吸光度時(shí)的吸收池尺寸、試樣濃度等條件根據(jù)所使用的金屬氧化物顆粒的粒徑、折射率等物性的不同而變化，因此通常適宜地凋整試樣濃度，以使在要測(cè)定的波長(zhǎng)區(qū)域(本發(fā)明中為400nmi000nm)中該濃度不超過檢測(cè)器的測(cè)定限。此外，測(cè)定時(shí)使用尺寸(光程長(zhǎng))為10mm的吸收池。只要所使用的吸收池在400nm1000nm的范圍內(nèi)實(shí)質(zhì)上是透明的，就可以使用任意的吸收池，然而優(yōu)選使用石英池，特別優(yōu)選使用試樣池與標(biāo)準(zhǔn)池的透過率特性之差在特定范圍內(nèi)的配對(duì)吸收池。將本發(fā)明的底涂層分散而制成吸光度測(cè)定用分散液時(shí)，利用溶劑(該溶劑對(duì)粘結(jié)底涂層的粘結(jié)劑樹脂實(shí)質(zhì)上不溶解，而能夠?qū)⑿纬稍诘淄繉又系母泄鈱拥热芙?將底涂層上的層溶解除去后，將粘結(jié)底涂層的粘結(jié)劑樹脂溶解于溶劑中，由此能夠制成吸光度測(cè)定用分散液。此時(shí)，作為能夠溶解底涂層的溶劑，使用在400nm1000nm的波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)不具有較大光吸收的溶劑即可。作為能夠溶解底涂層的溶劑的具體例，可以使用甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等醇類，特別是可以使用甲醇、乙醇、l-丙醇。并且這些溶劑可以單獨(dú)使W—種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。特別是，將本發(fā)明的底涂層分散在將甲醇與1-丙醇以7:3的貫量比混合得到的溶劑中，得到吸光度測(cè)定用分散液，該吸光度測(cè)定用分散液對(duì)波長(zhǎng)400nm的光的'吸光度與對(duì)波長(zhǎng)1000nm的光的吸光度之差(吸光度差)如下。即，在金屬氧化物顆粒的折射率為2.0以上的情況下，所述吸光度差通常為0.3(Abs)以下，優(yōu)選為0.2(Abs)以下。此外，在金屬氧化物顆粒的折射率小于2.0的情況下，所述吸光度差通常為0.02(Abs)以下，優(yōu)選為O.Ol(Abs)以下。此外，吸光度的值取決于所測(cè)定的液體的固體成分濃度。因此，進(jìn)行吸光度的測(cè)定時(shí)，優(yōu)選以上述分散液中的金屬氧化物顆粒的濃度達(dá)到0.003重量％0.0075重量°/。的范圍的方式進(jìn)行分散。(底涂層的鏡面反射率)本發(fā)明的底涂層的鏡面反射率通常在本發(fā)明中顯示出特定的值。本發(fā)明的底涂層的鏡面反射率是指，導(dǎo)電性基體上的底涂層相對(duì)于導(dǎo)電性基休的鏡面反射率。所述底涂層的鏡面反射率根據(jù)底涂層的膜厚的不同而變化，因此此處以底涂層的膜厚為2pm時(shí)的反射率對(duì)鏡面反射率進(jìn)行規(guī)定。對(duì)于本發(fā)明的底涂層，底涂層所含有的金屬氧化物顆粒的折射率為2.0以上時(shí)，換算成該底涂層為2|im時(shí)的、該底涂層對(duì)波長(zhǎng)480nm的光的鏡面反射與該導(dǎo)電性基體對(duì)波長(zhǎng)480nm的光的鏡面反射之比通常為50%以上。另一方面，底涂層所含有的金屬氧化物顆粒的折射率小于2.0時(shí)，換算成該底涂層為2pm時(shí)的、該底涂層對(duì)波長(zhǎng)400nm的光的鏡面反射與該導(dǎo)電性基體對(duì)波長(zhǎng)400nm的光的鏡面反射之比通常為50%以上。此處，在底涂層含有兩種以上的折射率為2.0以上的金屬氧化物顆粒的情況下，或者在含有兩種以上的折射率小于2.0的金屬氧化物顆粒的情況下，均優(yōu)選該底涂層具有與上述相同的鏡面反射。并且，該底涂層同時(shí)含有折射率為2.0以上的金屬氧化物顆粒和折射率小于2.0的金屬氧化物顆粒時(shí)，與含有折射率為2.0以上的金屬氧化物顆粒的情況相同，換算成該底涂層為2pm時(shí)的、該底涂層對(duì)波長(zhǎng)480nm的光的鏡面反射與該導(dǎo)電性基體對(duì)波長(zhǎng)480nm的光的鏡面反射之比優(yōu)選為1:述范圍(50%以h)。以上對(duì)底涂層的膜厚為2pm的情況進(jìn)行r詳細(xì)說明，但是對(duì)于本發(fā)明的電子照相感光體，不限定底涂層的膜厚為2pm，可以是任意的膜厚。當(dāng)?shù)淄繉拥哪ず駷?pm以外的厚度時(shí)，可以使用在形成該底涂層時(shí)使用的底涂層形成用涂布液(后述)，在與所述電子照相感光體同等的導(dǎo)電性基體上涂布形成膜厚為2pm的底涂層，并對(duì)所述底涂層測(cè)定鏡面反射率。此外，作為其他方法，有如下方法測(cè)定所述電子照相感光體的底涂層的鏡面反射率并換算成其膜厚為2一m的情況。下面，對(duì)其換算方法進(jìn)行說明。使特定的單色光通過底涂層，在導(dǎo)電性基體上進(jìn)行鏡面反射，再次通過底涂層而被檢出，在這種情況下，假設(shè)垂直于光的厚度為dL的薄層?？梢哉J(rèn)為通過厚度為dL的薄層后的光強(qiáng)度的減少量-dl是與通過上述層之前的光強(qiáng)度I和層厚度dL成比例的，以表達(dá)式表示時(shí)，可以如下所記(k為常數(shù))。'-dI=kIdL(A)將式(A)變形，得到下式。-dI/I=kdL(B)分別在從Io到I、從O到L的區(qū)間對(duì)式(B)的兩邊進(jìn)行積分，得到下式。此外，1。表示入射光的強(qiáng)度。log(I0/I)=kL(C)式(C)在溶液體系中與被稱為朗伯(Lambert)定律的表達(dá)式相同，也能夠適用于本發(fā)明中的反射率的測(cè)定。將式(C)變形，得到下式(D)，入射光達(dá)到導(dǎo)電性基體表面之前的行為以式(D)表示。M。exp(-kL)(D)另一方面，鏡面反射率以入射光在導(dǎo)電性基體上的反射光為分母，因此可以認(rèn)為在管坯表面的反射率R-W此處，I,表示反射光的強(qiáng)度。這樣的話，按照式(D)，到達(dá)導(dǎo)電性基體表面的光乘以反射率R而鏡面反射，再次通過光程長(zhǎng)L，射出到底涂層表面。即，變?yōu)橄率?E)，將R二VIo代入式(E)，進(jìn)一步變形，由此可以得到關(guān)系式(F)。I=I0exp(-kL》R'exp(-kL)(E)1/I尸exp(-2kL)(F)該m,比值為在底涂層上的反射率與在導(dǎo)電性基體上的反射率的比值，將該值定義為鏡面反射率。并且，如上所述，在2pm的底涂層中，光程長(zhǎng)來回為4^im，但是任意的導(dǎo)電性基體上的底涂層的反射率T是底涂層的膜厚L(此時(shí)，光程長(zhǎng)為2L)的函數(shù)，所述反射率以T(L)表示。根據(jù)式(F)，下式(G)成立。T(L)=I/I'=exp(-2kL)(G)另一方面，由于想要獲知的值為T(2)，因此將L-2代入式(G)，得到下式(H)，聯(lián)立式(G)和式(H)，消去k，得到下式(I)。T(2)二I/I尸exp(-4k)(H)T(2)=T(L)2/L(I)33艮口，底涂層的膜厚為L(zhǎng)0im)時(shí)，通過測(cè)定該底涂層的反射率T(L)，能夠以相當(dāng)?shù)臏?zhǔn)確度估算出底涂層為2拜時(shí)的反射率T(2)。底涂層的膜厚L的值可以利用粗糙度計(jì)等任意的膜厚測(cè)量裝置來測(cè)出。對(duì)本發(fā)明的底涂層的形成方法沒有限制。但是，通常將含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層形成用涂布液涂布到導(dǎo)電性基體的表面上，使其干燥，從而得到底涂層。本發(fā)明的底涂層形成用涂布液用于形成底涂層，并且其含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂。并且，通常本發(fā)明的底涂層形成用涂布液含有溶劑。此外，本發(fā)明的底涂層形成用涂布液在不顯著損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)還可以含有其他成分。金屬氧化物顆粒與作為底涂^中所含有的金屬氧化物顆粒而進(jìn)行說明的實(shí)例相同。但是，關(guān)于本發(fā)明的底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的粒徑分布，通常以下要點(diǎn)是成立的。即，本發(fā)明的底涂層形成用涂布液屮的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑分別與所述底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑相同，所述體積平均粒徑和累積90%粒徑均是利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。因而，在本發(fā)明的底涂層形成用涂布液中，金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑通常為0.1(im以下(參見關(guān)于金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑)。'在本發(fā)明的底涂層形成用涂布液中，金屬氧化物顆粒優(yōu)選作為一次顆粒而存在。但是，通常這樣的情況比較少，而大多數(shù)情況是，金屬氧化物顆粒發(fā)生凝集，作為凝集體二次顆粒而存在，或者作為一次顆粒和凝集體二次顆粒的混合物存在。因此，在所述狀態(tài)下的粒度分布情況是非常重要的。于是，在本發(fā)明的底涂層形成用涂布液中，通過使底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為如上所述的范圍(O.l以下)，減少了金屬氧化物顆粒在底涂層形成用涂布液中的沉淀和粘性變化。由此，結(jié)果能夠使底涂層形成后的膜厚和表面性均勻。另一方面，金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑過大時(shí)(大于0.1pm時(shí))，與上相反，增大了金屬解化物顆粒在底涂層形成用涂布液中的沉淀和粘性變化，結(jié)果使底涂層形成后的膜厚和表面性變得不均勻，因此也可能對(duì)其上層(電荷產(chǎn)生層等)的品質(zhì)產(chǎn)生不良影響。并且，在本發(fā)明的底涂層形成用涂布液中，金屬氧化物顆粒的累積90%粒徑通常為0.3|im以下(參見關(guān)于金屬氧化物顆粒的累積90%粒徑)。只要本發(fā)明的金屬氧化物顆粒在底涂層形成用涂布液中作為球形的一次顆粒而存在，這就是理想的。但是，實(shí)際上這樣的金屬氧化物顆粒在實(shí)用上得不到。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，'即使金屬氧化物顆粒發(fā)生了凝集，只要累積90%粒徑足夠小，即，具體地說，只要累積90。/。粒徑為0.3pm以卜，底涂層形成用涂布液凝膠化和粘性變化就較少，可以長(zhǎng)期保存，從而底涂層形成后的膜厚和表面性變得均勻。另一方面，如果底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒過大，則涂布液中的凝膠化和粘性變化較大，導(dǎo)致底涂層形成后的膜厚和表面性變得不均勻，因此可能也對(duì)其上層(電荷產(chǎn)生層等)的品質(zhì)產(chǎn)生不良影響。此外，上述的底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑的測(cè)定方法并不是對(duì)底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒進(jìn)行測(cè)定，而是直接對(duì)底涂層形成用涂布液進(jìn)行測(cè)定，在以下方面，該方法與上述的底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑的測(cè)定方法是不同的。