本申請(qǐng)要求2015年5月4日提交的標(biāo)題為“Vibration Dampening Floor System(振動(dòng)阻尼式地板系統(tǒng))”的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)62/156,685的優(yōu)先權(quán)，該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用結(jié)合在本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明總體上涉及地板。具體地，本發(fā)明涉及一種用于地板的改進(jìn)型阻尼和沖擊吸收系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

由體育活動(dòng)、跳舞或其它活動(dòng)產(chǎn)生的動(dòng)力可能顯著地變化，但是存在重要的共同特征。在多種體育活動(dòng)中，腳與地面的接觸臨時(shí)中斷，產(chǎn)生有節(jié)奏的沖擊力。諸如在地板上彈球那樣的附加力也產(chǎn)生有節(jié)奏的沖擊力。許多跳舞活動(dòng)的特征在于這樣的事實(shí)，即存在連續(xù)的地面接觸，產(chǎn)生可與快步走的力相比較的較小的力，盡管一些舞蹈可以產(chǎn)生與體育賽事的力差不多的較大的力。地板表面上的這些和其它沖擊力導(dǎo)致兩個(gè)問(wèn)題。首先，使用者在硬地板上的反復(fù)沖擊可能導(dǎo)致不適或最終的傷害。希望吸收施加在地板上的負(fù)載，同時(shí)維持地板表面的本質(zhì)特征(例如球類彈力、跳躍的能力和否則快速移動(dòng)等)。其次，有節(jié)奏的沖擊力產(chǎn)生的振動(dòng)負(fù)面影響地板系統(tǒng)的性能，能夠造成不期望的聽(tīng)覺(jué)效果，還能夠負(fù)面影響地板系統(tǒng)自身的結(jié)構(gòu)，需要不必要的維護(hù)和/或更換。因此希望存在一種地板系統(tǒng)，該地板系統(tǒng)優(yōu)化振動(dòng)阻尼，同時(shí)還始終吸收負(fù)載并維持地板系統(tǒng)性能。

附圖說(shuō)明

為了進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的上述和其它方面，將參考具體實(shí)施例給出對(duì)本發(fā)明的更具體的描述，所述具體實(shí)施例在附圖中示出。將意識(shí)到，這些附圖僅描述了本發(fā)明的一些方面，因此不被認(rèn)為是對(duì)其范圍的限制。附圖不按照比例繪制。將通過(guò)使用附圖描述和解釋附加的特殊性和細(xì)節(jié)，圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的透視圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖；

圖6是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖；

圖7是根據(jù)本發(fā)明的一方面的地板系統(tǒng)的側(cè)視圖。

具體實(shí)施方式

下文的詳細(xì)描述包括對(duì)附圖的參考，該附圖構(gòu)成了該描述的一部分，并且在圖中通過(guò)實(shí)例示出示例性實(shí)施例。在地板系統(tǒng)中結(jié)合預(yù)壓縮的彈性(有回彈力的)件和其它沖擊吸收設(shè)計(jì)將改善地板系統(tǒng)的性能。然而，在公開(kāi)和描述本發(fā)明之前，將理解的是，如相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將意識(shí)到的那樣，本發(fā)明不限于具體的結(jié)構(gòu)、工序或本文所公開(kāi)的材料，而是擴(kuò)展到其等同方案。還應(yīng)當(dāng)理解，本文所使用的術(shù)語(yǔ)僅出于描述具體實(shí)施例的目的而使用，而不意在是限制性的。盡管下文的詳細(xì)描述出于說(shuō)明的目的而包含多個(gè)細(xì)節(jié)，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識(shí)到，可以對(duì)下文的描述產(chǎn)生多種變型和替代，它們被認(rèn)為是包含在本文中。因此，在不損失所提出的任意權(quán)利要求的一般性并且不對(duì)該權(quán)利要求施加限制的情況下提出本發(fā)明的下述方面。除非以其它方式限定，本文所使用的全部技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ)具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。

