專利名稱：導(dǎo)電性層積體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及導(dǎo)電性層積體、為了保護(hù)等離子顯示板(以下簡稱PDP)本體而設(shè)置于 PDP的觀察者側(cè)的具有屏蔽由PDP產(chǎn)生的電磁噪聲的電磁波屏蔽能力的等離子顯示器用電 磁波屏蔽膜及等離子顯示器用保護(hù)板。
背景技術(shù)：
具有透明性的導(dǎo)電性層積體被用作液晶顯示元件等的透明電極、汽車擋風(fēng)玻璃、 熱鏡、電磁波屏蔽窗玻璃等。例如，專利文獻(xiàn)1揭示了在透明基板上設(shè)有交錯(cuò)層積了由氧化 鋅形成的透明氧化物層和銀層的總計(jì)(2Π+1)層(η為1以上的整數(shù))的涂層的導(dǎo)電性層積 體。該導(dǎo)電性層積體被認(rèn)為具有充分的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)和可見光透射性。但是， 為了使導(dǎo)電性層積體的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)進(jìn)一步提高而增加層積數(shù)η和銀層的數(shù)量 的情況下，存在可見光透射性下降的問題。此外，導(dǎo)電性層積體也被用作等離子顯示器用電磁波屏蔽膜。電磁波被從PDP的 正面放出，因此為了屏蔽該電磁波，在PDP的觀察者側(cè)配置在塑料膜等基體上形成了導(dǎo)電 膜的電磁波屏蔽膜。例如，專利文獻(xiàn)2中記載了具有交錯(cuò)層積了氧化物層和金屬層的層積體作為導(dǎo)電 膜的等離子顯示器用保護(hù)板。對(duì)于電磁波屏蔽膜，要求在整個(gè)可見光區(qū)域中透射率高且反射率低，即透射 反射 帶寬，還要求在近紅外區(qū)域中屏蔽性高。為了使透射 反射帶變寬，可以增加氧化物層和金 屬層的層積數(shù)即可。但是，如果增加層積數(shù)，則電磁波屏蔽膜中的內(nèi)部應(yīng)力增加，產(chǎn)生該膜 卷曲或?qū)щ娔て屏讯娮柚瞪叩葐栴}。此外，如果增加層積數(shù)，則可見光透射性可能下 降。因此，以往導(dǎo)電膜中的氧化物層和金屬層的層積數(shù)存在極限，還未曾發(fā)現(xiàn)即使減少層積 數(shù)透射·反射帶也寬且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)和可見光透射性良好的電磁波屏蔽膜。專利文獻(xiàn)1 日本專利特公平8-32436號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 國際公開第98/13850號(hào)文本發(fā)明的揭示本發(fā)明的目的在于提供即使減少層積數(shù)透射 反射帶也寬且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽 性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好的導(dǎo)電性層積體、等離子顯示器用電磁波屏蔽膜 及等離子顯示器用保護(hù)板。本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的制造方法中，所述的導(dǎo)電性層積體具有基體和形成于基 體上的導(dǎo)電膜，其特征在于，在基體表面上通過以下工序形成導(dǎo)電膜(A)使用氧化鈦粉末和氧化鋅粉末制造的靶材，通過濺射法形成氧化物層的工序，
(B)使用銀靶材或銀合金靶材，通過濺射法形成金屬層的工序，重復(fù)前述(A)、(B)的工序計(jì)2η次，η為1以上的整數(shù)，最后由(A)工序形成氧化 物層，從而形成為總計(jì)交錯(cuò)層積了(2η+1)層氧化物層和金屬層的多層結(jié)構(gòu)體的導(dǎo)電膜。優(yōu)選前述(A)的工序中導(dǎo)入混合了氧氣的氬氣進(jìn)行濺射。優(yōu)選前述(B)的工序中導(dǎo)入氬氣進(jìn)行濺射。優(yōu)選前述氧化物層中，鈦相對(duì)于鈦和鋅的總和的比例是1 50原子％。優(yōu)選前述氧化物層含有90質(zhì)量％以上的氧化鈦和氧化鋅。優(yōu)選還包括在最后形成的氧化物層上進(jìn)一步形成保護(hù)膜的工序。本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體即使減少層積數(shù)，透射 反射帶也寬，而且導(dǎo)電性(電磁波 屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好。本發(fā)明的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜即使減少層積數(shù)，透射 反射帶也寬，而且 導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好。本發(fā)明的等離子顯示器用保護(hù)板的電磁波屏蔽能力良好，透射·反射帶寬，可見光 透射率高，近紅外線屏蔽性良好。附圖的簡單說明

圖1為表示本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的一種實(shí)施方式的截面圖。圖2為表示本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的另一種實(shí)施方式的截面圖。圖3為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第1實(shí)施方式的截面圖。圖4為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第2實(shí)施方式的截面圖。圖5為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第3實(shí)施方式的截面圖。圖6為表示實(shí)施例1、2和比較例1、2的保護(hù)板的反射圖譜的圖。圖7為表示實(shí)施例1、2和比較例1、2的保護(hù)板的透射圖譜的圖。符號(hào)的說明1、2、3 保護(hù)板，10 導(dǎo)電性層積體，11 基體，12 導(dǎo)電膜，12a 氧化物層，12b 金 屬層，12c 阻擋層，12d 保護(hù)膜，20 支承基體，30 著色陶瓷層，40 防飛散膜，70 粘接劑 層，50 電極，80 導(dǎo)電網(wǎng)格膜，90 電極。實(shí)施發(fā)明的最佳方式“導(dǎo)電性層積體”對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的一種實(shí)施方式(以下稱為實(shí)施方式)進(jìn)行說明。圖1中表示本實(shí)施方式的導(dǎo)電性層積體10。該導(dǎo)電性層積體10具有基體11和導(dǎo) 電膜12。< 基體 >作為基體11的材料，可以例舉玻璃板(包括風(fēng)冷強(qiáng)化玻璃、化學(xué)強(qiáng)化玻璃等強(qiáng)化 玻璃)和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、三乙酰基纖維素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸 甲酯(PMMA)等透明塑料材料等?！