此外，除以T方面以外，上述的底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑的測(cè)定方法與底涂層測(cè)定用分散液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑的測(cè)定方法相同。即，對(duì)底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90。/。粒徑進(jìn)行測(cè)定時(shí)，分散介質(zhì)種類為在底涂層形成用涂布液中使用的溶劑，分散介質(zhì)折射率是采用在底涂層形成用涂布液中使用的溶劑的折射率。并且，當(dāng)?shù)淄繉有纬捎猛坎家哼^濃，其濃度處于測(cè)定裝置可以測(cè)定的范圍之外時(shí)，以甲醇和r-丙醇的混合溶劑(重量比甲醇/l-丙醇=7/3;折射率=1.35)稀釋底涂層形成用涂布液，以使該底涂層形成用涂布液的濃度處于測(cè)定裝置能夠測(cè)定的范圍。例如，利用上述UPA進(jìn)行測(cè)定時(shí)，利用甲醇和1-丙醇的混合溶劑來稀釋底涂層形成用涂布液，以使適合測(cè)定的樣品濃度指數(shù)(信號(hào)電平)達(dá)到0.60.8。可以認(rèn)為，即使如此進(jìn)行稀釋，底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積粒徑也不變化，因此，進(jìn)行了上述稀釋后測(cè)定的體積平均粒徑和累積90%粒徑作為底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑和累積90%粒徑來處理。此外，本發(fā)明的底涂層形成用涂布液的吸光度可以利用通常公知的分光光度計(jì)(吸收分光光度計(jì))測(cè)定。測(cè)定吸光度時(shí)的吸收池尺寸、試樣濃度等條件根據(jù)所使用的金屬氧化物顆粒的粒徑、折射率等物性而變化，因此通常適當(dāng)?shù)卣{(diào)整試樣濃度，以使在要進(jìn)行測(cè)定的波長(zhǎng)區(qū)域(在本發(fā)明中為400nm1000nm)中其濃度不超過檢測(cè)器的測(cè)定限。在本發(fā)明中，調(diào)整試樣濃度，以使底涂層形成用涂布液中的金屬氧化物顆粒的量達(dá)到0.0075重量％0.012重量％。用于調(diào)整試樣濃度的溶劑通常可以使用作為底涂層形成用涂布液的溶劑而使用的溶劑，但是也可以使用任意的溶劑，只要該溶劑與底涂層形成用涂布液的溶劑和粘結(jié)劑樹脂具有互溶性，混合時(shí)不產(chǎn)生渾濁等，并在400nm1000nm的波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)不具有較大的光吸收即可。舉出具體例，可以使用甲醇、乙醇、l-丙醇、2-丙醇等醇類；甲苯、二甲苯等烴類；四氫呋喃類等醚類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。此外，關(guān)于測(cè)定時(shí)的吸收池尺寸(光程長(zhǎng))，使用光程長(zhǎng)為10mm的吸收池。可以使用任意的吸收池，只要所使用的吸收池在400nm1000nm的范圍實(shí)質(zhì)上透明即可，但是優(yōu)選使用石英池，特別優(yōu)選使用試樣池和標(biāo)準(zhǔn)池的透過率特性之差處于特定范圍內(nèi)的配對(duì)吸收池。36底涂層形成用涂布液所含有的粘結(jié)劑樹脂與作為底涂層所含有的粘結(jié)劑樹脂而說明的粘合劑樹脂相同。但是，底涂層形成用涂布液中的粘結(jié)劑樹脂的含量是任意的，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可，但在如下范圍使用所述粘結(jié)劑樹脂通常為0.5重量％以上，優(yōu)選為1重量％以上，并且通常為20重量％以下，優(yōu)選為10重量％以下。.將本發(fā)明的底涂層形成用涂布液涂布在導(dǎo)電性基體上，并進(jìn)行干燥，由此能夠形成本發(fā)明的底涂層。對(duì)于涂布本發(fā)明的底涂層形成用涂布液的方法沒有限制，然而可以舉出例如，浸漬涂布、噴涂、噴嘴涂布、螺旋涂布、環(huán)形涂布("v，'塗布)、刮棒涂布、輥式涂布、刮刀涂布等。此外，這些涂布法可以僅實(shí)施一種，也可以任意組合兩種以上來實(shí)施。作為噴涂方法，例如，包括空氣噴涂、無氣噴涂、靜電空氣噴涂、靜電無氣噴涂、旋轉(zhuǎn)霧化式靜電噴霧、熱噴涂、熱無氣噴涂等。此外，如果考慮微?；某潭?、附著效率等以得到均勻的膜厚，則在旋轉(zhuǎn)霧化式靜電噴霧中優(yōu)選實(shí)施日本再公表平1-805198號(hào)公報(bào)中公開的傳送方法，即，使圓筒狀工件旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，以在其軸向不拉開間隔的方式連續(xù)傳送工件。由此，能夠總體上以高附著效率得到底涂層的膜厚均勻性優(yōu)異的電子照相感光體。作為螺旋涂布法，有日本特開昭52-119651號(hào)公報(bào)中公開的使用注液涂布機(jī)或簾式涂布機(jī)的方法、日本特開平1-2319.66號(hào)公報(bào)中公開的使涂料從微小開口部以線狀連續(xù)飛出的方法、日本特開平3-193161號(hào)公報(bào)中公開的使用多噴嘴體的方法等。在浸漬涂布法的情況中，通常底涂層形成用涂布液的全部固體成分的濃度為以下范圍通常為1重量％以上、優(yōu)選為10重量％以上，且通常為50重量％以下、優(yōu)選為35重量％以下，并將粘度調(diào)整到優(yōu)選為0.1cps以上并且優(yōu)選為100cps以下的范圍。其中，1CpS=lxl(r3Pa-s。涂布后，干燥涂布膜，優(yōu)選調(diào)整干燥溫度、時(shí)間以進(jìn)行必要且充分的干燥。干燥溫度范圍如下通常為10(TC以上，優(yōu)選為110。C以上，更優(yōu)選為115"C以上，并且通常為250'C以下，優(yōu)選為]7(TC以下，更優(yōu)選為14(TC以下。對(duì)干燥方法沒有限制，可以使用例如熱風(fēng)干燥機(jī)、蒸氣f燥機(jī)、紅外線干燥機(jī)和遠(yuǎn)紅外線干燥機(jī)等。感光層的構(gòu)成也可以采用公知的能夠適用于電子照相感光體的任意構(gòu)成。作為具體例，可以舉出所謂的單層型感光體，該單層型感光體具有在粘結(jié)劑樹脂中溶解或分散有光電導(dǎo)性材料的單層感光層(即，單層型感光層)；所謂的層積型感光體，層積型感光體具有由2個(gè)以上的層構(gòu)成的感光層(即，層積型感光層)，所述2個(gè)以上的層是將包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層、包含電荷傳輸物質(zhì)的電荷傳輸層層積而成的；等等。眾所周知，-般光電導(dǎo)性材料無論是單層型還是層積型，在功能方面均顯示出同等性能。本發(fā)明的電子照相感光體所具有的感光層可以是公知的任意形態(tài)，但是綜合考慮感光體的機(jī)械物性、電學(xué)特性、制造穩(wěn)定性等，優(yōu)選層積型感光體。特別是，更優(yōu)選在導(dǎo)電性基體上依次層積底涂層、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而成的正層積型感光體。[JV-l.電荷產(chǎn)生物質(zhì)]作為在本發(fā)明中用于電子照相感光體的電荷產(chǎn)生物質(zhì)，可以使用以往被提出用于本用途的任意物質(zhì)。作為這樣的物質(zhì)，可以舉出例如，偶氮系顏料、酞菁系顏料、蒽締蒽酮系顏料、喹吖啶酮系顏料、花青系顏料、吡喃鐵系顏料、噻喃鐵系顏料、靛藍(lán)系顏料、多環(huán)醌系顏料、方酸系顏料等。特別優(yōu)選酞菁顏料或偶氮顏料。在能夠得到對(duì)較長(zhǎng)波長(zhǎng)的激光具有高靈敏度的感光體方面，酞菁顏料是優(yōu)異的，并且在對(duì)白色光和較短波長(zhǎng)的激光具有足夠的靈敏度的方面，偶氮顏料是優(yōu)異的。在本發(fā)明中，使用酞菁系化合物作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)時(shí)顯示出較好的效果，因而優(yōu)選使用酞菁系化合物。作為酞菁系化合物的具體例，可以舉出，無金屬酞菁；銅、銦、鎵、錫、鈦、鋅、釩、硅、鍺等金屬或它們的氧化物、鹵化物、氫氧化物、醇鹽等配位的酞菁等。此外，對(duì)酞菁系化合物的晶型也沒有限制，然而特別優(yōu)選以下靈敏度高的晶型X型、T型無金屬酞菁；A型(又稱為(3型)、B型(又稱為a型)、D型(又稱為Y型)等的鈦氧基酞菁(又稱為氧鈦酞菁)、氧釩酞菁、氯銦酞菁；II型等的氯鎵酞菁；V型等的羥基鎵酞菁；G型、I型等的p-氧-鎵酞菁二聚物；n型等的^氧-鋁酞菁二聚物等。此外，在所述酞菁之中特別優(yōu)選A型((3型)、B型(a型)和D型(Y型)鈦氧基酞菁、II型氯鎵酞菁、V型羥基鎵酞菁、G型n-氧-鎵酞菁二聚物等。進(jìn)而，在所述酞菁系化合物之中優(yōu)選CuKa特征X射線的X射線衍射光譜在布拉格角(20±0.2°)為27.3°位置具有主衍射峰的氧鈦酞菁、在9.3°、13.2°、26.2°和27.1°位置具有主衍射峰的氧鈦酞菁、在9.2°、14.1°、15.3°、19.7°、27.1。位置具有主衍射峰的二羥基硅酞菁、在8.5°、12.2°、13.8°、16.9°、22.4°、28.4°和30.1°位置具有主衍射峰的二氯錫酞菁、在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°位置具有主衍射峰的羥基鎵酞菁以及在7.4。、16.6°、25.5°和28.3°位置具有衍射峰的氯鎵酞菁。在這些酞菁系化合物之中，特別優(yōu)選在27.3°位置具有主衍射峰的氧鈦酞菁，在這種情況中，尤其優(yōu)選在9.5。、24.1°和27.3°位置具有主衍射峰的氧鈦酞菁。此外，電荷產(chǎn)生物質(zhì)可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。因此，上述酞菁系化合物可以僅使用單一酞菁化合物，也可以是兩種以上的酞菁化合物的混合物或者混晶狀態(tài)的酞菁化合物。作為此處的酞菁系化合物的混合物或者混晶狀態(tài)的酞菁系化合物，可以在以后混合各構(gòu)成要素來使用，也可以在合成、顏料化、晶化等對(duì)酞菁系化合物進(jìn)行制造或處理的工序中使其成為混合狀態(tài)。作為這樣的處理，可以舉出例如，酸漿處理、磨碎處理和溶劑處理等。對(duì)用于形成混晶狀態(tài)的方法沒有限制，可以舉出如下方法例如，如日本特開平10-48859號(hào)公報(bào)記載那樣，將2種晶體混合后進(jìn)行機(jī)械磨碎，在使其成為無定形之后，利用溶劑處理轉(zhuǎn)換成特定的晶態(tài)。此外，使用酞菁系化合物時(shí)，也可以合用除酞菁系化合物以外的電荷產(chǎn)生物質(zhì)。例如，可以混合使用偶氮顏料、二萘嵌苯顏料、喹吖啶酮顏料、多環(huán)醌顏料、靛藍(lán)顏料、苯并咪唑顏料、吡喃鐵鹽、噻喃鑰鹽、方酸內(nèi)総鹽等電荷產(chǎn)生物質(zhì)。電荷產(chǎn)生物質(zhì)分散在感光層形成用涂布液中，似是在分散于該感光層形成用涂布液中之前，也可以預(yù)先進(jìn)行前粉碎。前粉碎可以使用各種裝置進(jìn)行，但是通常使用球磨機(jī)、砂磨機(jī)等來進(jìn)行前粉碎。作為投入到這些粉碎裝置中的粉碎介質(zhì)，可以使用任意粉碎介質(zhì)，只要在粉碎處理時(shí)，該粉碎介質(zhì)不粉化且在分散處理后能夠容易地分離即可，可以舉出例如，玻璃、氧化鋁、氧化鋯、不銹鋼、陶瓷等的珠或球等。