如在本說(shuō)明書(shū)和隨附權(quán)利要求中所使用的那樣，單數(shù)形式“一”、“一個(gè)”和“該”包括復(fù)數(shù)個(gè)所指對(duì)象，除非上下文以其它方式明確指出。因此，例如，“一個(gè)線”的所指對(duì)象包括多個(gè)這種線。在本發(fā)明中，“包括”、“包括有”、“包含”和“具有”等可以具有在美國(guó)專利法中賦予它們的含義，可以意味著“包括”、“包括有”等，并且大體上被解釋成開(kāi)放性術(shù)語(yǔ)。如根據(jù)美國(guó)專利法那樣，術(shù)語(yǔ)“由……構(gòu)成的”或“由……構(gòu)成”是封閉式術(shù)語(yǔ)，僅包括連同該術(shù)語(yǔ)具體列出的部件、結(jié)構(gòu)、步驟等。特別地，這種術(shù)語(yǔ)大體上是封閉式術(shù)語(yǔ)，除了允許包括實(shí)質(zhì)上不影響結(jié)合該術(shù)語(yǔ)使用的項(xiàng)目的基本的和新的特征或功能的附加的項(xiàng)目、材料、部件、步驟或元件之外?！氨举|(zhì)上由……構(gòu)成的”或“本質(zhì)上由……構(gòu)成”具有大體上由美國(guó)專利法賦予它們的含義。特別地，這種術(shù)語(yǔ)大體上是封閉式術(shù)語(yǔ)，除了允許包括實(shí)質(zhì)上不影響結(jié)合該術(shù)語(yǔ)使用的項(xiàng)目的基本的和新的特征或功能的附加的項(xiàng)目、材料、部件、步驟或元件之外。例如，如果出現(xiàn)在“本質(zhì)上由……構(gòu)成的”語(yǔ)句中，則存在于成分中但不影響該成分的性質(zhì)或特征的微量元素將是可允許的，盡管沒(méi)有在這種術(shù)語(yǔ)后的項(xiàng)目清單中明確列舉出。當(dāng)使用像“包括有”或“包含有”一樣的開(kāi)放性術(shù)語(yǔ)時(shí)，在本說(shuō)明書(shū)中應(yīng)理解成也應(yīng)當(dāng)對(duì)“本質(zhì)上由……構(gòu)成的”語(yǔ)句以及“由……構(gòu)成的”語(yǔ)句提供直接支持，如所明確表述的那樣，反之亦然。

說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求中的術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等，如果存在的話，用于區(qū)別類似的元件，而不必用于描述特殊順序或時(shí)間次序。將理解的是，如此使用的任意術(shù)語(yǔ)在適當(dāng)?shù)沫h(huán)境下是可互換的，使得本文所描述的實(shí)施例例如能夠按照除了本文所示出或以其它方式描述的那些順序之外的順序操作。類似地，如果本文描述的方法包括一系列步驟，如本文所呈現(xiàn)的這些步驟的順序不必是可以執(zhí)行這些步驟的唯一順序，并且所述步驟中的一些可以被省略和/或本文未描述的一些其它步驟可以被添加到該方法中。

說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求中的術(shù)語(yǔ)“左側(cè)”、“右側(cè)”、“正面”、“背面”、“頂部”、“底部”“上方”、“下方”等，如果存在的話，是出于描述性的目的而不必出于描述永久的相對(duì)位置的目的而使用。將理解的是，如此使用的術(shù)語(yǔ)在適當(dāng)?shù)沫h(huán)境下是可互換的，使得本文所描述的實(shí)施例例如能夠按照除了本文所示出或以其它方式描述的那些取向之外的取向操作。如本文所使用的術(shù)語(yǔ)“聯(lián)接”被定義成以任意方式直接或間接連接。本文描述成彼此“相鄰”的物體可以彼此物理接觸、彼此極為貼近或如適合于使用該短語(yǔ)的上下文那樣在彼此相同的一般地帶或區(qū)域。在出現(xiàn)短語(yǔ)“在一個(gè)實(shí)施例中”或“在一方面中”時(shí)，本文不必全部指的是相同的實(shí)施例或方面。

如本文所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)“大體上”指的是操作、特征、性質(zhì)、狀態(tài)、結(jié)構(gòu)、項(xiàng)目或結(jié)果的完整的或接近完整的內(nèi)容或程度。例如，“大體上”封閉的物體將意味著該物體或完全封閉或接近完全封閉。與絕對(duì)的完備性的精確的可允許偏差程度在一些情況下可以取決于具體的上下文。然而，一般而言，完備性的接近度將使得具有與如果得到絕對(duì)的或全部的完備性那樣相同的整體結(jié)果。當(dāng)在負(fù)面含義中使用時(shí)，“大體上”的使用同樣可適用于指的是完全或接近完全缺少操作、特征、性質(zhì)、狀態(tài)、結(jié)構(gòu)、項(xiàng)目或結(jié)果。例如，“大體上不存在”顆粒的成分將完全缺少顆?；蛉绱私咏耆鄙兕w粒以至于效果將與如果完全缺少顆粒那樣相同。換句話說(shuō)，“大體上不存在”一種配料或元素的成分實(shí)際上仍然可以包含該項(xiàng)目，只要不存在可度量的影響。