磳?dǎo)電膜〉導(dǎo)電膜12為自基體11側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+l)層[η為1以上的整數(shù)]氧化物 層12a和金屬層12b的多層結(jié)構(gòu)體。導(dǎo)電膜12中，金屬層較好是設(shè)有2 8層，更好是設(shè)有2 6層。如果金屬層在2層以上，可以充分降低電阻值，如果在8層以下，可以進(jìn)一步抑制導(dǎo)電性層積體10的內(nèi)部 應(yīng)力增加。導(dǎo)電膜12中，為了充分確保電磁波屏蔽能力，電阻值較好是0. 4 3. 5 Ω，更好是 0. 5 2. 5 Ω，特別好是0. 5 1. 5 Ω。[氧化物層]導(dǎo)電膜12中的氧化物層12a為含有折射率在2. 3以上的高折射率金屬氧化物和 氧化鋅作為主要成分的層。氧化物層12a較好是總計(jì)含有90質(zhì)量％以上的折射率在2. 3 以上的高折射率金屬氧化物和氧化鋅，更好是含有95質(zhì)量％以上，特別好是含有99質(zhì)量％ 以上。折射率在2. 3以上的高折射率金屬氧化物中，因?yàn)榭梢允狗瓷鋷нM(jìn)一步變寬，較 好是氧化鈦(折射率2. 5)和/或氧化鈮(折射率2. 4)。本發(fā)明中，“折射率”是指波長 550nm處的折射率。通過高折射率金屬氧化物的存在，可以提高氧化物層12a的折射率，可以使導(dǎo)電 膜12的透射 反射帶變寬。氧化物層12a中，高折射率金屬氧化物的金屬相對(duì)于該金屬和 鋅的總和的比例較好是1 50原子％，特別好是5 20原子％。通過使其在該范圍內(nèi)，不 僅可以保持透射 反射帶較寬，而且可以獲得耐濕性良好的導(dǎo)電膜。其理由并不清楚，但認(rèn) 為通過使其在該范圍內(nèi)，可以在保持氧化鋅的良好的物性狀態(tài)下，緩解氧化物層12a和金 屬層12b的應(yīng)力。氧化物層12a可以在不損害物性的范圍內(nèi)含有除氧化鋅、氧化鈦和氧化鈮以外的 金屬氧化物。例如，為了賦予導(dǎo)電性，可以混合氧化鎵、氧化銦、氧化鋁、氧化鎂、氧化錫等。氧化物層12a的幾何學(xué)膜厚(以下簡稱膜厚)理想的是，最接近基體的氧化物層 和離基體最遠(yuǎn)的氧化物層為20 60nm (特別好是30 50nm)，除此以外的氧化物層為40 120nm(特別好是40 IOOnm)。[金屬層]金屬層12b為含有銀或銀合金作為主要成分的層。通過由銀或銀合金形成金屬層 12b，可以降低導(dǎo)電膜12的電阻值。從降低導(dǎo)電膜12的電阻值的角度來看，金屬層12b較好是由純銀形成的層。本發(fā) 明中的“純銀”是指金屬層12b (100質(zhì)量％ )中含有99. 9質(zhì)量％以上的銀。從抑制銀的擴(kuò)散而提高耐濕性的角度來看，金屬層12b較好是由含有金和/或鉍 的銀合金形成的層。為了使電阻率在4.5μ Qcm以下，金和鉍的總和在金屬層12b (100質(zhì) 量％ )中較好是0. 2 1. 5質(zhì)量％。金屬層12b的總膜厚在例如將得到的導(dǎo)電性層積體10的電阻值的目標(biāo)設(shè)為1. 5 Ω 的情況下較好是25 60nm (特別好是25 50nm)，在將電阻值的目標(biāo)設(shè)為0. 9 Ω的情況下 較好是35 SOnm(特別好是35 70nm)。各金屬層的膜厚由前述總膜厚按金屬層數(shù)適當(dāng) 分配得到。另外，如果金屬層的數(shù)量增加，各金屬層的電阻率上升，所以為了降低電阻，存在 總膜厚增加的傾向。[導(dǎo)電膜的形成方法]向基體11上的導(dǎo)電膜12(氧化物層12a、金屬層12b)的形成方法沒有限定，可以 使用例如濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍法、化學(xué)氣相沉積法等。其中，因?yàn)槠焚|(zhì)、特性的穩(wěn)定
5性良好，較好是濺射法。作為濺射法，可以例舉脈沖濺射法、AC濺射法等。采用濺射法的導(dǎo)電膜12的形成例如可以如下進(jìn)行。首先，使用由氧化鋅和高折射 率金屬氧化物構(gòu)成的靶材(以下稱為ZnO混合靶材)，導(dǎo)入混合了氧氣的氬氣，進(jìn)行脈沖濺 射，在基體11表面形成氧化物層12a。接著，使用銀靶材或銀合金的靶材，導(dǎo)入氬氣，進(jìn)行脈沖濺射，形成金屬層12b。通 過重復(fù)該操作，最后以與前述同樣的方法形成氧化物層12a，從而形成多層結(jié)構(gòu)體的導(dǎo)電膜 12。ZnO混合靶材可以通過混合各成分的高純度(通常99. 9% )粉末，使用熱壓法或 HIP(熱等靜壓)法進(jìn)行燒結(jié)來制造。采用熱壓法的情況下，具體通過將含有高折射率金屬 氧化物的氧化鋅粉末在真空或惰性氣體氣氛中于最高溫度1000 1200°C的溫度下進(jìn)行熱 壓來制造。該ZnO混合靶材較好是氣孔率在5. 0%以下，電阻率不到1 Ω cm。[保護(hù)膜]本實(shí)施方式的導(dǎo)電膜12中，最上層的氧化物層12a上設(shè)有保護(hù)膜12d。保護(hù)膜12d 保護(hù)氧化物層12a和金屬層12b不受水分侵害，可以保護(hù)氧化物層12a不受在表面的氧化 物層12a上粘接任意的樹脂膜(防濕膜、防飛散膜、防反射膜、近紅外線屏蔽用等的保護(hù)膜、 近紅外線吸收膜等功能性膜等)時(shí)的粘接劑(特別是堿性粘接劑)侵害。另外，該保護(hù)膜 12d在本發(fā)明中是任選的構(gòu)成要素，可以略去。作為保護(hù)膜12d，具體可以例舉Sn、In、Ti、Si等金屬的氧化物膜和氮化物膜等，特 別好是銦-錫氧化物(ITO)膜。保護(hù)膜12d的膜厚較好是2 30nm，更好是3 20nm。[阻擋層]如圖2所示，導(dǎo)電膜12中，氧化物層12a和金屬層12b交錯(cuò)層積，在氧化物層12a 和金屬層12b間設(shè)有阻擋層12c。如果在金屬層12b上設(shè)置阻擋層12c，如上所述，在氧氣 氛下形成氧化物層12a的情況下，可以防止金屬層12b的氧化。作為阻擋層12c，可以例舉 能夠在不存在氧的條件下形成的層，作為材質(zhì)，可以使用例如摻鋁氧化鋅、摻錫氧化銦等。本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的可見光透射率較好是在55%以上，更好是在60%以上。 此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的波長850nm處的透射率較好是在5%以下，特別好是在2% 以下。[用途]本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏 蔽性良好，而且層積于玻璃等支承基體的情況下，透射·反射帶變寬，所以可用作等離子顯 示器用電磁波屏蔽膜。此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體可以用作液晶顯示元件等的透明電極。該透明電極 由于表面電阻低，因此應(yīng)答性好，反射率被抑制到玻璃的水平，因此辨識(shí)性好。此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體可以用作汽車擋風(fēng)玻璃。該汽車擋風(fēng)玻璃通過給導(dǎo) 電膜通電，可以發(fā)揮防霧或融冰的功能，而且電阻低，所以通電所需的電壓低，反射率被抑 制到玻璃的水平，因此不會(huì)損害駕駛者的辨識(shí)性。此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的紅外線區(qū)域內(nèi)的反射率非常高，因此可以用作設(shè) 置于建筑物的窗等的熱鏡。