對(duì)于前粉碎，優(yōu)選粉碎到體積平均粒徑為500pm以下，更優(yōu)選粉碎到體積平均粒徑為250pm以下。此外，電荷產(chǎn)生物質(zhì)的體積平均粒徑可以通過本領(lǐng)域技術(shù)人員通常使用的任意方法來測(cè)定，但是通常利用常規(guī)沉降法或離心沉降法來測(cè)定所述體積平均粒徑。「IV-2.電荷傳輸物質(zhì)]對(duì)電荷傳輸物質(zhì)沒有限制。作為電荷傳輸物質(zhì)的實(shí)例，可以舉出聚乙烯基咔唑、聚乙烯基芘、聚環(huán)氧丙基咔唑、聚苊等高分子化合物；芘、蒽等多環(huán)芳香族化合物；吲哚衍生物、咪唑衍生物、咔唑衍生物、吡唑衍生物、吡唑啉衍生物、噁二唑衍生物、噁唑衍生物、噻二唑衍生物等雜環(huán)化合物；對(duì)二乙氨基苯甲醛-N,N-二苯腙、N-甲基咔唑-3-甲醛-N，N-二苯腙等腙系化合物；5-(4-(二對(duì)甲苯基氨基)苯亞甲基)-5H-二苯并[a，d]環(huán)庚烯等苯乙烯基系化合物；對(duì)三甲苯基胺等三芳基胺系化合物；N,N，N',N'-四苯基聯(lián)苯胺等聯(lián)苯胺系化合物；丁二烯系化合物；二(對(duì)二甲苯基氨基苯基)甲垸等三苯甲垸系化合物等。在這些化合物之中，優(yōu)選使用腙衍生物、咔唑衍生物、苯乙烯基系化合物、丁二烯系化合物、三芳基胺系化合物、聯(lián)苯胺系化合物或者將兩種以上的這些化合物鍵合而成的化合物。所述電荷傳輸物質(zhì)可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。本發(fā)明的電子照相感光體的感光層以利用各種粘結(jié)劑樹脂粘結(jié)光電導(dǎo)性材料的形式而形成。作為感光層用粘結(jié)劑樹脂，也可以使用能夠川于電子照相感光體的公知的任意的粘結(jié)劑樹脂。作為感光層用粘結(jié)劑樹脂的具體例，可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚乙酸乙烯巧H、聚內(nèi)烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚酯聚碳酸酯、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇乙?？s乙醛(水。U匕'二》7七卜7七夕一》)、聚乙烯醇縮丙醛(水'J匕'二&y口匕°才f一>)、聚乙烯醇縮丁醛、聚砜、聚酰亞胺、苯氧樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、有機(jī)硅樹脂、纖維素酯、纖維素醚、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯等乙烯基聚合物及其共聚物等。此外，也可以使用這些樹脂的部分交聯(lián)固化物。此外，感光層用粘結(jié)劑樹脂可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。層積型感光體當(dāng)本發(fā)明的電子照相感光體為所謂的層積型感光體時(shí)，含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的層通常為電荷產(chǎn)生層。但是，在層積型感光體中，只要不顯著損害木發(fā)明的效果，在電荷傳輸層中也可以包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)。對(duì)電荷產(chǎn)生物質(zhì)的體積平均粒徑?jīng)]有限制。通常，電荷產(chǎn)生物質(zhì)分53散在感光層形成用涂布液中，對(duì)該分散方法沒有限制，可以舉出例如，球磨機(jī)分散方法、磨碎機(jī)分散法、砂磨機(jī)分散法等。此時(shí)，將該感光層形成用涂布液中的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的粒徑微細(xì)化到通常為0.5|im以下、優(yōu)選為0.3pm以下、更優(yōu)選為0.15pm以下是有效的。并且，電荷產(chǎn)生層的膜厚是任意的，但理想的是，膜厚通常為0.1pm以上，優(yōu)選為0.15pm以上，并且通常為2pm以下，優(yōu)選為0.8pm以下。當(dāng)含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的層為電荷產(chǎn)生層時(shí)，相對(duì)于ioo重量份電荷產(chǎn)生層所含有的感光層用粘結(jié)劑樹脂，該電荷產(chǎn)生層中的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的使用比例通常為30重量份以上，優(yōu)選為50重量份以上，并且通常為500重量份以下，優(yōu)選為300重量份以下。如果電荷產(chǎn)生物質(zhì)的用量過少，則作為電子照相感光體的電學(xué)特性可能不充分，如果所述用量過多，則可能會(huì)損害涂布液的穩(wěn)定性。進(jìn)而，電荷產(chǎn)生層中還可以含有用于改良成膜性、撓性、機(jī)械強(qiáng)度等的公知增塑劑、用于控制殘余電位的添加劑、用于提高分散穩(wěn)定性的分散助劑、用于改善涂布性的流平劑、表面活性劑、硅油、氟系油及其他添加劑。此外，所述添加劑可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。單層型感光體當(dāng)本發(fā)明的電子照相感光體為所謂的單層型感光體時(shí)，上述電荷產(chǎn)生物質(zhì)分散在主成分為感光層用粘結(jié)劑樹脂和電荷傳輸物質(zhì)的母體中，其中所述感光層用粘結(jié)劑樹脂和電荷傳輸物質(zhì)的混合比例與后記的電荷傳輸層相同。用于單層型感光層時(shí)，優(yōu)選電荷產(chǎn)生物質(zhì)的粒徑足夠小。因此，在單層型感光層中，電荷產(chǎn)生物質(zhì)的體積平均粒徑通常為0.5^m以下，優(yōu)選為0.3pm以下，更優(yōu)選為0.15|im以下。單層型感光層的膜厚是任意的，但通常為5pm以上，優(yōu)選為10pm以上，且通常為50^m以下，優(yōu)選為45^m以下。分散在感光層內(nèi)的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的量是任意的，但如果所述量過少，則可能不能得到充分的靈敏度，如果所述量過多，則可能出現(xiàn)充電性降低、靈敏度降低等。因此，單層犁感光層中的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的含量通常為0.5重量％以上，優(yōu)選為1.0重量％以上，并且通常為50重量％以下，優(yōu)選為45重量％以下。.此外，單層型感光體的感光層還可以含有用于改良成膜性、撓性、機(jī)械強(qiáng)度等的公知增塑劑、用于控制殘余電位的添加劑、用于提高分散穩(wěn)定性的分散助劑、用于改善涂布性的流平劑、表面活性劑、硅油、氟系油以及其他添加劑。此外，所述添加劑可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。當(dāng)本發(fā)明的電子照相感光體為所謂的層積型感光體時(shí)，含有電荷傳輸物質(zhì)的層通常為電荷傳輸層。電荷傳輸層可以單獨(dú)以具有電荷傳輸功能的樹脂形成，但是更優(yōu)選所述電荷傳輸層為上述電荷傳輸物質(zhì)分散或溶解在感光層用粘結(jié)劑樹脂中的構(gòu)成。電荷傳輸層的膜厚是任意的，但通常為5pm以上，優(yōu)選為10pm以上，更優(yōu)選為15pm以上，并且通常為60pm以下，優(yōu)選為45—m以T，更優(yōu)選為27以下。另一方面，當(dāng)本發(fā)明的電子照相感光體為所謂的單層型感光體時(shí)，單層型感光層作為分散有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的母體，可以采用在粘結(jié)劑樹脂中分散或溶解有上述電荷傳輸物質(zhì)的構(gòu)成。作為在含有電荷傳輸物質(zhì)的層中使用的粘結(jié)劑樹脂，可以使用上述感光層用粘結(jié)劑樹脂。其中，作為特別適合用于含有電荷傳輸物質(zhì)的層的粘結(jié)劑樹脂的實(shí)例，可以舉出聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物及其共聚物、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、聚酯碳酸酯、聚砜、聚酰亞胺、苯氧樹脂、環(huán)氧樹脂、有機(jī)硅樹脂等以及它們的部分的交聯(lián)固化物等。此外，該粘結(jié)劑樹脂可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。此外，在電荷傳輸層和單層型感光層中，上述粘結(jié)劑樹脂和電荷傳輸物質(zhì)的比例是任意的，只要不顯著損害本發(fā)明的效果即可，但是相對(duì)于100重量份粘結(jié)劑樹脂，在如下范圍內(nèi)使用電荷傳輸物質(zhì)通常為20重量份以上，優(yōu)選為30重量份以上，更優(yōu)選為40重量份以上，并且通常為200重量份以下，優(yōu)選為150重量份以下，更優(yōu)選為120重量份以下。進(jìn)而，含有電荷傳輸物質(zhì)的層必要時(shí)可以含有受阻酚、受阻胺等抗氧化劑、紫外線吸收劑、敏感劑、流平劑、吸電子性物質(zhì)等各種添加劑。此外，這些添加劑可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例合用兩種以上。本發(fā)明的電子照相感光體除了具有上述的底涂層和感光層以外，還可以具有其他層。作為其他層的實(shí)例，可以設(shè)置現(xiàn)有公知的以熱塑性或者熱固性聚合物為主體的表面保護(hù)層或覆蓋層作為最表層。[1V-7.層形成法]對(duì)感光體具有的除底涂層以外的各層的形成方法沒有限制，可以使用任意方法。例如，如利用本發(fā)明的底涂層形成用涂布液形成底涂層的情況那樣，使用例如浸漬涂布方法、噴涂方法、環(huán)形涂布方法等公知方法，依次涂布將層所含有的物質(zhì)溶解或分散在溶劑中得到的涂布液(感光層形成用涂布液、電荷產(chǎn)生層形成用涂布液、電荷傳輸層形成用涂布液等)，并使其干燥，從而形成各層。在這種情況中，涂布液必要時(shí)還可以含有用于改善涂布性的流平劑、抗氧化劑和敏感劑等各種添加劑。對(duì)用于涂布液的溶劑沒有限制，然而通常使用有機(jī)溶劑。作為優(yōu)選的溶劑的實(shí)例，可以舉出例如，甲醇、乙醇、丙醇、l-己醇、1,3-丁二醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等酮類；二氧六環(huán)、四氫呋喃、乙二醇單甲醚等醚類；4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮等醚酮類；苯、甲苯、二甲苯、氯苯等(卣代)芳香烴類；乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯類；N，N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺等酰胺類；二甲亞砜等亞砜類。此外，在這些溶劑之中，特別優(yōu)選使用醇類、芳香烴類、醚類、醚酮類。并且，作為更優(yōu)選的實(shí)例，可以舉出甲苯、二甲苯、l-己醇、1,3-丁二醇、四氫呋喃、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮等。上述溶劑可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意組合和比例使用兩種以上。特別優(yōu)選混合兩種以上的溶劑來合用，作為這種溶劑的實(shí)例，可以舉出醚類、醇類、酰胺類、亞砜類、亞砜類、醚酮類等，其中，1,2-二甲氧基乙烷等醚類、1-丙醇等醇類是適合的。特別適合的是醚類溶劑。