如本文所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)“約”用于通過(guò)假設(shè)給定值可能“略高于”或“略低于”數(shù)值范圍端點(diǎn)來(lái)為該端點(diǎn)提供靈活性。除非以其它方式說(shuō)明，根據(jù)特定的數(shù)字或數(shù)值范圍，術(shù)語(yǔ)“約”的使用也應(yīng)當(dāng)被理解成為沒(méi)有術(shù)語(yǔ)“約”的這些數(shù)值項(xiàng)目或范圍提供支持。例如，為了方便和簡(jiǎn)潔起見(jiàn)，“約50埃至約80埃”的數(shù)值范圍也應(yīng)當(dāng)被理解成為“50埃至80?！钡姆秶峁┲С帧?/p>

如本文所使用的那樣，多個(gè)項(xiàng)目、結(jié)構(gòu)元件、組成元件和/或材料可能出于方便而出現(xiàn)在共同的列表中。然而，這些列表應(yīng)當(dāng)被解釋成盡管該列表的各成員被單獨(dú)地認(rèn)定成單獨(dú)且唯一的成員。因此，在沒(méi)有相反地指出的情況下，這種列表中的個(gè)體成員不應(yīng)當(dāng)基于其出現(xiàn)在共同的組中而被解釋成實(shí)際上與相同的列表中的任何其它成員等同。

濃度、數(shù)量和其它數(shù)值數(shù)據(jù)在本文中可以被表達(dá)或表示成范圍的格式。將理解的是，這種范圍格式僅為了方便和簡(jiǎn)潔起見(jiàn)而使用，因此應(yīng)當(dāng)被靈活地解釋成不僅包括明確描述成該范圍的限度的數(shù)值，也包括全部個(gè)體數(shù)值或該范圍所包含的子范圍，猶如各數(shù)值或子范圍被明確描述的那樣。例如，“約1至約5”的數(shù)值范圍應(yīng)當(dāng)被解釋成不僅包括約1至約5的明確描述的值，也包括該指示范圍內(nèi)的個(gè)體值或子范圍。因此，諸如2、3和4那樣的個(gè)體值和諸如從1-3、從2-4和從3-5等的子范圍以及單獨(dú)的1、1.5、2、2.8、3、3.1、4、4.6和5都包括在該數(shù)值范圍內(nèi)。該相同的原理適用于僅將一個(gè)數(shù)值描述成最小值或最大值的范圍。另外，不論該范圍的幅度或所描述的特征，都應(yīng)當(dāng)適用這種解釋。

如本文所使用的那樣，當(dāng)結(jié)合對(duì)裝置、部件或工藝的描述使用時(shí)，“增強(qiáng)的”、“改進(jìn)的”、“性能增強(qiáng)的”、“升級(jí)的”、“改進(jìn)”等指的是該裝置、部件或工藝的特征，與先前已知的裝置或工藝相比，該裝置、部件或工藝提供了可測(cè)量的更好的形式、功能或成果。這既適用于裝置或工藝中的個(gè)體組成部分的形式和功能，也適用于作為整體的這種裝置或工藝。本說(shuō)明書(shū)全文對(duì)“一個(gè)示例”的參考意味著至少一個(gè)實(shí)施例中包括了結(jié)合該示例所描述的具體特點(diǎn)、結(jié)構(gòu)、特征。因此，在本說(shuō)明書(shū)全文中，短語(yǔ)“在一個(gè)示例中”在各處的出現(xiàn)不必全部指的是相同的實(shí)施例。

應(yīng)當(dāng)理解，本文所討論的技術(shù)的方面計(jì)劃與任意類型的地板系統(tǒng)一起使用。為了說(shuō)明本文所要求的方法和系統(tǒng)的各種方面，下文的討論將主要涉及描述涉及運(yùn)動(dòng)地板的示例性實(shí)施例。然而，應(yīng)當(dāng)注意，本文討論的元件和原理可適用于其它應(yīng)用。還將注意，本文對(duì)方法和系統(tǒng)的討論關(guān)于具體的方面可以是可互換的。換句話說(shuō)，本文對(duì)一種方法或系統(tǒng)(或其部件)的具體討論在涉及該系統(tǒng)和方法時(shí)同樣可適用于其它方面，反之亦然。