此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的電磁波屏蔽效果好，因此可以用作防止從電氣 電 子設(shè)備放射的電磁波漏到室外且防止影響電氣·電子設(shè)備的電磁波從室外侵入到室內(nèi)的電 磁波屏蔽窗玻璃?！暗入x子顯示器用保護(hù)板”以下，對(duì)將本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體用作等離子顯示器用保護(hù)板(以下稱為保護(hù) 板)的電磁波屏蔽膜的例子進(jìn)行說明。(第1實(shí)施方式)圖3中表示第1實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板1具有支承基體20、設(shè)于支承基體 20上的上述導(dǎo)電性層積體10、設(shè)于支承基體20中的導(dǎo)電性層積體10側(cè)的面的周緣部的著 色陶瓷層30、粘合于支承基體20中的與導(dǎo)電性層積體10側(cè)相反側(cè)的面的防飛散膜40、以 導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的周緣部電連接的電極50和設(shè)于導(dǎo)電性層積體10上的保護(hù) 膜60。在導(dǎo)電性層積體10和支承基體20之間、導(dǎo)電性層積體10和保護(hù)膜60之間、支承 基體20和防飛散膜40之間設(shè)有粘接劑層70。此外，該保護(hù)板1中，導(dǎo)電性層積體10設(shè)于支承基體20的PDP側(cè)。<支承基體>保護(hù)板1中的支承基體20為剛性比導(dǎo)電性層積體10的基體11高的透明基體。通 過設(shè)置支承基體20，導(dǎo)電性層積體10的基體11的材料即使是PET等塑料，也不會(huì)因與PDP 側(cè)的表面相反側(cè)產(chǎn)生的溫度差而發(fā)生翹曲。作為支承基體20的材料，可以例舉與上述的導(dǎo)電性層積體10的基體11的材料同 樣的材料等?！粗沾蓪印抵沾蓪?0為用于隱蔽電極50而使其無法直接從觀察者側(cè)看到的層。著色陶 瓷層30可以通過例如印刷于支承基體20上或粘貼著色帶來形成。<防飛散膜>防飛散膜40為用于防止支承基體20損傷時(shí)的支承基體20碎片的飛散的層。作 為防飛散膜40，沒有特別限定，可以使用一般用于保護(hù)板的材料。防飛散膜40可以具有防反射功能。已知各種兼具防飛散功能和防反射功能的 膜，只要是該種膜，可以任意使用。例如，可以例舉旭硝子公司制的ARCT0P(商品名)。 ARCT0P(商品名)為在具有自我修復(fù)性和防飛散特性的聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜的一面形成由 非結(jié)晶性的含氟聚合物構(gòu)成的低折射率的防反射層而實(shí)施防反射處理的膜。此外，還可以 例舉在由PET等塑料形成的膜上以濕法或干法形成了低折射率的防反射層的膜等。< 電極 >電極50與導(dǎo)電膜12電連接地設(shè)置，使導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電磁波屏 蔽效果得到發(fā)揮。為了確保導(dǎo)電膜12的電磁波屏蔽效果，電極50較好是設(shè)于導(dǎo)電膜12的整個(gè)周緣部。作為電極50的材質(zhì)，從電磁波屏蔽能力的角度來看，優(yōu)選電阻低的材質(zhì)。例如，優(yōu) 選使用涂布銀(Ag)糊料(含有Ag和玻璃料的糊料)或銅(Cu)糊料(含有Cu和玻璃料的
7糊料)并燒結(jié)得到的材質(zhì)。<保護(hù)膜>保護(hù)膜60為保護(hù)導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的膜。具體來說，在保護(hù)導(dǎo)電膜12 不受水分侵害的情況下，設(shè)置防濕膜。作為防濕膜，沒有特別限定，可以使用一般用于保護(hù) 板的膜，可以例舉例如PET、聚偏氯乙烯等塑料制的膜等。此外，作為保護(hù)膜60，可以使用上述的防飛散膜。<粘接劑層>作為粘接劑層70的粘接劑，可以使用市售的粘接劑。作為優(yōu)選的具體例子，可以 例舉丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共 聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烴、苯乙烯_ 丁二烯共聚物類橡膠、丁基橡膠、有機(jī)硅樹脂等粘接 劑。因?yàn)榭梢垣@得良好的耐濕性，特別好是丙烯酸類粘接劑。此外，該粘接劑層70中可以摻入紫外線吸收劑等具有各種功能的添加劑。(第2實(shí)施方式)圖4中表示第2實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板2具有支承基體20、設(shè)于支承基體 20的一面的導(dǎo)電性層積體10、設(shè)于導(dǎo)電性層積體10上的防飛散膜40、以周緣部電連接于導(dǎo) 電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電極50、設(shè)于支承基體20中的與導(dǎo)電性層積體10側(cè)相反側(cè) 的面的周緣部的著色陶瓷層30。此外，防飛散膜40設(shè)于電極50的內(nèi)側(cè)。另外，本實(shí)施方式中，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注與圖3同樣的符號(hào)，略 去說明。該第2實(shí)施方式的保護(hù)板2中，導(dǎo)電性層積體10設(shè)于支承基體20的觀察者側(cè)。(第3實(shí)施方式)圖5中表示第3實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板3具有支承基體20、通過粘接劑層 70粘合于支承基體20表面的導(dǎo)電性層積體10、通過粘接劑層70粘合于導(dǎo)電性層積體10表 面上的防飛散膜40、設(shè)于與導(dǎo)電性層積體10相反側(cè)的支承基體20表面的周緣部的著色陶 瓷層30、以導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的周緣部與著色陶瓷層30重疊的狀態(tài)通過粘接劑層70粘合于支 承基體20表面的導(dǎo)電網(wǎng)格膜80、以電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格膜80 的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層(圖示略)的狀態(tài)設(shè)于保護(hù)板3的周邊部的電極90。