這是出于從特別是在以氧鈦酞菁為電荷產(chǎn)生物質(zhì)制造涂布液時(shí)該酞菁的晶形穩(wěn)定化能、分散穩(wěn)定性等方面的考慮。此外，對(duì)用于涂布液的溶劑的量沒有限制，根據(jù)涂布液的組成和涂布方法等使用適當(dāng)?shù)牧考纯伞１景l(fā)明的電子照相感光體在防止曝光光的干涉產(chǎn)生的條紋的同時(shí)，不產(chǎn)生黑點(diǎn)、色點(diǎn)、黑線等圖像缺陷，能夠得到良好的圖像。并且，也有時(shí)得到如下優(yōu)點(diǎn)。艮P，即使在各種使用環(huán)境下，也能夠形成高畫質(zhì)的圖像，而且耐久穩(wěn)定性優(yōu)異。因而，本發(fā)明的電子照相感光體用于成像時(shí)，能夠在抑制環(huán)境產(chǎn)生的影響的同時(shí)，形成高6'i質(zhì)的圖像。另外，在現(xiàn)冇的電子照相感光休中，底涂層中含有爭(zhēng)t化物顆粒凝集而成的粗大的金屬氧化物顆粒，由于所述粗大的金屬氧化物顆粒，成像吋可能會(huì)產(chǎn)生缺陷。進(jìn)而，使用接觸式的充電單元時(shí)，對(duì)感光層進(jìn)行充電時(shí)，電荷通過該金屬氧化物顆粒從感光層移動(dòng)到導(dǎo)電性基休中，也存在不能適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行充電的可能性。但是，在本發(fā)明的電子照相感光體中，由于具備底涂層，且該底涂層使用了平均粒徑非常小且具有良好的粒徑分布的金屬氧化物顆粒，因此可以抑制缺陷和不能適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行充電的問題，能夠形成高品質(zhì)的圖像。接下來，對(duì)于使用了本發(fā)明的電子照相感光體的成像裝置(本發(fā)明的成像裝置)的實(shí)施方式，使用表示裝置的主要部分構(gòu)成的圖11來說明。但是，實(shí)施方式并不限于以下說明，只要不脫離本發(fā)明的要點(diǎn)，就可以任意變形來實(shí)施。如圖ll所示，成像裝置具有電子照相感光體201、充電裝置(充電單元)202、曝光裝置(曝光單元；像曝光單元)203、顯影裝置(顯影單元)2CH和轉(zhuǎn)印裝置(轉(zhuǎn)印單元)205而構(gòu)成，進(jìn)而可以在必要時(shí)設(shè)置清潔裝置(清潔單元)206和定影裝置(定影單元)207。此外，在本發(fā)明的成像裝置中，具有上述的本發(fā)明的電子照相感光體作為感光體201。g卩，本發(fā)明的成像裝置為具有電子照相感光體、使該電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的該電子照相感光體進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調(diào)色劑將上述靜電潛像顯影的顯影單元、和將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元的成像裝置，所述電子照相感光體為在表面最大高低粗糙度Rz為0.8|imSRzS2pm的導(dǎo)電性基體上具有含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層以及在該底涂層上形成的感光層的電子照相感光體，其中，將底涂層分散在以7:3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體中的所述金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為0.1pm以下，并且其累積90%粒徑為0.3pm以下，'所述體積平均粒徑和累積90%粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。對(duì)電子照相感光體201沒有特別限制，只要是上述的本發(fā)明的電子照相感光體即可，在圖11屮給出了在圓筒狀的導(dǎo)電性基體的表面」-:形成r—h述感光^的鼓狀感光體作為屯子照相感光體的一實(shí)例。沿該電子照相感光體201的外周面，分別配置有充電裝置202、曝光裝置203、顯影裝置2'04、轉(zhuǎn)印裝置205和清潔裝置206。充電裝置202為使電子照相感光體201帶電的裝置，其均勻地使電子照相感光體201的表面充電到規(guī)定電位。為了有效地發(fā)揮本發(fā)明的效果，優(yōu)選充電裝置與電子照相感光體201接觸配置。在圖11中給出輥型充電裝置(充電輥)作為充電裝置202的一實(shí)例，但是除此以外，還常用電暈管和格柵電暈管(scorotron)等電暈充電裝置、充電刷等接觸型充電裝置此外，在很多情況下，裝備有電子照相感光體201和充電裝置202的盒(以下為方便起見稱其為感光體盒)被設(shè)計(jì)成能夠從成像裝置的主體中卸下。于是，例如在電子照相感光體201或充電裝置202劣化時(shí)，能夠從成像裝置主體中卸下該感光體盒，并將其他的新感光體盒安裝在成像裝置主體中。此外，對(duì)于后述的調(diào)色劑來說也是這樣的，在很多情況58下，調(diào)色劑儲(chǔ)存在調(diào)色劑盒中，該調(diào)色劑盒被設(shè)計(jì)成能夠從成像裝置主體中卸下，因此在使用的調(diào)色劑盒中沒有了調(diào)色劑時(shí)，能夠從成像裝置主體中卸下該調(diào)色劑盒，安裝其他的新調(diào)色劑盒。此外，也可以使用同時(shí)裝備有電子照相感光體201、充電裝置202、調(diào)色劑的盒。對(duì)曝光裝置203的種類沒有特別限制，只要其是對(duì)電子照相感光體201進(jìn)行曝光(像曝光)而能夠在電子照相感光體201的感光面上形成靜電潛像的裝置即可。作為具體例，可以舉出鹵素?zé)?、熒光燈、半?dǎo)體激光器或He-Ne激光器等激光器、LED(發(fā)光二極管)等。并且，可以通過感光體內(nèi)部曝光方式進(jìn)行曝光。進(jìn)行曝光時(shí)的光是任意的，利用如下光進(jìn)行曝光即可例如波長(zhǎng)為780nm的單色光、波長(zhǎng)為600nm700nm的略靠近短波長(zhǎng)的單色光、波長(zhǎng)為350nm600nm的短波長(zhǎng)的單色光等。其中，優(yōu)選利用波長(zhǎng)為350nm600nm的短波長(zhǎng)的單色光等進(jìn)行曝光，更優(yōu)選利用波長(zhǎng)為380nm500nm的單色光進(jìn)行曝光。3影裝置204是使上述靜電潛像顯影的裝置。対'其種類沒有特別限制，可以使用瀑布顯影、單組分3電調(diào)色劑顯影、雙組分磁刷顯影等十式顯影方式或濕式顯影方式等的任意裝置。在圖11中，顯影裝置204山顯影槽241、攪拌器242、供給輥243、顯影輥244以及調(diào)整部件245構(gòu)成，并具有在顯影槽241的內(nèi)部存儲(chǔ)有調(diào)色劑T的結(jié)構(gòu)。并且，也可以根據(jù)需要在顯影裝置204中附加補(bǔ)給調(diào)色劑T的補(bǔ)給裝置(未圖小)。該補(bǔ)給裝置的構(gòu)成為能夠由瓶、盒等容器補(bǔ)給調(diào)色劑T。供給輥243由導(dǎo)電性海綿等形成。顯影輥244由鐵、不銹鋼、鋁、鎳等金屬輥或在這樣的金屬輥上被覆了有機(jī)硅樹脂、氨基甲酸酯樹脂、氟樹脂等的樹脂輥等構(gòu)成。也可以根據(jù)需要對(duì)該顯影輥244的表面施加平滑加工或粗糙化加工。顯影輥244配置在電子照相感光體201和供給輥243之間，分別與電子照相感光體201和供給輥243抵接。供給輥243和顯影輥244受到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)的驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。供給輥243負(fù)載所存儲(chǔ)的凋色劑T，并將該調(diào)色劑T供給至顯影輥244。顯影輥244負(fù)載由供給輥243供給的調(diào)色劑T，并使調(diào)色劑T與電子照相感光體201的表面接觸。調(diào)整部件245由有機(jī)硅樹脂或氨基甲酸酯樹脂等樹脂刮板、不銹鋼、鋁、銅、黃銅、磷青銅等金屬刮板或在這樣的金屬刮板上被覆有樹脂的刮板等形成。該調(diào)整部件245與顯影輥244抵接，被彈簧等以規(guī)定的力擠壓在顯影輥244側(cè)(一般的刮板單位長(zhǎng)度載荷為5g/cm500g/cm)。也可以根據(jù)需要使該調(diào)整部件245具有通過與調(diào)色劑T的摩擦帶電而使調(diào)色劑T帶電的功能。攪拌器242受到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)而各自旋轉(zhuǎn)，在攪拌調(diào)色劑T的同時(shí)將調(diào)色劑T傳送至供給輥243側(cè)?？梢栽O(shè)置槳葉形狀、大小等不同的兩個(gè)以上的攪拌器242。調(diào)色劑T的種類是任意的，除粉狀調(diào)色劑以外，還可以使用以懸浮聚合法或乳液聚合法等得到的聚合調(diào)色劑等。特別是，在使用聚合調(diào)色劑時(shí)，優(yōu)選粒徑為4pm8(im左右的小粒徑的調(diào)色劑，并且，也可以使川調(diào)色劑顆粒的形狀從接近球形到馬鈴薯狀的偏離了球形的各種形狀的調(diào)色劑。聚合調(diào)色劑的充電均勻性、轉(zhuǎn)印性優(yōu)異，適合用于提高圖像的畫質(zhì)。'對(duì)于轉(zhuǎn)印裝置205，其種類不受特別限制，可以使用利用了靜電轉(zhuǎn)印法(電暈轉(zhuǎn)印、輥轉(zhuǎn)印、帶轉(zhuǎn)印等)、壓力轉(zhuǎn)印法、粘著轉(zhuǎn)印法等任意方式的裝置。此處，轉(zhuǎn)印裝置205由與電子照相感光體201對(duì)置的轉(zhuǎn)印充電器、轉(zhuǎn)印輥、轉(zhuǎn)印帶等構(gòu)成。該轉(zhuǎn)印裝置205施加與調(diào)色劑T的帶電電位極性相反的規(guī)定電壓值(轉(zhuǎn)印電壓)，將電子照相感光體201上形成的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印材料(被轉(zhuǎn)印體、紙張、介質(zhì))P上。在本發(fā)明中，轉(zhuǎn)印裝置205被配置成隔著轉(zhuǎn)印材料與感光體接觸時(shí)是有效的。對(duì)于清潔裝置206沒有特別限制，可以使用刷清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器、刮板清潔器等任意的清潔裝置。清潔裝置206是利用清潔部件將附著在感光體201上的殘余調(diào)色劑別落并問收該殘余調(diào)色劑的裝置。但是，當(dāng)感光體表面上殘留的調(diào)色劑較少或幾乎沒有殘留調(diào)色劑時(shí)，也可以不設(shè)置清潔裝置206。定影裝置207由上部定影部件(定影輥)271和下部定影部件(定影輥)272構(gòu)成，在定影部件271或272的內(nèi)部具有加熱裝置273。另外，圖11中給出了在上部定影部件271的內(nèi)部具有加熱裝置273的例子。對(duì)于上部和下部的各定影部件271、272，可以使用在不銹鋼、鋁等金屬管坯上被覆有硅橡膠的定影輥、進(jìn)而被覆有氟樹脂的定影輥、定影片等公知的熱定影部件。此外，各定影部件271、272既可以采用為改善防粘性而供給硅油等防粘劑的結(jié)構(gòu)，也可以采用利用彈簧等相互強(qiáng)制性地施加壓力的結(jié)構(gòu)。使轉(zhuǎn)印在記錄紙P上的調(diào)色劑在已加熱至規(guī)定溫度的上部定影部件271和下部定影部件272之間通過時(shí)，調(diào)色劑被熱加熱至熔融狀態(tài)，在通過后調(diào)色劑被冷卻，從而使調(diào)色劑定影在記錄紙P上。另外，對(duì)于定影裝置，其種類也不受特別限定，以此處使用的定影裝置為代表，可以設(shè)置采用熱輥定影、閃光定影、烘烤定影、壓力定影等任意方式的定影裝置。