下文提供對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的初始概述，然后進(jìn)一步詳細(xì)描述具體的技術(shù)實(shí)施例。該初始概述意在幫助讀者更加快速地理解本發(fā)明，但是不意在確定關(guān)鍵或本質(zhì)的技術(shù)特點(diǎn)，也不意在限制所要求的主題的范圍。本發(fā)明在其各種實(shí)施例(在本文的圖中描述了該實(shí)施例中的一些)中可以被廣泛地描述成振動(dòng)阻尼(振動(dòng)減弱，減振)和震動(dòng)(沖擊)吸收式地板系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括低彈性襯墊(墊塊)材料，該材料例如擱在帶尺寸的區(qū)段(也稱作力傳遞構(gòu)件)和諸如混凝土那樣的支承基底的表面之間。該帶尺寸的區(qū)段的寬度和高度可以變化，以適合具體的應(yīng)用和適合低彈性襯墊的具體設(shè)計(jì)。也就是說(shuō)，根據(jù)低彈性襯墊的高度、密度和/或彈性和對(duì)如本文更加詳細(xì)說(shuō)明的那樣布置在接觸面上的負(fù)載的反應(yīng)，可以使用帶尺寸的區(qū)段的不同幾何結(jié)構(gòu)的多種組合。下彈性襯墊和帶尺寸的區(qū)段布置在下底層地板(地板襯板，subfloor)之間的空間中。上底層地板布置在帶尺寸的區(qū)段上方并且被隔開(kāi)，以允許將上彈性襯墊放置在上底層地板區(qū)段之間。地板接觸表面布置在上底層地板頂部。

在本發(fā)明的一方面中，該系統(tǒng)工作成將力從地板接觸表面(例如在地板上跳躍的運(yùn)動(dòng)員和/或來(lái)自于彈球的振動(dòng))通過(guò)帶尺寸的區(qū)段傳遞到下彈性襯墊。根據(jù)底部襯墊的密度/彈性，底部彈性襯墊的上部將更多地“吸收”較薄的帶尺寸區(qū)段，導(dǎo)致整個(gè)底部襯墊的總體壓縮更少。以這種方式，控制了整個(gè)底部襯墊被壓縮(導(dǎo)致底部底層地板區(qū)段和地面之間接觸)的程度。相反地，較寬的帶尺寸區(qū)段與較低的襯墊的上部的較大的表面積接合，隨著上底層地板向下按壓在帶尺寸區(qū)段上，更可能增加對(duì)整個(gè)底部襯墊的壓縮。這導(dǎo)致下襯墊的上部“吸收”較少的力，并且整個(gè)襯墊由于作用于上底層地板上的力而較多地被壓縮。有利地，在整個(gè)襯墊不壓縮的情況下，下襯墊的上部吸收施加在臺(tái)面上的較輕的重量和/或振動(dòng)力?！拔铡被蛳乱r墊的壓縮具有至少兩種效果。首先，下襯墊的頂部的吸收有助于吸收來(lái)自于使用者跳躍或在上接觸面頂部以其它方式產(chǎn)生的諸如豎直力那樣的力的振動(dòng)(例如非諧運(yùn)動(dòng))。力傳遞構(gòu)件周圍的下襯墊的壓縮有助于將由于彈球或其它產(chǎn)生活動(dòng)的振動(dòng)而作用在地板上的振動(dòng)(例如諧運(yùn)動(dòng))隔離。

在一些情況下，大量的重量可能放置在上臺(tái)面上(例如重型機(jī)械)。由于下底層地板和地面之間的間隙明顯小于下襯墊的總厚度，因此下底層地板將在下襯墊經(jīng)受過(guò)壓縮之前接觸地面，該過(guò)壓縮可能導(dǎo)致襯墊的最終失效。這保護(hù)了襯墊在地板常規(guī)使用期間吸收較輕的負(fù)載和振動(dòng)阻尼的能力，并且保存了地板在重型負(fù)載的情況下的整體可用性。

上襯墊的尺寸被確定成緊緊地適合上底層地板之間的空間，并且具有比上底層地板的剖面高度小的剖面高度。當(dāng)臺(tái)面(例如硬木籃球地板等)布置在上底層地板頂部時(shí)，該上襯墊在頂部被臺(tái)面壓縮，并且在側(cè)面被壓縮，因?yàn)橐r墊由于頂部負(fù)載的作用而沿著側(cè)向“膨脹”的傾向受上底層地板的側(cè)壁限制。以這種方式，襯墊在恒定在壓縮狀態(tài)下，這導(dǎo)致對(duì)由臺(tái)面上的沖擊產(chǎn)生的振動(dòng)的抑制和/或?qū)⑴_(tái)面之間的力傳遞到上下底層地板。以類似的方式，在本發(fā)明的一方面中，力傳遞構(gòu)件可以布置成使得它們?cè)谖雌珘籂顟B(tài)下壓縮下襯墊的上部的一部分。在該部分壓縮狀態(tài)下，在地板系統(tǒng)中引起的振動(dòng)被抑制。在這種情況下，術(shù)語(yǔ)“未偏壓狀態(tài)”指的是地板在沒(méi)有在該地板自身上施加頂部負(fù)載的情況下的狀態(tài)。下襯墊的上部的部分壓縮可以由作用于力傳遞構(gòu)件上的上底層地板件和上接觸面自身的重量引起。替代地，在地板裝配期間，力傳遞構(gòu)件關(guān)于下襯墊的高度和空隙的高度的相對(duì)高度導(dǎo)致襯墊的部分壓縮。換句話說(shuō)，力傳遞構(gòu)件的高度比下襯墊的頂部和上底層地板的底部之間的任何空間都大。

