1.一種應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)、根據(jù)所述旋噴樁(1)所處地質(zhì)條件，在不同地層(A)中各選取一個(gè)檢測區(qū)域；
(2)、在旋噴樁(1)外邊緣處對應(yīng)布設(shè)若干個(gè)聲測管(2)且各聲測管(2)間保持平行；
(3)、在其中一個(gè)聲測管(2)內(nèi)置入一個(gè)發(fā)射換能器(3)并在其它聲測管(2)內(nèi)分別置入一個(gè)接收換能器(4)；
(4)、分別從各聲測管(2)的底部以一定方式提升所述發(fā)射換能器(3)和接收換能器(4)，并實(shí)時(shí)記錄各檢測區(qū)域的聲時(shí)、振幅和頻率；
(5)、根據(jù)步驟(4)中實(shí)時(shí)記錄的各檢測區(qū)域的聲時(shí)、振幅和頻率反演重建出旋噴樁(1)的超聲波速分布圖像，依據(jù)所述超聲波速分布圖像得出旋噴樁(1)的樁徑；
(6)、將步驟(5)得到的旋噴樁(1)的樁徑與設(shè)計(jì)要求的樁徑進(jìn)行比對，若大于或小于設(shè)計(jì)要求的樁徑，則調(diào)整施工參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述聲測管(2)為鋼管，采用螺紋連接或者套筒連接，保證水密性，直徑大于所述發(fā)射換能器(3)和接收換能器(4)的直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述步驟(4)中以一定方式提升所述發(fā)射換能器(3)和接收換能器(4)具體為：所述發(fā)射換能器(3)和接收換能器(4)的提升速度均不大于50mm/s，且在一個(gè)檢測區(qū)域內(nèi)進(jìn)行檢測時(shí)，所述發(fā)射換能器(3)固定，所述接收換能器(4)提升，檢測完一個(gè)檢測區(qū)域之后，移動所述發(fā)射換能器(3)到下一個(gè)檢測區(qū)域，繼續(xù)提升所述接收換能器(4)，如此重復(fù)，使得所述發(fā)射換能器(3)和接收換能器(4)將需要的檢測區(qū)域檢測完。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述步驟(6)中的施工參數(shù)包括噴嘴旋轉(zhuǎn)速度、噴嘴提升速度、重復(fù)噴射次數(shù)和噴射壓力。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述聲測管(2)的布設(shè)個(gè)數(shù)根據(jù)待測旋噴樁(1)的樁經(jīng)D確定：當(dāng)D≤800mm時(shí)，聲測管(2)為兩個(gè)；800mm＜D≤2000mm時(shí)，聲測管(2)為三個(gè)；D＞2000mm時(shí)，聲測管(2)為四個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，各聲測管(2)中填充有耦合劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述耦合劑為水。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述耦合劑的最高界面高于待測旋噴樁(1)的樁頂。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述步驟(5)中，采用RSM-SY8基樁超聲波CT成像測試儀反演重建出旋噴樁(1)的超聲波速分布圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用層析成像技術(shù)檢測旋噴樁并控制其樁徑的方法，其特征是，所述超聲波速分布圖像包括超聲波速二維分布圖和超聲波速三維分布圖。