在如上構(gòu)成的電子照相裝置中，如下進(jìn)行圖像記錄。即，首先，利用充電裝置202使感光體201的表面(感光面)充電至規(guī)定的電位(例如-600V)。此時(shí)，既可以利用:l氣流tll壓使感光休201的表面帶電，也可以在直流電壓上疊加交流電壓來使其帶電。接著，根據(jù)要記錄的圖像，利用曝光裝置203對(duì)帶電的電子照相感光體201的感光面進(jìn)行曝光，以在感光面上形成靜電潛像。然后，利用顯影裝置204對(duì)在電子照相感光體201的感光面上形成的靜電潛像進(jìn)行顯影。在顯影裝置204中，利用調(diào)整部件(顯影刮板)245將由供給輥243供給的調(diào)色劑T進(jìn)一歩薄層化，同時(shí)使其摩擦帶電至規(guī)定的極性(此處與感光體201的帶電電位極性相同，為負(fù)極性)，邊將調(diào)色劑T負(fù)載在顯影輥244上邊傳送，從而使其與感光體201的表面接觸。負(fù)載于顯影輥244上的帶電調(diào)色劑T與感光體201的表面接觸后，就會(huì)在感光體201的感光面上形成對(duì)應(yīng)于靜電潛像的調(diào)色劑像。然后，該調(diào)色劑像被轉(zhuǎn)印裝置205轉(zhuǎn)印到記錄紙P上。之后，未被轉(zhuǎn)印而殘留在感光體201的感光面上的調(diào)色劑被清潔裝置206除去。調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到記錄紙P上后，使其通過定影裝置207，從而將調(diào)色劑像熱定影在記錄紙P上，由此得到最終的圖像。另外，除上述的構(gòu)成外，成像裝置還可以采用能夠進(jìn)行例如消電工序的結(jié)構(gòu)。消電工序是通過對(duì)電子照相感光體進(jìn)行曝光來進(jìn)行電子照相感光體的靜電消除的工序，作為消電裝置，使用熒光燈、LED等。并且，在消電工序中使用的光大多是具有強(qiáng)度為曝光用光的3倍以上的曝光能量的光。'并且，成像裝置也可以采用進(jìn)一步變化的構(gòu)成，例如其可以采用能夠進(jìn)行前曝光工序、輔助充電工序等工序的構(gòu)成；進(jìn)行膠版印刷的構(gòu)成；以及使用兩種以上調(diào)色劑的全色串聯(lián)方式的構(gòu)成。此外，如上所述，感光體201與充電裝置202組合而構(gòu)成為盒時(shí)，優(yōu)選該盒構(gòu)成為還具有顯影裝置204。進(jìn)而，根據(jù)需要，將上述的感光體201進(jìn)一歩與充電裝置202、曝光裝置203、顯影裝置204、轉(zhuǎn)印裝置205、清潔裝置206以及定影裝置207之中的1個(gè)或2個(gè)以上的裝置組合，構(gòu)成為一體型盒(電子照相盒)，并且可以設(shè)計(jì)成該電子照相盒在復(fù)印機(jī)和激光朿印刷機(jī)等的電子照相裝置主體上為可拆卸的構(gòu)成。即，本發(fā)明的電-r-照相盒是具有電子照相感光休和如下單元中的至少--個(gè)單元的電子照相盒使該電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的該電子照相感光體進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、用調(diào)色劑使所述靜電潛像顯影的顯影單元、將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元、使轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的調(diào)色劑定影的定影單元以及將附著在該電子照相感光體上的所述調(diào)色劑回收的清潔單元；其中，所述電子照相感光體為在表面最大高低粗糙度Rz為0.8pm^Rz^2pm的導(dǎo)電性基體上具有含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層和在該底涂層上形成的感光層的電子照相感光體，其中，將所述底涂層分散在以7:3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體中的所述金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為0.1pm以下、累積90%粒徑為0.3pm以下，所述體積平均粒徑和累積90%粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。此時(shí)，與在上述實(shí)施方式中說明的盒相同，例如電子照相感光體101或其他部件劣化時(shí)，通過從成像裝置主體中卸下該電子照相盒，將其他的新電子照相盒安裝在成像裝置主體中，容易進(jìn)行成像裝置的保養(yǎng)和管理。通過本發(fā)明的成像裝置和電子照相盒，能夠形成高品質(zhì)的圖像。特別是，以往在將轉(zhuǎn)印裝置5配置成隔著轉(zhuǎn)印材料與感光體接觸的情況下，易發(fā)生圖像的品質(zhì)劣化，但是本發(fā)明的成像裝置和電子照相盒產(chǎn)生那樣的品質(zhì)劣化的可能性較小，因此本發(fā)明的成像裝置和電子照相盒是有效果的。實(shí)施例下面，給出實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明，但是只要不脫離本發(fā)明的要點(diǎn)，本發(fā)明就不限于此。此外，在實(shí)施例的說明中，只要不預(yù)先聲明，"份"表示"重量份"。通過使用多晶金剛石切削刀具進(jìn)行切削加工，制作出外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A6063鋁合金制基體1，使該基體1的表面最大高低粗糙度Rz達(dá)到1.3^im。并且，保留---部分制作出的基休l，使用保留的部分，分別測(cè)定基體l的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz以及峰度Rku。作為具體測(cè)定方法，使用東京精密株式會(huì)社制造的表面粗糙度測(cè)定器"Surfcom480A"，按照J(rèn)ISB0601:1994測(cè)定得到的數(shù)值適用于JISB0601:2001標(biāo)準(zhǔn)。結(jié)果列于表3。利用亨舍爾混合機(jī)，將平均一次粒徑為40nm的金紅石型二氧化鈦(石原產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造的"TT055N")和相對(duì)于該二氧化鈦為3重量％的甲基二甲氧基硅垸(東芝有機(jī)硅社制造"TSL8117")混合，得到表面處理的二氧化鈦，將50份該表面處理的二氧化鈦和120份甲醇混合形成原料漿料，以直徑約100pm的氧化鋯珠(株式會(huì)社NIKKATO制造的YTZ)為分散介質(zhì)，使用磨機(jī)容積約0.15L的壽工業(yè)株式會(huì)社制造的ULTRAAPEXMILL(UAM-015型)，在轉(zhuǎn)子圓周速度10米/秒、液體流量10kg/小時(shí)的液體循環(huán)狀態(tài)下對(duì)lkg所述原料槳料進(jìn)行l(wèi)小時(shí)分散處理，制作出二氧63化鈦分散液。加熱上述二氧化鈦分散液、甲醇/l-丙醇/甲苯的混合溶劑和共聚聚酰胺的顆粒(所述共聚聚酰胺由&己內(nèi)酰胺[以下式(^)表示的化合物]/雙(4-氨基-3-甲基環(huán)己基)甲烷[以下式(B)表示的化合物]/l,6-己二胺[以下式(C)表示的化合物]/l,10-癸二羧酸[以下式(D)表示的化合物]/1,18-十八烷基二羧酸[以下式(丑)表示的化合物]以組成摩爾比為60%/15%/5%/15%/5%形成)的同時(shí)進(jìn)行攪拌混合，使聚酰胺顆粒溶解后，利用輸出功率1200W的超聲波振蕩器進(jìn)行1小時(shí)超聲波分散處理，進(jìn)而通過孔徑為5pm的PTFE制的膜濾器(ADVANTEC制造的MitexLC)進(jìn)行過濾，從而得到底涂層形成用涂布液A，在所述底涂層形成用涂布液A中，表面處理的二氧化鈦/共聚聚酰胺的重量比為3/1，甲醇/l-丙醇/甲苯的混合溶劑的重量比為7/1/2，所含有的固體成分的濃度為18.0重量％。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage64</formula>對(duì)該底涂層形成用涂布液A，使用上述UPA測(cè)定的粒度分布(體積平均粒徑和累積90%粒徑)列于表2。通過浸漬涂布將底涂層形成用涂布液A涂布在上述基體1上，并使干燥后的膜厚達(dá)到1.5pm，使其干燥而形成底涂層。利用掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。將20重量份具有圖12所示的CuKa特征X射線的粉末X射線衍射圖的氧鈦酞菁作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)和280重量份1,2-二甲氧基乙烷混合，利用砂磨機(jī)進(jìn)行2小時(shí)分散處理，制作出分散液。接著將該分散液與10重量份的聚乙烯醇縮丁醛(電氣化學(xué)工業(yè)(株)制造，商品名"DenkaButyral"#6000C)、253重量份的1,2-二甲氧基乙烷、85重量份的4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮混合，進(jìn)而混合234重量份的1,2-二甲氧基乙垸，在超聲波分散機(jī)處理后，利用孔徑為5pm的PTFE制的膜濾器(ADVANTEC社制造的MitexLC)進(jìn)行過濾，制作出電荷產(chǎn)生層用涂布液l。利用浸漬涂布，以干燥后的膜厚達(dá)到0.4iam的方式在上述底涂層上涂布該電荷產(chǎn)生層用涂布液l，干燥后形成電荷產(chǎn)生層。[電荷傳輸層用涂布液]接著，在該電荷產(chǎn)生層上涂布以下電荷傳輸層用涂布液并使干燥后的膜厚達(dá)到17pm，在室溫風(fēng)干25分鐘，所述電荷傳輸層用涂布液是將如下物質(zhì)溶解在640重量份四氫呋喃/甲苯(8/2)混合溶劑中而得到的56份以下所示的腙化合物、100份具有以下重復(fù)結(jié)構(gòu)的聚碳酸酯樹脂(粘均分子量約4萬)、和0.05重量份硅油。進(jìn)而，在125。C干燥20分鐘，從而設(shè)置電荷傳輸層，制作出電子照相感光體。將該電子照相感光體定為感光體P1。在這樣得到的感光體P1上安裝驅(qū)動(dòng)用的凸緣部件，并裝入CANON制造的單色激光束式打印機(jī)LBP-850的電子照相盒中，形成圖像，通過14份以K所示的腙化合物、目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。此外，在表3中，沒有干涉條紋、黑點(diǎn)和黑線的情況以"o"表示，能夠確認(rèn)到出現(xiàn)干涉條紋、黑點(diǎn)和黑線但干涉條紋、黑點(diǎn)和黑線為使用上可容許的程度的情況以"A"表示、干涉條紋、黑點(diǎn)和黑線為使用上不能容許的程度的情況以"x"表示。[實(shí)施例2]在外徑060mm的PVC制圓筒基座上形成孔徑05mmx孔間隔10mm的鋸齒狀的孔，將混有粒度#500(平均粒徑34pm)的氧化鋁磨料的徑00.45mm的尼龍材料(杜邦公司制造的"TynexA")植入所述孔中并使其長(zhǎng)度達(dá)到25mm，從而制成刷，使用這樣的刷，在基體轉(zhuǎn)速200rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度(當(dāng)T代)IOmm、上升速度5mm/秒、噴水量1升/分鐘的條件下，對(duì)外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A6063鋁合金制鏡面切削管(Ra0.03、Rz0.2)(基體)實(shí)施表面粗糙化加工。