保護(hù)板3為導(dǎo)電性層 積體10設(shè)于支承基體20的觀察者側(cè)，導(dǎo)電網(wǎng)格膜80設(shè)于支承基體20的PDP側(cè)的例子。另外，第3實(shí)施方式中，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注與圖3同樣的符號(hào)， 略去說明。導(dǎo)電網(wǎng)格膜80為在透明膜上形成由銅構(gòu)成的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層而得的膜。通常通過 在透明膜上粘合銅箔后，加工成網(wǎng)眼狀來制造。銅箔可以是壓延銅、電解銅中任一種，根據(jù)需要適當(dāng)使用公知的材料即可。銅箔可 以進(jìn)行各種表面處理。作為表面處理，可以例舉鉻酸鹽處理、粗化處理、酸洗、鉻酸鋅處理 等。銅箔的厚度較好是3 30 μ m，更好是5 30 μ m，特別好是7 10 μ m。通過使銅箔的 厚度在30μπι以下，可以縮短蝕刻時(shí)間，通過使其在3μπι以上，電磁波屏蔽性升高。導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的開口率較好是在60 95%，更好是65 90%，特別好是70 85%。導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的開口部的形狀為正三角形、正四邊形、正六邊形、圓形、長方形、菱形等。開口部較好是形狀一致且排列于面內(nèi)。開口部的尺寸較好是1邊或直徑為5 200 μ m，更好是10 150 μ m。通過使開 口部的1邊或直徑在200 μ m以下，電磁波屏蔽性提高，通過使其在5 μ m以上，對(duì)PDP圖像 的影響少。除開口部以外的金屬部的寬度較好是5 50μπι。即，開口部的排列間距較好是 10 250 μ m。通過使金屬部的寬度在5 μ m以上，加工變得容易，通過使其在50 μ m以下， 對(duì)PDP圖像的影響少。如果導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻過低，則膜變厚，變得無法充分確保開口部，對(duì)保護(hù)板 3的光學(xué)性能等產(chǎn)生不良影響。另一方面，如果導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻過高，則變得無法 得到足夠的電磁波屏蔽性。因此，導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻較好是0.01 10Ω/ □，更好是 0. 01 2 Ω / □，特別好是0. 05 1 Ω / 口。導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻使用比開口部的1邊或直徑大5倍以上的電極以開口部的 排列間隔的5倍以上的電極間隔通過4端子法測定即可。例如，開口部為1邊IOOym的正 方形，隔著20 μ m的金屬部的寬度規(guī)則地排列的情況下，將直徑Imm的電極以Imm間隔排列 測定即可?；蛘撸梢詫?dǎo)電網(wǎng)格膜加工成長方形，將電極設(shè)于其長邊方向的兩端，測定其 電阻R，由長邊方向的長度a、短邊方向的長度b根據(jù)下述求得。面電阻=RXb/a將銅箔層疊于透明膜上時(shí)，使用透明的粘接劑。作為粘接劑，可以例舉丙烯酸類粘 接劑、環(huán)氧類粘接劑、聚氨酯類粘接劑、有機(jī)硅類粘接劑、聚酯類粘接劑等。作為粘接劑的類 型，較好是2液型或熱固化型。此外，作為粘接劑，較好是耐藥品性良好的粘接劑。作為將銅箔加工成網(wǎng)眼狀的方法，可以例舉光刻法。印刷法中，通過絲網(wǎng)印刷進(jìn)行 開口部的圖形形成。光刻法中，通過輥涂法、旋涂法、整面印刷法、轉(zhuǎn)印法等將光致抗蝕材料 形成于銅箔上，通過曝光、顯影、蝕刻形成開口部的圖形。作為形成導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的其它方 法，可以例舉通過絲網(wǎng)印刷等印刷法形成開口部的圖形的方法。電極90電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層。 作為電極90，可以例舉導(dǎo)電性帶等。通過電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格 膜80的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層，可以進(jìn)一步降低整體的面電阻值，因此可以使電磁波屏蔽效果進(jìn)一
步提尚。保護(hù)板1 3設(shè)置于PDP的正面，較好是可見光透射率在40%以上，使PDP的圖像 易于觀看。此外，可見光反射率較好是不到6%，特別好是不到3%。此外，波長850nm處的 透射率較好是在5%以下，特別好是在2%以下。以上說明的第1實(shí)施方式 第3實(shí)施方式的保護(hù)板1 3具有支承基體20、設(shè)于 支承基體20上的導(dǎo)電性層積體10、與導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電極50或電極90。 另外，如上所述，導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12為自基體11側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+l)層[η 為1以上的整數(shù)]氧化物層12a和金屬層12b的多層結(jié)構(gòu)體，氧化物層12a含有折射率在 2. 3以上的高折射率金屬氧化物和氧化鋅作為主要成分，金屬層12b含有銀或銀合金作為 主要成分。這樣的導(dǎo)電性層積體10中，由于導(dǎo)電膜12的氧化物層12a含有高折射率金屬 氧化物，所以可以使透射·反射帶變寬。因此，即使不增加層積數(shù)，也可以得到透射·反射 帶寬的保護(hù)板。另外，通過不增加層積數(shù)，可以提高可見光透射性。而且，由于氧化物層12a所含的氧化鋅具有結(jié)晶性，因此形成于氧化物層12a上的金屬層12b中的金屬也容易結(jié)晶 化，不易發(fā)生遷移。其結(jié)果，保護(hù)板的導(dǎo)電性高，電磁波屏蔽能力強(qiáng)。另外，本發(fā)明的保護(hù)板并不局限于上述的實(shí)施方式。例如，上述的實(shí)施方式中，設(shè) 置粘接劑層70來層積膜，但也可以不使用粘合劑或粘接劑，進(jìn)行采用加熱的粘合。此外，本發(fā)明的保護(hù)板中，根據(jù)需要可以具有防反射膜或作為低折射率薄膜的防 反射層。作為防反射膜，沒有特別限定，可以使用一般用于保護(hù)板的膜。特別是如果使用含 氟樹脂類的膜，防反射性更好。因?yàn)榈玫降谋Ｗo(hù)板的反射率變低，得到理想的反射色，所以對(duì)于該防反射層本身， 可見光區(qū)域內(nèi)的反射率達(dá)到最低的波長較好是500 600nm，特別好是530 590nm。此外，可以使保護(hù)板具有近紅外線屏蔽功能。作為使其具有近紅外線屏蔽功能的 方法，可以例舉使用近紅外線屏蔽膜的方法、使用近紅外線吸收基體的方法、在膜層積時(shí)使 用添加了近紅外線吸收劑的粘接劑的方法、在防反射樹脂膜等中添加近紅外線吸收劑而使 其同時(shí)具有近紅外線吸收功能的方法、使用具有近紅外線反射功能的導(dǎo)電膜的方法等。