現(xiàn)在具體參考附圖，根據(jù)本發(fā)明的一方面，圖1和2公開(kāi)了一種地板系統(tǒng)10，該地板系統(tǒng)10包括布置在底層地板組件16上面的上接觸面15。在本發(fā)明的一方面中，上接觸面15包括在傳統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)應(yīng)用中使用的舌榫硬木地板組件。然而，上接觸面15可以包括用作地板接觸表面(即地板的與腳和/或其它通行物相接觸的最上表面)的多種類型的固體表面，它包括聚合材料、金屬材料或用于制造上地板接觸表面的其它材料。底層地板組件16包括上底層地板區(qū)段17和下底層地板區(qū)段18。上底層地板區(qū)段17包括多個(gè)上底層地板件19，這些上底層地板件19彼此隔開(kāi)以產(chǎn)生開(kāi)口或空隙，以允許彈性上襯墊件20被置于相鄰上底層地板件19之間。在本發(fā)明的一方面中，當(dāng)彈性上襯墊20處于未偏壓狀態(tài)時(shí)(即不在襯墊的頂部施加負(fù)載時(shí))，上底層地板件19具有比彈性上襯墊20的剖面高度小的剖面高度。例如，在本發(fā)明的一方面中，上底層地板件19包括1/2英寸厚的膠合板件，該膠合板件寬8英寸，長(zhǎng)8英尺。當(dāng)彈性上襯墊20處于未偏壓(即不被壓縮)狀態(tài)時(shí)，它包括5/8英寸至9/16英寸高的開(kāi)孔聚氨酯(粘合的或非粘合的)，該開(kāi)孔聚氨酯寬4英寸，長(zhǎng)8英尺。當(dāng)就位在地板系統(tǒng)10中時(shí)，彈性上襯墊20被壓縮至1/2英寸高，大體上等于相鄰的上底層地板件19的高度。有利地，由于對(duì)施加在上接觸面15上或否則作用于上接觸面15和上底層地板件19之間的界面上的頂部負(fù)載所產(chǎn)生的振動(dòng)以及作用于地板的其它元件上的其它振動(dòng)的阻尼效果，壓縮的彈性上襯墊20對(duì)上接觸面15、對(duì)上部元件19的側(cè)壁21并對(duì)下底層地板25的頂部提供了少量壓力。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，上底層地板件19固定在下底層地板件25上。它們可以通過(guò)諸如螺釘、釘子、U字釘?shù)饶菢拥臋C(jī)械緊固件固定在一起，或通過(guò)粘合劑、機(jī)械或化學(xué)方式的組合或其它方式來(lái)化學(xué)固定。下底層地板組件18包括多個(gè)下底層地板件25，這些下底層地板件25間隔開(kāi)以允許將彈性下襯墊26置于下底層地板件25的側(cè)壁29之間的空間中。至少一個(gè)力傳遞構(gòu)件28在彈性下襯墊26的頂部和上底層地板件19的底部之間布置在彈性下襯墊26上方。力傳遞構(gòu)件28用于將布置在上接觸面15周圍的頂部負(fù)載傳遞到彈性下襯墊26的離散的上部部分30。這樣，可以通過(guò)彈性下襯墊26的圍繞力傳遞構(gòu)件28的離散區(qū)域30而非彈性下襯墊26的整個(gè)表面的壓縮來(lái)吸收施加在上接觸面15上的較小的負(fù)載。在該方面中，盡管彈性下襯墊26的多數(shù)壓縮發(fā)生在離散區(qū)域30周圍，但應(yīng)理解，一些壓縮可能發(fā)生在彈性下襯墊26的其它部分上。一方面，在與力傳遞構(gòu)件28相鄰的離散區(qū)域30發(fā)生的主要的壓縮量在一方面中的尺寸被確定為力傳遞構(gòu)件28的高度的約1至1.5倍。然而，隨著頂部負(fù)載的增加，整個(gè)彈性下襯墊26可能被壓縮以吸收該負(fù)載。根據(jù)一方面，如果頂部負(fù)載超過(guò)閾值水平，則彈性下襯墊26被壓縮到這樣的程度以至于下底層地板的底部與地面31接觸，實(shí)際上“到達(dá)地板的最低點(diǎn)”。換句話說(shuō)，地板具有第一位置和第二位置，在第一位置中，彈性下襯墊26處于未壓縮狀態(tài)，并且將地板在該地板布置于其上方的地面31上方抬高一定距離，在第二位置中，彈性下襯墊26被向下壓縮，并且下底層地板25與地面31接觸。該地板具有第三位置(介于第一和第二位置中間)，在該第三位置中，力傳遞構(gòu)件28被向下壓入彈性下襯墊26的頂部部分中，但下底層地板25的底部不與地面31接觸。