此處的上升速度設(shè)定為不使槽的密度為稀疏程度的盡可能快的速度。接下來，清洗經(jīng)表面粗糙化加工的管。首先，將所述管浸在以4幣:量Y。濃度溶解有脫脂劑"NG-30"(Kizai(株)制造)的6CTC液休中5分鐘，接著依次在3個(gè)常溫純水浴中各浸泡1分鐘，從而除去脫脂劑，然后在82'C的純水中浸泡10秒鐘，以10mm/秒的速度將其從水中拉出后進(jìn)行干燥。最后在150。C的潔凈烘箱中實(shí)施IO分鐘最終干燥，自然冷卻到室溫。其結(jié)果得到基體2，在該基體2的表面上形成有如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的、斜的網(wǎng)格形狀的槽。保留這樣形成的基體2的一部分以用于表面粗糙度和槽寬測(cè)定，在其余完成了清洗的基體2上與實(shí)施例1相同地形成底涂層和感光層，得到感光體P2。使用這樣得到的感光體P2，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。此外，與實(shí)施例1相同地分別測(cè)定保留的基體2的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz以及峰度Rku。進(jìn)而，通過光學(xué)顯微鏡觀察，并從拍攝到的基體表面照片(400倍)上分別測(cè)定基體2的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大衝和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果也列于表3。使用外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，除此以外，與實(shí)施例2相同地進(jìn)行表面粗糙化加工，得到基體3。保留這樣形成的基體3的一部分以用于表面粗糙度和槽寬測(cè)定，在其余完成了清洗的基體3上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P3。使用這樣得到的感光體P3，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。并且，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定所保留的基體3的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz以及峰度Rku。進(jìn)而，分別測(cè)定基體3的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果也列于表3。與曰本特開平7-43922號(hào)公報(bào)的記載相同地使用無心磨床進(jìn)行磨削，得到外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制磨削管，并使該管的Rz達(dá)到l.O(jm，從而，以所述磨削管為基體，刷材料為混有粒度#500(平均粒徑34)am)的氧化鋁磨料的徑00.3mm的尼龍材料(旭化成(株)社制造的"卄>夕，7卜")，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度6mm、上升速度5mm/秒、噴水量l升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例l相同地進(jìn)行基體表面的粗糙化加工，從而得到表面形成有如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽的基體4。保留一部分這樣形成的基體4以用于表面粗糙度和槽寬的測(cè)定，在其余完成了清洗的基體4上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P4。使用這樣得到的感光體P4，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。此外，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定所保留的基體4的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz以及峰度Rku。進(jìn)而，分別測(cè)定基體4的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果也列于表3。利用與日本特開平5-216261號(hào)公報(bào)的實(shí)施例4記載的方法相同的方法，對(duì)外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制鏡面切削管(1^=0.03Rz=0.2iam)進(jìn)行干式i行磨處理。以處理后的所述鏡面切削管為基體，刷材料為混有粒度#1000(平均粒徑16pm)的氧化鋁磨料的徑00.3mm的尼龍材料(旭化成(株)社制造的"卄>夕"U'7卜")，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度6mm、上升速度10mm/秒、噴水量1升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行加工，在基體表面形成如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體5。保留一部分這樣形成的基體5以用于表面粗糙度和槽寬測(cè)定，在其余完成了清洗的管上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P5。使用這樣得到的感光體P5，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過口視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。并且，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定保留的基體5的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz以及峰度Rku。進(jìn)而，分別測(cè)定基體5的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果也列于表3。使用外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該減薄拉深管為基體，刷材料為混有粒度#1000(平均粒徑16pm)的氧化鋁磨料的徑00.3mm的尼龍材料(旭化成(株)社制造"寸^夕'"7卜，，)，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速300rpm、刷轉(zhuǎn)速100rpm、接觸長(zhǎng)度4mm、上升速度1mm/秒、噴水量1升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行加工，在基體表面形成如圖2所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體6。保留一部分該基體6，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體6的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基休6的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。作為利用ULTRAAPEXMILL分散時(shí)的分散介質(zhì)，使用直徑約50pm的氧化鋯珠(株式會(huì)社NIKKATO制造的YTZ)，除此以外，與實(shí)施例1相同地制作出底涂層形成用涂布液B，與實(shí)施例1相同地測(cè)定物性。結(jié)果列于表2。利用浸漬涂布在上述基體6上涂布底涂層形成用涂布液B并使干燥后的膜厚達(dá)到2)im，使其干燥，從而形成底涂層。利用掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果兒乎觀察不到凝集物。將94.2cm2的所述底涂層浸漬在70g甲醇、30g的1-丙醇的混合溶液中，利川輸出功率600W的超聲波振蕩器進(jìn)行5分鐘超聲波處理，得到底涂層分散液，與實(shí)施例1相同地利用UPA測(cè)定該分散液屮的金屬氧化物顆粒的粒度分布，結(jié)果體積平均粒徑為0.09pm、累積90%粒徑為0,14(im。在上述底涂層上與實(shí)施例1相同地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P6。將該感光體P6的94.2cn的感光層浸漬在100a^的四氫呋喃中，利用輸出功率600W的超聲波振蕩器進(jìn)行5分鐘超聲波處理，將所述感光層溶解除去后，將同一部分浸漬在70g甲醇、30g的1-丙醇的混合溶液中，利用輸出功率600W的超聲波振蕩器進(jìn)行5分鐘超聲波處理，得到底涂層分散液，與實(shí)施例1相同地利用UPA測(cè)定該分散液中的金屬氧化物顆粒的粒度分布，結(jié)果體積平均粒徑為0.09jim、累積90%粒徑為0.14,使用這樣得到的感光體P6，與實(shí)施例l相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。[實(shí)施例7]..利用ULTRAAPEXMILL進(jìn)行分散時(shí)的轉(zhuǎn)子圓周速度設(shè)為12米/秒，除此以外，與實(shí)施例6同樣地制作出底涂層形成用涂布液C，與實(shí)施例l相同地測(cè)定物性。結(jié)果列于表2。利用浸漬涂布將底涂層形成用涂布液C涂布在上述基體3上并使干燥后的膜厚達(dá)到2pm，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。在上述底涂層上與實(shí)施例1相同地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P7。使用這樣得到的感光體P7，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。[實(shí)施例8]使用外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該減薄拉深管為基休，刷材料為混有粒度#800(平均粒徑20iim)的氧化鋁磨料的徑00.4mm的尼龍材料(TORAYMONOFILAMENTCo.,Ltd.制造的"卜^夕"')'7卜")，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度6mm、上升速度8mm/秒、噴水量1升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行，在基體表面形成如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體7。保留一部分所述基體7，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體7的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體7的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。作為利用ULTRAAPEXMILL進(jìn)行分散時(shí)的分散介質(zhì)，使用直徑約30)im的氧化鋯珠(株式會(huì)社NIKKATO制造的YTZ)，除此以外，與實(shí)施例7相同地制作出底涂層形成用涂布液D，與實(shí)施例1相同地測(cè)定物性。結(jié)果列于表2。利用浸漬涂布在上述基體7上涂布底涂層形成用涂布液D并使千燥后的膜厚為2pm，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀70察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。