實(shí)施例(實(shí)施例1)將高純度的氧化鋅粉末和氧化鈦粉末以氧化鋅氧化鈦=80 20 (質(zhì)量比)的 條件用球磨機(jī)進(jìn)行混合，調(diào)制混合粉末。將該混合粉末填充于碳制的熱壓用模具，以在氬氣 氣氛中于iioo°c保持ι小時(shí)的條件實(shí)施熱壓，得到氧化鋅和氧化鈦混合靶材。熱壓的壓力 為 100kg/cm2。如下制成圖2所示的導(dǎo)電性層積體。首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚ΙΟΟμπι的PET膜表面的采用離子束的 干法清洗。先在氬氣中混合約30%的氧，施加100W的電力。將通過離子束源離子化得到的 氬離子和氧離子照射于基體表面。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=80 20(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚35nm的 氧化物層12a。通過盧瑟福背散射法進(jìn)行了測定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和 (100原子％)中，鋅為80原子％，鈦為20原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和 (100原子％ )中，鋅為34. 3原子％，鈦為8. 0原子％，氧為57. 7原子％。若將其換算為ZnO 和TiO2,則氧化物的總和為96. 7質(zhì)量％。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 45Pa的壓力進(jìn)行 頻率50kHz、電功率密度2. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅 膜(阻擋層12c)。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=80 20(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/
10cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到 的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層 12b。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 45Pa的壓力進(jìn)行 頻率50kHz、電功率密度2. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅 膜(阻擋層12c)。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=80 20(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到 的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層 12b。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 45Pa的壓力進(jìn)行 頻率50kHz、電功率密度2. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅 膜(阻擋層12c)。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=80 20(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到 的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 45Pa的壓力進(jìn)行 頻率50kHz、電功率密度2. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅 膜(阻擋層12c) 12c。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=80 20(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚30nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到 的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。接著，使用ITO靶材[銦錫=90 10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧 氣后導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒 的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物 層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層12a有5層，金屬層 12b有4層。對(duì)于實(shí)施例1的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為71. 40%，可見光反射率為6. 50%。此外， 波長850nm處的透射率為0. 96%。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 0. 942 Ω。結(jié)果示于表1。然后，在該導(dǎo)電性層積體10的基體11側(cè)表面設(shè)置粘接劑層。使用該導(dǎo)電性層積體10如下制成圖3所示的保護(hù)板1。將作為支承基體20的玻璃板切割、倒角成規(guī)定的大小，清洗后，將著色陶瓷層用 的油墨絲網(wǎng)印刷于玻璃板周緣，充分干燥，形成著色陶瓷層30。接著，作為玻璃強(qiáng)化處理，將 該玻璃板加熱至660°C，然后風(fēng)冷，實(shí)施玻璃強(qiáng)化處理。在該玻璃板的著色陶瓷層30側(cè)通過粘接劑層70粘附上述導(dǎo)電性層積體10。接 著，為了保護(hù)導(dǎo)電性層積體10，在導(dǎo)電性層積體10上通過粘接劑層70粘合保護(hù)膜60 (旭 硝子公司制，商品名ARCT0P CP21)。但是，為了形成電極，周緣部留有未粘合保護(hù)膜的部分 (電極形成部)。接著，在電極形成部以尼龍篩網(wǎng)#180、乳劑厚度20 μ m的條件絲網(wǎng)印刷銀糊料(太 陽4 > *制造公司制，AF4810)，在熱風(fēng)循環(huán)爐中于85°C干燥35分鐘，形成電極50。