盡管本文關(guān)于在頂部負(fù)載已經(jīng)施加在力傳遞構(gòu)件28上之后通過(guò)力傳遞構(gòu)件28傳遞到彈性下襯墊26上的壓縮力進(jìn)行具體的參考，但應(yīng)理解，在本發(fā)明的一方面中，地板可以被構(gòu)造成使得在開(kāi)始沒(méi)有在地板頂部施加上部負(fù)載的情況下，力傳遞構(gòu)件28壓縮彈性下襯墊26的上部部分。一方面，上接觸面15和上底層地板19的組合重量將力傳遞構(gòu)件28“預(yù)壓縮”到彈性下襯墊26中，增強(qiáng)了彈性下襯墊26的振動(dòng)阻尼能力。另一方面，力傳遞構(gòu)件28的高度比彈性下襯墊26的頂部和上底層地板19的底部之間的開(kāi)口大。因此，即使沒(méi)有上底層地板19和上接觸面15的重量，一旦被構(gòu)造成，力傳遞構(gòu)件28也將壓縮彈性下襯墊26的一部分。

在本發(fā)明的一方面中，下底層地板25包括1/2英寸厚的膠合板，該膠合板被切割成8英寸寬乘以8英尺長(zhǎng)的厚木板，這些厚木板間隔開(kāi)以在厚木板之間產(chǎn)生約4英寸寬乘以8英尺長(zhǎng)的空隙或開(kāi)口。彈性下襯墊26是3/4英寸厚、4英寸寬、8英尺長(zhǎng)。力傳遞構(gòu)件28包括1-1/4英寸寬乘以1/8英寸厚的1英尺長(zhǎng)的厚木塊。在該示例中，3/8英寸的間隙30定位在下底層地板件25下方和地面31之間。盡管圖1和2示出兩個(gè)力傳遞構(gòu)件28，各力傳遞構(gòu)件28抵靠空隙或開(kāi)口的一個(gè)側(cè)壁，但可設(shè)想地板系統(tǒng)10的力傳遞構(gòu)件和其它元件的多種其它變型。例如，可以使用單個(gè)力傳遞構(gòu)件28，它可以大于或小于1-1/4英寸寬和大于或小于1/8英寸厚，以適合具體的設(shè)計(jì)。力傳遞構(gòu)件28也可以比1英尺更長(zhǎng)或更短，以適合具體的設(shè)計(jì)。另外，力傳遞構(gòu)件28可以由除了木材之外的材料制成(例如剛性或半剛性聚合物、塑料、金屬合金、橡膠或其它材料)。也可以使用多組三件力傳遞構(gòu)件28，該力傳遞構(gòu)件28的每個(gè)都是3/4英寸寬和1/8英寸厚。同樣地，根據(jù)彈性下襯墊26的離散區(qū)域30上的期望沖擊，可以使用多種不同的組合。這隨著彈性下襯墊26的高度及其整體彈性和預(yù)期施加在地板系統(tǒng)10上的負(fù)載而變化。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，上、下彈性襯墊20、26包括再結(jié)合泡沫、開(kāi)孔聚氨酯、閉孔聚氨酯或符合期望的其它材料。上、下彈性襯墊20、26可以由相同的材料制成或可以不同。它們可以具有類似的密度或它們可以具有不同的密度。例如，在本發(fā)明的一方面中，上彈性襯墊20包括具有從7至9磅變化的密度的開(kāi)孔聚氨酯，下彈性襯墊包括具有從5至7磅變化的密度的閉孔聚氨酯。在該示例中，下彈性襯墊26對(duì)施加于其上的垂直負(fù)載具有較大的靈敏度(和因此較大的反作用力)。上彈性襯墊20具有較大的靈敏度和較大的振動(dòng)吸收能力。然而，上彈性襯墊20可以由密度比用于下彈性襯墊26的材料密度更低的材料構(gòu)造成，以適合具體的目的。如本文所述，力傳遞構(gòu)件28可以是剛性的，并且可以包括諸如木材、金屬或聚合物的材料或它們可以包括諸如橡膠的彈性材料。特別地，它們可以包括具有比上、下彈性襯墊20、26的硬度更大的硬度(例如范圍在20A Shore和60A Shore之間)的順應(yīng)性材料。