一種雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及鍍膜玻璃【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法，所述雙銀低輻射鍍膜玻璃采用磁控濺射鍍膜，包括玻璃基片和鍍在所述玻璃基片表面的膜層，所述膜層自所述玻璃基片的一側(cè)向外依次包括第一介質(zhì)層、第一銀層、第一保護(hù)層、第二介質(zhì)層、第二銀層、第二保護(hù)層、第三介質(zhì)層、第三保護(hù)層及第四介質(zhì)層；本發(fā)明相比于現(xiàn)有技術(shù)，增加了第三保護(hù)層和第四介質(zhì)層，解決了該鍍膜玻璃側(cè)面小角度觀察時顏色有變化的問題，且該鍍膜玻璃膜面顏色及透過色呈中性，整體顏色柔和、美觀，給人以舒適的感覺。
【專利說明】一種雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鍍膜玻璃【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)雙銀低輻射鍍膜玻璃采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)制作，其結(jié)構(gòu)為:玻璃基片，由玻璃基片的一側(cè)向外，依次設(shè)置有第一介質(zhì)層、第一銀層、第一保護(hù)層、第二介質(zhì)層、第二銀層、第二保護(hù)層及第三介質(zhì)層，該結(jié)構(gòu)的雙銀低輻射鍍膜玻璃在顏色方面存在一個較大的缺點，該種玻璃在側(cè)面小角度觀察時相比于玻璃正面觀察時有發(fā)紅、發(fā)紫的現(xiàn)象，其影響玻璃組裝后的玻璃幕墻的整體外觀，且該種玻璃的膜面顏色發(fā)紅，不夠柔和，觀察時有重影，且鍍膜玻璃的透過色顏色發(fā)綠，不夠中性，使玻璃幕墻不能達(dá)到顏色柔和、中性，給人以舒適感覺的外觀效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的之一在于提供了一種膜面顏色均勻、柔和及中性的雙銀低輻射鍍膜玻璃；
[0004]本發(fā)明的目的之二在于提供上述雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0006]一種新型雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍在所述玻璃基片表面的膜層；所述膜層自所述玻璃基片的一側(cè)向外依次包括第一介質(zhì)層、第一銀層、第一保護(hù)層、第二介質(zhì)層、第二銀層、第二保護(hù)層、第三介質(zhì)層、第三保護(hù)層及第四介質(zhì)層。
[0007]較佳地，所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層、所述第三介質(zhì)層及所述第四介質(zhì)層可設(shè)置為金屬氧化層或硅的氮化層，還可設(shè)置為金屬氧化層與硅的氮化層組合的兩層或多層。所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層、所述第三介質(zhì)層及所述第四介質(zhì)層的每層厚度為10 ?80nm。
[0008]所述硅的氮化層優(yōu)選Si3N4層，其結(jié)構(gòu)致密、防水性好，在高溫條件下底層的Si3N4層能夠阻止玻璃的鈉離子穿透，避免對銀層造成影響；而最外層的Si3N4層具有高硬度，保證了膜層具有良好的耐磨耐刮傷特性；其中所述Si3N4層的單層厚度為10?80nm。
[0009]所述金屬氧化層優(yōu)選AZO層，所述AZO層是由Zn0x、A10x燒制而成的具有陶瓷功能的氧化物膜層，其晶體結(jié)構(gòu)致密，能提高膜層平整度，提高膜層的牢固程度，避免在鋼化過程中對銀層的氧化。此外，金屬氧化層還可選ZnOx層，所述ZnOx層是金屬鋅的氧化物膜層，優(yōu)選地，所述ZnOxS氧化鋅、過氧化鋅中的一種或兩種混合物，所述AlOxS氧化鋁、過氧化鋁中的一種或兩種混合物；其中所述AZO層的單層厚度為5?40nm。
[0010]較佳地，所述第一保護(hù)層、所述第二保護(hù)層及所述第三保護(hù)層為NiCr膜層，NiCr具有良好的抗酸堿耐腐蝕性能，能夠保護(hù)銀層不被氧化；優(yōu)選地，所述第一保護(hù)層、所述第二保護(hù)層及所述第三保護(hù)層的每層厚度為0.5?10nm。[0011]銀層為功能層，其對于可見光按具有較高的透過率，能保證自然采光良好，但同時又能有效限制太陽熱輻射的透過，尤其是近紅外熱輻射的透過，較佳地，所述第一銀層及所述第二銀層的每層厚度為I?30nm。
[0012]本發(fā)明采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)制作，包括在所述玻璃基片表面鍍膜，具體為，將所述玻璃基片放入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自玻璃基片一側(cè)向外逐層鍍膜，所述靶材室的濺射靶材包括AZO陶瓷靶、銀靶、鎳鉻靶、鋅鋁靶、硅鋁靶中的至少一個；
[0013]其中，所述AZO陶瓷靶純度為99.50%?99.99%，所述銀靶純度為99.900%?99.999%，所述鎳鉻靶為鉻鎳重量比為20%?30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%?99.999%，所述鋅鋁靶為鋅鋁重量比為5%?30%的鋅鋁靶，鋅、鋁的純度均為99.900%-99.999%，所述硅鋁靶為硅鋁重量比為5%?30%的硅鋁靶，硅、鋁的純度均為99.900%-99.999%ο
[0014]所述靶材室的靶型包括旋轉(zhuǎn)靶、平面靶。
[0015]本發(fā)明相比于現(xiàn)有技術(shù)，其在現(xiàn)有技術(shù)中的雙銀低輻射鍍膜玻璃的鍍膜層的最外層增加了一層保護(hù)層和一層介質(zhì)層，然后通過調(diào)整各膜層厚度，即得本發(fā)明的鍍膜玻璃，其在側(cè)面小角度觀察時其顏色與正面觀察時的顏色相同(即顏色保持不變)；且透過該鍍膜玻璃的玻璃觀察其鍍膜面，其顏色柔和，無重影；同時本發(fā)明的透過色為中性色，整體顏色柔和、美觀，給人以舒適的感覺。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1、本發(fā)明實施例1