在上述底涂層上與實(shí)施例1相同地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P8。使用這樣得到的感光體P8，與實(shí)施例l相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。使用外徑(/>30mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該減薄拉深管為基體，刷材料為混有粒度#500(平均粒徑340jnm)的氧化鋁磨料的徑00.45mm的尼龍材料(旭化成(株)社制造"廿>夕"'」7卜")，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度6mm、上升速度10mm/秒、噴水量1升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行加工，在基體表面形成圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體8。保留一部分所述基體8，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體8的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體8的表面上形成的槽的槽寬L的最大佰(橫向槽最大值)和最小伯:(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3.利用浸漬涂布在上述基體8上涂布底涂層形成用涂布液D并使十燥后的膜厚達(dá)到2pm，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。在上述底涂層上與實(shí)施例1相同地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P9。使用這樣得到的感光體P9，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過H視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。[實(shí)施例10]使用外徑々30mmx長(zhǎng)度346mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制造的基體，進(jìn)行與實(shí)施例2相同地表面粗糙化，得到基體9。保留-一部分所述基體9，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體9的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體9的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。利用浸漬涂布在上述基體9上涂布底涂層形成用涂布液D并使干燥后的膜厚達(dá)到2)im，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。接下來，在該電荷產(chǎn)生層上涂布以下涂布液并使干燥后的膜厚達(dá)到10pm，使其干燥，從而設(shè)置電荷傳輸層，制作出電子照相感光體PIO，所述涂布液是將以下物質(zhì)溶解在640重量份四氫呋喃/甲苯(8/2)混合溶劑中而得到的60份以下式所示的結(jié)構(gòu)為主體的、通過日本特開2002-080432公報(bào)的實(shí)施例1所述的制造方法制造的組合物(A)作為電荷<formula>formulaseeoriginaldocumentpage72</formula>組合物(A)100份具有以下重復(fù)結(jié)構(gòu)的聚碳酸酯樹脂(粘均分子量約3萬)、和(m:n=7:3)0.05重量份硅油。將制作出的感光體PI0安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioDP1820)的電子照相盒(作為一體型盒，具有兩組分調(diào)色劑、格柵電暈管充電部件以及刮板清潔部件)屮，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。[實(shí)施例11]上升速度設(shè)為1.3mm/秒，除此以外，與實(shí)施例10同樣的方式得到基體10。保留一部分所述基體IO，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體10的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體10的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在基體IO上與實(shí)施例10同樣地形成感光層，得到感光體Pll。將制作出的感光體Pl1安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioDP1820)的電子照相盒中，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。使用外徑030mmx長(zhǎng)度388mmx厚度0.75mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該管為基體并對(duì)其進(jìn)行與實(shí)施例2相同的表面粗糙化處理，在基體表面形成如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體ll。'保留一部分所述基體ll，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體11的表面算術(shù)—、—F均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體11的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。將表面處理的二氧化鈦/共聚聚酰胺的重量比設(shè)為2/1，除此以外，與實(shí)施例2相同地制作出底涂層形成用涂布液E。對(duì)于該底涂層形成用涂布液E，與實(shí)施例1相同地測(cè)定物性。結(jié)果列于表2。利用浸漬涂布在上述基體11上涂布底涂層形成用涂布液E并使干燥后的膜厚達(dá)到2y,m，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果幾乎觀察不到凝集物。在上述底涂層上與實(shí)施例10同樣地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P12。將制作的感光體安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioC262)的電子照相盒(作為一體型盒，具有兩組分調(diào)色劑、接觸式充電輥部件和刮板清潔部件)中，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。[實(shí)施例13]使用外徑030mmx長(zhǎng)度388mmx厚度0.75mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該管為基體并對(duì)其進(jìn)行與實(shí)施例11相同的表面粗糙化處理，在基體表面形成如圖3所示的彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體12。保留--部分所述基體12，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體12的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體12的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在上述基體12上與實(shí)施例12同樣地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P13。將制作出的感光體安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioC262)的電子照相盒中，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。通過使用多晶金剛石切削刀具進(jìn)行切削加工，制作出外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A6063鋁合金制基體13，使該基體表面的最大高低粗糙度Rz達(dá)到0.6nm。保留一部分所述基體13，使用保留的部分，與實(shí)施例l相同地分別測(cè)定基體13的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz和峰度Rku。其結(jié)果列于表3。在基體13上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P14。使用這樣得到的感光體P14，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3?；旌?0份表面處理的二氧化鈦和120份甲醇，使用直徑約5mm的氧化鋁球(株式會(huì)社NIKKATO制造的HD)，利用球磨機(jī)分散5小時(shí)得到分散漿料液，直接使用該分散漿料液，而不使用ULTRAAPEXMILL來分散，除此以外，與實(shí)施例1相同地制作出底涂層形成用涂布液F。74對(duì)于所述底涂層形成用涂布液F，與實(shí)施例1相同地測(cè)定物性。結(jié)果列于表2。利用浸漬涂布在上述基體1上涂布底涂層形成用涂布液F并使干燥后的膜厚達(dá)到1.5pm，使其干燥，從而形成底涂層。通過掃描電子顯微鏡觀察底涂層的表面，結(jié)果觀察到了凝集物。在所述底涂層上與實(shí)施例1相同地形成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層，得到感光體P15。'使用這樣得到的感光體P15，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。使用外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該減薄拉深管為基體，刷材料為混有粒度#]000(平均粒徑16jim)的氧化鋁磨料的徑00.3mm的尼龍材料(旭化成(株)社制造"寸^夕"'」7卜，，)，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速200rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度10mm、上升速度5mm/秒、噴水量1升/分釗、除此以外，與實(shí)施例2相同地形成彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基休14。保留一部分所述基休14，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體14的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體14的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在基體14上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P16。使用這樣得到的感光體P16，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。在基體3上與比較例2同樣地形成感光層，得到感光體P17。