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，上、下底層地板件19、25分別以交錯(cuò)的位置布置，使得上底層地板件19的側(cè)向(橫向)側(cè)部平均有兩英寸處于下底層地板件25的側(cè)向側(cè)部的頂部。另外，上底層地板件19的頂部側(cè)和底部側(cè)約有兩英寸處于上底層地板件25的頂部側(cè)和底部側(cè)的頂部。這樣，未被第一彈性襯墊20減弱反而通過(guò)地板系統(tǒng)傳遞到下底層地板傳遞件28上的振動(dòng)被第二下彈性襯墊26吸收。另外，容納各彈性襯墊的各空隙或開(kāi)口的寬度可以不同，從而容納不同尺寸的襯墊，以適合具體的目的。在本發(fā)明的一方面中，錨銷35通過(guò)下底層地板件25插入并緊固在地面中。使用絕緣橡膠卡圈防止下底層地板件25和錨銷35之間的接觸。錨銷35的頭部擱在下底層地板件25的頂面上。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，大體上參考圖3-7，公開(kāi)了一種具有上接觸面15以及上底層地板19和下底層地板25的地板或地板系統(tǒng)。各底層地板或底層地板件中的開(kāi)口或空隙構(gòu)造成將彈性襯墊容納在其中。上彈性襯墊20在未偏壓狀態(tài)下具有比上底層地板件19的側(cè)壁21大的高度，使得當(dāng)上接觸面15處于上底層地板19和彈性襯墊20的頂部上時(shí)，上彈性襯墊處于壓縮或偏壓狀態(tài)。在壓縮或偏壓狀態(tài)下，上彈性襯墊20產(chǎn)生上接觸面15上的向上力、作用于側(cè)壁21上的側(cè)向力和作用于下底層地板25的頂部上的向下力。下彈性襯墊26的尺寸被確定成并被置于下底層地板的空隙或開(kāi)口中，使得留出了該空隙或開(kāi)口的開(kāi)口頂部部分33，力傳遞構(gòu)件保留在該開(kāi)口頂部部分33中。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，參考圖3，力傳遞構(gòu)件40的形狀被確定成接近梯形，它具有窄的底部部分41和寬的頂部部分42。力傳遞構(gòu)件40可以是柱狀梯形件或它們可以包括具有梯形橫截面的長(zhǎng)的材料條帶。在本發(fā)明的另一方面中，力傳遞構(gòu)件50在空隙或開(kāi)口的同一部分33中可以具有不同的高度。在一個(gè)示例中，第一力傳遞構(gòu)件50具有與空隙的開(kāi)口部分33的高度大體上相等的高度。第二和第三傳遞構(gòu)件51具有比第一傳遞構(gòu)件50的高度小的高度。這樣，地板對(duì)沿豎直方向作用于地板上的較小的力更敏感，使得由于單個(gè)力傳遞構(gòu)件50作用于下彈性襯墊26上而更容易吸收較小的負(fù)載。當(dāng)力足夠大以至于導(dǎo)致力傳遞構(gòu)件50向下壓縮，使得上底層地板19的底部19a接觸力傳遞構(gòu)件51時(shí)，附加的力傳遞構(gòu)件51使附加的負(fù)載分布在下彈性襯墊26的其它部分上。這導(dǎo)致了多階段負(fù)載吸收機(jī)制。參考圖4，力傳遞元件可以包括縱向布置在空隙中的插件60。插件60包括基部61，該基部61具有多個(gè)交替的溝槽62和脊部63，它們從該基部延伸出以接觸下彈性襯墊26。一方面，脊部63可以包括如63a和63b所示的不同高度。盡管圖4公開(kāi)了具有指向下的溝槽62和脊部63的基部61，但該插件也可以包括多個(gè)交替的柱來(lái)代替脊部。這些柱還可以具有不同的高度，以產(chǎn)生上文參照?qǐng)D3所討論的多階段沖擊吸收機(jī)制。