接著，在玻璃板的背面(粘合了導(dǎo)電性層積體10的一側(cè)的相反側(cè)的面)通過粘 合劑層70粘合作為防飛散膜40的聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜(旭硝子公司制，商品名=ARCTOP URP2199)。該聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜也具有防反射功能。另外，通常在該聚氨酯類軟質(zhì)樹脂 膜中添加著色劑，進(jìn)行色調(diào)校正、橘黃調(diào)色(Ne力,卜)，實(shí)現(xiàn)色彩再現(xiàn)性的提高，本實(shí)施例 中不評(píng)價(jià)色調(diào)校正、橘黃調(diào)色，因此未著色。對(duì)于實(shí)施例1的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透 射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為71.5%，可見光反射率為1.92%。此外，波長850nm 處的透射率為0.76%。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。(實(shí)施例2)除了氧化鋅和氧化鈦混合靶材都使用氧化鋅氧化鈦=50 50(質(zhì)量比)的靶 材之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和保護(hù)板。實(shí)施例2的氧化物層12a中， 鋅和鈦的總和(100原子％)中，鋅為50原子％，鈦為50原子％。此外，氧化物層12a中，所 有原子總和(100原子％)中，鋅為23. 6原子％，鈦為16. 7原子％，氧為59. 7原子％。若 將其換算為ZnO和TiO2，則氧化物的總和為97. 7質(zhì)量％。對(duì)于實(shí)施例2的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可 見光透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為62. 94%，可見光反射率為4. 96%。此外， 波長850nm處的透射率為0. 69%。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 0. 965 Ω。結(jié)果示于表1。對(duì)于實(shí)施例2的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透 射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為62.6%，可見光反射率為1.92%。此外，波長850nm 處的透射率為0.51%。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。(比較例1)除了如下制成導(dǎo)電性層積體之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和保護(hù)板。首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100 μ m的PET膜表面的采用離子束的 干法清洗。先在氬氣中混合約30%的氧，施加100W的電力，將通過離子束源離子化得到的 氬離子和氧離子照射于基體表面。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度0. 6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚9nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率IOOkHz、電功率密度0. 9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚Ilnm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度1. OW/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度1. OW/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率IOOkHz、電功率密度0. 9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚Ilnm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度0. 6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚9nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 2W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚35nm的氧化物層。接著，使用ITO靶材[銦錫=90 10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧 氣后導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0. 5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層上形成作為保護(hù)膜的厚5nm的ITO膜。由此，得到在基體上交錯(cuò)層積了由AZO形成的氧化物層與由金_銀合金形成的金 屬層的導(dǎo)電性層積體，氧化物層有7層，金屬層有6層。對(duì)于比較例1的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可 見光透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為59. 75%，可見光反射率為5.79%。此外， 波長850nm處的透射率為0. 5%。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 0. 957 Ω。結(jié)果示于表1。對(duì)于比較例1的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透 射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為60. 3%，可見光反射率為1.98%。此外，波長850nm 處的透射率為0.28%。結(jié)果示于表2。反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。(比較例2)除了如下制成導(dǎo)電性層積體之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和 保護(hù)板。首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在 氬氣中混合約30%的氧，施加100W的電力。將通過離子束源離子化得到的氬離子和氧離子 照射于基體表面。