使用這樣得到的感光體P17，與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。[比較例5]使用外徑430mmxK:度346mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制基體，與實(shí)施例8同樣地進(jìn)行表面粗糙化，得到基體15。保留一部分所述基體15，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體15的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度R^、峰度Rku以及基體15的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在基體15上與實(shí)施例10同樣地形成感光層，得到感光體P18。將制作出的感光體安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造frfl有Pn士n旦々."U7^"1,:nT^D10，n、frh出工昭士AArh4d:田臺(tái)匕uJ久ijIJIJ'Jhw。；vvuijviu丄u厶vyyuj'"tij廠、r、'i口jiiL'l'，/MXj兇|《、，--口不H匕夠得到良好的圖像。使用外徑030mmx長(zhǎng)度388mmx厚度0.75mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，與實(shí)施例8同樣地進(jìn)行表面粗糙化處理，得到基體16。保留一部分所述基體16，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體16的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基體16的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向糟最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在基體16上與實(shí)施例12同樣地形成感光層，得到感光體P19。將制作出的感光體Pl9安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioC262)的電子照相盒中，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。通過使用多晶金剛石切削刀具進(jìn)行切削加工，制作出外徑030mmx長(zhǎng)度357mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A6063鋁合金制基體17，使該基體表面的最大高低粗糙度Rz達(dá)到1.4|im。保留一部分所述基體17，使用保留的部分，與實(shí)施例l相同地分別測(cè)定基體17的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz和峰度Rku。其結(jié)果列于表3。'在基體17上與實(shí)施例1相同地形成感光層，得到感光體P20。使用這樣得到的感光體P20，.與實(shí)施例1相同地形成圖像，通過目視實(shí)施圖像評(píng)價(jià)。其結(jié)果列于表3。[比較例8〗使用外徑d)30mmx長(zhǎng)度346mmx厚度1.0mm的JISH4040所規(guī)定的A3003鋁合金制減薄拉深管，以該減薄拉深管為基體，刷材料為混有粒度#500(平均粒徑34pm)的氧化鋁磨料的徑00.55mm的尼龍材料(杜邦公司制造的"TynexA")，表面粗糙化加工條件為基體轉(zhuǎn)速250rpm、刷轉(zhuǎn)速750rpm、接觸長(zhǎng)度6mm、上升速度1.3mm/秒、噴水量1升/分鐘，除此以外，與實(shí)施例2相同，在基體表面形成彎曲且不連續(xù)的斜槽，得到基體8。保留一部分所述基體18，使用保留的部分，與實(shí)施例2相同地分別測(cè)定基體18的表面算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高低粗糙度Rz、峰度Rku以及基休18的表面上形成的槽的槽寬L的最大值(橫向槽最大值)和最小值(橫向槽最小值)。其結(jié)果列于表3。在基休18上與實(shí)施例10同樣地形成感光層，得到感光體P21。將制作出的感光體P21安裝在PanasonicCommunications株式會(huì)社制造的復(fù)印機(jī)(制品名WorkioDP1820)的電子照相盒中，形成圖像，結(jié)果能夠得到良好的圖像。表2底涂層形成用涂布液的物性<table>tableseeoriginaldocumentpage77</column></row><table>-:無關(guān)數(shù)值或未測(cè)定表3<table>tableseeoriginaldocumentpage78</column></row><table>無關(guān)數(shù)值或未測(cè)定工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明能夠用于產(chǎn)業(yè)上的任意領(lǐng)域，特別是能夠適合地用于電子照相法的打印機(jī)、傳真機(jī)、復(fù)印機(jī)等。以上使用特定的方式對(duì)本發(fā)明詳細(xì)地進(jìn)行了說明，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說顯而易見的是，可以在不脫離本發(fā)明的意圖和范圍的條件下進(jìn)行各種變形。此外，本申請(qǐng)基于2006年5月18日提出的日本專利申請(qǐng)(特愿2006-139528)，以引用的方式援用其全部?jī)?nèi)容。權(quán)利要求1.一種電子照相感光體，該電子照相感光體是在表面最大高低粗糙度值Rz為0.8μm≦Rz≦2μm的導(dǎo)電性基體上具有底涂層和形成在該底涂層上的感光層的電子照相感光體，所述底涂層含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂，其特征在于，將所述底涂層分散在以7∶3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體中的所述金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為0.1μm以下且累積90％粒徑為0.3μm以下，所述體積平均粒徑和所述累積90％粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。2.如權(quán)利要求l所述的電子照相感光體，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體表面形狀是通過切削加工形成的。3.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其特征在于，在所述導(dǎo)電性基體表面上形成微細(xì)的槽，在平而上展開所述導(dǎo)屯性基體表面吋，所述槽的形狀是彎曲且不連續(xù)的。4.如權(quán)利要求3所述的電子照相感光體，其特征在于，形成在所述3電性基體表面上的槽為網(wǎng)格形狀。5.如權(quán)利要求3或4所述的電子照相感光體，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體的表面的峰度Rku為3.5^RkuS25，并且，形成在該導(dǎo)電性基體的表面上的槽寬L為0.5pm^LS6.0pm。6.—種導(dǎo)電性基體的制造方法，該方法為權(quán)利要求1和權(quán)利要求35任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體所具有的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，使撓性材料與所述導(dǎo)電性基體表面接觸，并使所述撓性材料對(duì)所述導(dǎo)電性基體表面進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。7.如權(quán)利要求6所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體的表面預(yù)先被切削加工。8.如權(quán)利要求6或7所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體的表面預(yù)先被減薄拉深。9.如權(quán)利要求68任意一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體的表面預(yù)先被磨削加工。10.如權(quán)利要求69任意一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，所述導(dǎo)電性基體的表面預(yù)先被珩磨加工。11.如權(quán)利要求610任意一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，該方法使用刷作為所述撓性材料。12.如權(quán)利要求11所述的導(dǎo)電性基體的制造方法，其特征在于，所述刷是由混有磨料的樹脂形成的。13.—種成像裝置，其特征在于，所述成像裝置具有權(quán)利要求15任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體、使所述電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的所述電子照相感光體進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、利用調(diào)色劑將所述靜屯潛像顯影的顯影單元、和將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元。14.一種電子照相盒，其特征在于，所述電子照相盒具有權(quán)利要求15任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體和以下單元中的至少一個(gè)單元使所述電子照相感光體帶電的充電單元、對(duì)充電后的所述電子照相感光體進(jìn)行像曝光以形成靜電潛像的像曝光單元、利用調(diào)色劑將所述靜電潛像顯影的顯影單元、將所述調(diào)色劑轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元、使轉(zhuǎn)印到所述被轉(zhuǎn)印體上的調(diào)色劑定影的定影單元、以及將附著在所述電子照相感光體上的所述調(diào)色劑回收的清潔單元。全文摘要本發(fā)明提供難以產(chǎn)生黑點(diǎn)、色點(diǎn)、干涉條紋等圖像缺陷的高性能的電子照相感光體。更具體地說，本發(fā)明提供一種電子照相感光體，該電子照相感光體在表面最大高低粗糙度Rz為0.8μm≤Rz≤2μm的導(dǎo)電性基體上具有含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的底涂層和形成在底涂層上的感光層。在所述電子照相感光體中，將底涂層分散在以7∶3的重量比混合甲醇和1-丙醇而成的溶劑中，所得到的液體中的金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑為0.1μm以下且累積90％粒徑為0.3μm以下，所述體積平均粒徑和累積90％粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的。文檔編號(hào)G03G5/14GK101449210SQ200780017998公開日2009年6月3日申請(qǐng)日期2007年5月18日優(yōu)先權(quán)日2006年5月18日發(fā)明者栗原俊一郎,渕上宏惠,田口將,石尾耕三申請(qǐng)人:三菱化學(xué)株式會(huì)社