[0017]圖2、本發(fā)明實施例2
[0018]圖3、本發(fā)明實施例3
[0019]圖4、本發(fā)明實施例4
[0020]圖5、本發(fā)明實施例5
的結(jié)構(gòu)示意圖的結(jié)構(gòu)示意圖的結(jié)構(gòu)示意圖的結(jié)構(gòu)示意圖的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0022]實施例1
[0023]如圖1，一種雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片O和鍍覆在所述玻璃基片表面的膜層；所述膜層自所述玻璃基片的一側(cè)向外依次設(shè)置有厚度為47nm的第一介質(zhì)層11、厚度為5nm的第一銀層21、厚度為3nm的第一保護(hù)層31、厚度為67nm的第二介質(zhì)層12、厚度為17nm的第二銀層22、厚度為Inm的第二保護(hù)層32、厚度為31nm的第三介質(zhì)層13、厚度為3nm的第三保護(hù)層33、厚底為24nm的第四介質(zhì)層14，其中，第一介質(zhì)層11、第二介質(zhì)層12、第三介質(zhì)層13及第四介質(zhì)層14均為Si3N4層，第一保護(hù)層31、第二保護(hù)層32、第三保護(hù)層33均為NiCr層，第一銀層21和第二銀層22均為Ag層；該雙銀低輻射鍍膜玻璃制品的結(jié)構(gòu)為:
[0024]Glass/Si3N4/Ag/NiCr/Si3N4/Ag/NiCr/Si3N4/NiCr/Si3N4。
[0025]該種結(jié)構(gòu)的雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法:包括在玻璃基片O表面鍍膜，鍍膜層采用磁控濺射方法鍍覆而成，具體為將玻璃基片O放入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自玻璃基片O —側(cè)向外逐層鍍膜，其中靶材室的靶材包括AZO陶瓷靶、銀靶、鎳鉻靶、鋅鋁靶、硅鋁靶；且AZO陶瓷靶純度為99.50%?99.99%，銀靶純度為99.900%?99.999%，所述鎳鉻靶為鉻鎳重量比為20%?30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%?99.999%，鋅鋁靶為鋅鋁重量比為5%?30%的鋅鋁靶，鋅、鋁的純度均為99.900%-99.999%，硅鋁靶為硅鋁重量比為5%?30%的硅鋁靶，硅、鋁的純度均為99.900%-99.999%，靶材室的靶型可為旋轉(zhuǎn)靶和/或平面靶。
[0026]經(jīng)儀器檢測，產(chǎn)品可見光的玻面顏色值、膜面顏色值和透過色的色坐標(biāo)如下表I
所述:
[0027]
【權(quán)利要求】
1.一種雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍在所述玻璃基片表面的膜層；其特征在于:所述膜層自所述玻璃基片的一側(cè)向外依次包括第一介質(zhì)層、第一銀層、第一保護(hù)層、第二介質(zhì)層、第二銀層、第二保護(hù)層、第三介質(zhì)層、第三保護(hù)層及第四介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層、所述第三介質(zhì)層及所述第四介質(zhì)層為金屬氧化層或硅的氮化層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層、所述第三介質(zhì)層及所述第四介質(zhì)層可設(shè)置為金屬氧化層或硅的氮化層組合的兩層或多層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述金屬氧化層為ZnOx 層 ο
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述金屬氧化層為AZO層，所述AZO層是由ZnOx、AlOx燒制而成的具有陶瓷功能的氧化物膜層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一保護(hù)層、所述第二保護(hù)層及所述第三保護(hù)層均為NiCr層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層、所述第三介質(zhì)層及所述第四介質(zhì)層的每層厚度為10?80nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一保護(hù)層、所述第二保護(hù)層及所述第三保護(hù)層的每層厚度為0.5?10nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一銀層及所述第二銀層的每層厚度為I?30nm。
10.如權(quán)利要求1-9任一項所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法，包括在所述玻璃基片表面鍍膜，其特征在于:所述鍍膜層采用磁控濺射方法鍍覆而成，將所述玻璃基片放入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自玻璃基片一側(cè)向外逐層鍍膜，所述靶材室的靶材包括AZO陶瓷靶、銀靶、鎳鉻靶、鋅鋁靶、硅鋁靶中的至少一個。
【文檔編號】C03C17/36GK103434216SQ201310359073
【公開日】2013年12月11日 申請日期:2013年8月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月16日
【發(fā)明者】黃穎, 崔平生, 梁瑞記 申請人:東莞南玻工程玻璃有限公司, 中國南玻集團(tuán)股份有限公司