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度0. 6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率IOOkHz、電功率密度0. 9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚16nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度1. OW/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚16nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4. 7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈 沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 5Pa的壓力進(jìn)行頻 率100kHz、電功率密度0. 6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。接著，使用摻入了 5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后 導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5. 2W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈
14沖濺射，形成厚35nm的氧化物層。接著，使用ITO靶材[銦錫=90 10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合3體積％的氧 氣后導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1. OW/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒 的脈沖濺射，在最上層的氧化物層上形成作為保護(hù)膜的厚5nm的ITO膜。由此，得到在基體上交錯(cuò)層積了由AZO形成的氧化物層與由金_銀合金形成的金 屬層的導(dǎo)電性層積體，氧化物層有5層，金屬層有4層。對(duì)于比較例2的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可 見光透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為60.9%，可見光反射率為6. 85%。此外，波 長850nm處的透射率為0. 40 %。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 0. 981Ω。結(jié)果示于表1。對(duì)于比較例2的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透 射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為61.8%，可見光反射率為4. 22%。此外，波長850nm 處的透射率為0.27%。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。氧化物層含有氧化鋅和氧化鈦?zhàn)鳛橹饕煞?、金屬層含有銀合金作為主要成分的 實(shí)施例1的保護(hù)板雖然金屬層的數(shù)量為4層，但透射 反射帶寬，而且導(dǎo)電性和可見光透射 性良好。與之相對(duì)，氧化物層含有AZO作為主要成分、金屬層的數(shù)量為6層的比較例1的保 護(hù)板的可見光透射率低。氧化物層含有AZO作為主要成分、金屬層的數(shù)量為4層的比較例2的保護(hù)板的透 射 反射帶窄。(實(shí)施例3)如下制成圖1所示的導(dǎo)電性層積體。首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100 μ m的PET膜表面的采用離子束的 干法清洗。先在氬氣中混合約30%的氧，施加100W的電力。將通過離子束源離子化得到的 氬離子和氧離子照射于基體表面。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的 氧化物層12a。通過盧瑟福背散射法進(jìn)行了測定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和 (100原子％)中，鋅為85原子％，鈦為15原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和 (100原子％ )中，鋅為37. 0原子％，鈦為6. 2原子％，氧為56. 8原子％。若將其換算為ZnO 和TiO2,則氧化物的總和為96. 7質(zhì)量％。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚SOnm的氧化物層12a。
15
接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚SOnm的氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層12a。接著，使用ITO靶材[銦錫=90 10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧 氣后導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒 的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物 層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層有4層，金屬層有3 層。對(duì)于實(shí)施例3的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可 見光透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為77. 25%，可見光反射率為5. 07%。此外， 波長850nm處的透射率為12.3%。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 1.815Ω。結(jié)果示于表1。使用該導(dǎo)電性層積體10，與實(shí)施例同樣地操作，制成圖3所示的保護(hù)板1。對(duì)于實(shí)施例3的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光 透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為76. 99%，可見光反射率為3.45%。此外，波長 850nm處的透射率為9.6%。結(jié)果示于表2。(實(shí)施例4)如下制成圖1所示的導(dǎo)電性層積體。首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100 μ m的PET膜表面的采用離子束的 干法清洗。先在氬氣中混合約30%的氧，施加100W的電力。將通過離子束源離子化得到的 氬離子和氧離子照射于基體表面。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的 氧化物層12a。通過盧瑟福背散射法進(jìn)行了測定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和 (100原子％)中，鋅為85原子％，鈦為15原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和 (100原子％ )中，鋅為37. 0原子％，鈦為6. 2原子％，氧為56. 8原子％。若將其換算為ZnO 和TiO2,則氧化物的總和為96. 7質(zhì)量％。