現(xiàn)在參考圖5，力傳遞構(gòu)件70可以具有拱形或弄圓的尖端，并且可以被預(yù)先布置在壓縮狀態(tài)或“預(yù)壓縮”布置中，從而下彈性襯墊26的上部部分在任何頂部負(fù)載(跳躍、跳舞、彈球或以其它方式)施加在上接觸面15的頂部上時(shí)被壓縮。這樣，下彈性襯墊26構(gòu)造成吸收作用于地板上的振動(dòng)力和豎直力。盡管處于預(yù)壓縮狀態(tài)，但當(dāng)頂部負(fù)載施加在地板上時(shí)，力傳遞構(gòu)件70仍可以豎直向下移動(dòng)，并且導(dǎo)致下彈性襯墊26的進(jìn)一步壓縮。圖6公開(kāi)了一種布置，其中，兩個(gè)力傳遞構(gòu)件80處于“預(yù)壓縮”布置，第三力傳遞元件81不處于預(yù)壓縮狀態(tài)。在本發(fā)明的另一方面中，力傳遞元件83占據(jù)了下底層地板件25之間的開(kāi)口33或空隙的大量豎直高度。本文設(shè)想了與力傳遞元件相關(guān)的多種布置和設(shè)計(jì)。例如，根據(jù)一方面，圖7公開(kāi)了一種元件85，該元件85具有基部86和橫向延伸跨越基部86表面的多個(gè)拱形脊部87。替代地，根據(jù)附加方面，力傳遞構(gòu)件90包括一塊狀物，該塊狀物在該塊的中心具有開(kāi)口91，該開(kāi)口91構(gòu)造成在將力傳遞構(gòu)件90從作用于力傳遞構(gòu)件90上的豎直頂部負(fù)載向下推壓到下彈性襯墊26中時(shí)將一部分下彈性襯墊26接納到其中。

本發(fā)明的這些方面可用于在地板中阻尼(減弱，抑制)振動(dòng)和吸收負(fù)載的方法。該方法包括在地板的頂面上施加負(fù)載，所述地板包括布置在上底層地板頂部的上接觸面，該上底層地板包括第一彈性襯墊，該第一彈性襯墊布置在上底層地板的開(kāi)口中并在上接觸面下方，其中，第一彈性襯墊處于壓縮狀態(tài)，并且與(a)上接觸面、(b)上底層地板和(c)下底層地板接觸并對(duì)它們產(chǎn)生力。該地板還包括布置在上底層地板下方并與該上底層地板接觸的下底層地板，該下底層地板包括第二彈性襯墊，該第二彈性襯墊布置在下底層地板的開(kāi)口中并在上底層地板下方，其中，第二彈性襯墊將下底層地板的底部在該地板位于其上的地面上方抬高一定距離。力傳遞構(gòu)件布置在第二彈性襯墊上方，并且構(gòu)造成壓縮第二彈性襯墊的上部部分。該方法還包括吸收作用于第一彈性襯墊上的振動(dòng)力，該振動(dòng)力通過(guò)上接觸面、上底層地板或下底層地板傳遞到第一襯墊上，和吸收作用于第二彈性襯墊上的力，該力通過(guò)力傳遞構(gòu)件和下底層地板傳遞到第二襯墊上。另外，該方法包括壓縮第二彈性襯墊的一部分，由此吸收作用于地板上的頂部負(fù)載和進(jìn)一步壓縮第二彈性襯墊，直到下底層地板的底部接觸地面。

上文的詳細(xì)描述參考具體的示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明。然而，將意識(shí)到，在不背離隨附權(quán)利要求所提出的本發(fā)明的范圍的情況下，可以進(jìn)行各種修改和改變。詳細(xì)描述和附圖將被認(rèn)為僅是示意性的，而不是限制性的，并且全部這些修改和改變，如果存在的話，意在落入如本文所描述和提出的本公開(kāi)的范圍中。

更具體地，盡管本文已經(jīng)描述了示意性的示例性的發(fā)明實(shí)施例，但本發(fā)明不限于這些實(shí)施例，而是包括具有如本領(lǐng)域技術(shù)人員將根據(jù)上文的詳細(xì)描述意識(shí)到的修改、省略、組合(例如跨越多個(gè)實(shí)施例的方面的組合)、改變和/或變化的任何和全部實(shí)施例。權(quán)利要求中的限制將基于權(quán)利要求中所使用的語(yǔ)言被廣泛地解釋，而不限于在上文的詳細(xì)描述中或在本申請(qǐng)的注冊(cè)期間所描述的示例，該示例將被解釋成無(wú)排他性。例如，在本發(fā)明中，術(shù)語(yǔ)“優(yōu)選地”是無(wú)排他性的，其中，它意在意味著“優(yōu)選地，但是不限于”。任何方法或工藝中列舉的任何步驟可以按照任何順序執(zhí)行，而不限于權(quán)利要求中所述的順序。將僅在對(duì)于具體的權(quán)利要求限制，在該限制中出現(xiàn)全部下列條件時(shí)使用裝置+功能和步驟+功能限制：a)明確地表述“用于……的裝置”或“用于……的步驟”；和b)明確地表述相應(yīng)的功能。在本文的描述中明確地表述了支持裝置+功能的結(jié)構(gòu)、材料或表現(xiàn)。因此，應(yīng)當(dāng)僅通過(guò)隨附權(quán)利要求及其合法的等同方案而不是通過(guò)上文給出的描述和示例來(lái)確定本發(fā)明的范圍。