接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚SOnm的氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15(質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚SOnm的氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚SOnm的氧化物層12a。接著，使用摻入了 1. 0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻 率50kHz、電功率密度2. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚IOnm的金屬層 12b。接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅氧化鈦=85 15 (質(zhì)量比)]，在 氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0. 73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4. 5W/ cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層12a。接著，使用ITO靶材[銦錫=90 10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧 氣后導(dǎo)入，以0. 35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1. 3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒 的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物 層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層有5層，金屬層有4 層。對(duì)于實(shí)施例4的導(dǎo)電性層積體，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可 見光透射率(Jis Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為67. 7%，可見光反射率為5. 88%。此外，波 長850nm處的透射率為0. 78%。此外，通過Nagy公司制渦流型電阻測定器SRM12測得的薄層電阻(表面電阻)為 0. 968 Ω。結(jié)果示于表1。使用該導(dǎo)電性層積體10，與實(shí)施例1同樣地操作，制成圖3所示的保護(hù)板1。對(duì)于實(shí)施例4的保護(hù)板，通過東京電色公司制色彩分析儀TC1800測得的可見光透 射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為68.0%，可見光反射率為2. 52%。此外，波長850nm 處的透射率為0.68%。結(jié)果示于表2。
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[表 1]
權(quán)利要求
導(dǎo)電性層積體的制造方法，所述的導(dǎo)電性層積體具有基體和形成于基體上的導(dǎo)電膜，其特征在于，在基體表面上通過以下工序形成導(dǎo)電膜(A)使用氧化鈦粉末和氧化鋅粉末制造的靶材，通過濺射法形成氧化物層的工序，(B)使用銀靶材或銀合金靶材，通過濺射法形成金屬層的工序，重復(fù)前述(A)、(B)的工序計(jì)2n次，n為1以上的整數(shù)，最后由(A)工序形成氧化物層，從而形成為總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層氧化物層和金屬層的多層結(jié)構(gòu)體的導(dǎo)電膜。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性層積體的制造方法，其特征在于，前述(A)的工序中導(dǎo)入 混合了氧氣的氬氣進(jìn)行濺射。
3.如權(quán)利要求1或2所述的導(dǎo)電性層積體的制造方法，其特征在于，前述(B)的工序中 導(dǎo)入氬氣進(jìn)行濺射。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性層積體的制造方法，其特征在于，前述氧化 物層中，鈦相對(duì)于鈦和鋅的總和的比例是1 50原子％。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性層積體的制造方法，其特征在于，前述氧化 物層含有90質(zhì)量％以上的氧化鈦和氧化鋅。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性層積體的制造方法，其特征在于，還包括在 最后形成的氧化物層上進(jìn)一步形成保護(hù)膜的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種導(dǎo)電性層積體的制造方法，所述的導(dǎo)電性層積體具有基體和形成于基體上的導(dǎo)電膜，在基體表面上通過以下工序形成導(dǎo)電膜(A)使用氧化鈦粉末和氧化鋅粉末制造的靶材，通過濺射法形成氧化物層的工序，(B)使用銀靶材或銀合金靶材，通過濺射法形成金屬層的工序，重復(fù)前述(A)、(B)的工序計(jì)2n次，n為1以上的整數(shù)，最后由(A)工序形成氧化物層，從而形成為自基體側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層氧化物層和金屬層的多層結(jié)構(gòu)體的導(dǎo)電膜。
文檔編號(hào)H05K9/00GK101945564SQ20101029345
公開日2011年1月12日 申請日期2005年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月30日
發(fā)明者中釜晉, 宮澤英明, 森本保, 神田幸一, 賦舩昌宏 申請人:旭硝子株式會(huì)社