專利名稱：四銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及建筑和汽車用鍍膜玻璃領域，具體是一種四銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術：
低輻射鍍膜玻璃是一種既能像普通玻璃一樣讓室外的太陽能、可見光透過，又能像紅外反射鏡一樣(尤其對中遠紅外線)將物體二次輻射熱反射回去的新一代鍍膜玻璃， 在任何氣候環(huán)境下使用，均能達到控制光線、節(jié)約能源熱量、控制調節(jié)及改善環(huán)境的作用。 傳統(tǒng)低輻射玻璃包括單銀、雙銀鍍膜玻璃，為了獲得更低的U值、SC(遮陽系數(shù))和良好的光熱比(LSG)，只有通過不斷增加銀層的厚度，但是銀層厚度的增加，就意味著可見光透過的降低、顏色選擇受限，無法滿足不同客戶的需求，于是就出現(xiàn)了更加復雜的三銀甚至四銀低輻射鍍膜玻璃。

實用新型內(nèi)容本實用新型的技術目的解決現(xiàn)有技術中存在的問題，在多銀層鍍膜玻璃中間增設間隔電介質層，通過其疊加效果抵消由于銀層厚度的增加而降低的可見光透過率。本實用新型的技術方案是一種四銀低輻射鍍膜玻璃，在玻璃基板上設有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結構自玻璃基板向外依次為第一電介質組合層、第一銀層、第一間隔層電介質組合層、第二銀層、第二間隔層電介質組合層、第三銀層、第三間隔層電介質組合層、第四銀層、第二電介質組合層。作為優(yōu)選，所述第一電介質組合層、第二電介質組合層、第一間隔層電介質組合層、第二間隔層電介質組合層、第三間隔層電介質組合層由SSTOx、CrNx、CdO, MnO2, InSbO、 TxO、SnO2λ ZnO、ZnSnOx、ZnSnPbOx、ZrO2Λ AZOΛ Si3N4' Si02、SiOxNy、BiO2' Al2O3' Nb2O5' Ta2O5' In203、Mo03、TiO2材料膜層中的一種或幾種組成。所述第一電介質組合層、第二電介質組合層的厚度為10_80nm。所述第一間隔層電介質組合層、第二間隔層電介質組合層、第三間隔層電介質組合層的厚度為10-200nm。所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層的厚度為5_40nm。上述四銀低輻射鍍膜玻璃可采用真空磁控濺射鍍膜，具體包括以下步驟將玻璃基板經(jīng)過清洗干燥，在真空磁控濺射設備中進行預真空過渡，然后在玻璃基板上依次鍍制第一電介質組合層、第一銀層、第一間隔層電介質組合層、第二銀層、第二間隔層電介質組合層、第三銀層、第三間隔層電介質組合層、第四銀層、第二電介質組合層。所述第一電介質組合層、第二電介質組合層、第一間隔層電介質組合層、第二間隔層電介質組合層、第三間隔層電介質組合層可采用雙旋轉陰極、中頻反應磁控濺射方式或者平面陰極、直流磁控濺射的方式沉積膜層。所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層采用平面陰極、直流濺射的方式沉積膜層。所述雙旋轉陰極、中頻反應磁控濺射的方式在氬氧、氬氮或氬氧氮氛圍中進行。所述平面陰極、直流濺射的方式在氬氧、氬氮或純氬氛圍中進行。本實用新型所提供的四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造工藝，具有獨特的膜層結構， 對傳統(tǒng)的低輻射鍍膜玻璃進行了改進，解決傳統(tǒng)低輻射玻璃在銀層厚度和層數(shù)增加后產(chǎn)生的可見光透過率降低、外觀顏色呈現(xiàn)干擾色、顏色選擇受限等問題，特別是使用新型材料的電介質層代替金屬阻擋層的阻擋保護作用，從而取消了金屬阻擋層，使得可見光透過大幅提升。本實用新型的玻璃具有具很高的可見光透過率、極低的輻射率、良好的光熱比，具有良好的光學穩(wěn)定性、耐候性和顏色多樣，可滿足不同客戶的需求，隔熱保溫效果好，紫外線阻擋率高，適宜廣泛應用到汽車玻璃和建筑玻璃市場。

圖I是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
為了闡明本實用新型的技術方案及技術目的，
以下結合附圖及具體實施方式
對本實用新型做進一步的介紹。如圖所示，本實用新型的四銀低輻射鍍膜玻璃的結構及膜層厚度為玻璃/第一電介質組合層(IO-SOnm)/第一銀層(5_40nm)/第一間隔層電介質組合層(10-200nm)/第二銀層(5_40nm) /第二間隔層電介質組合層(10-200nm) /第三銀層 (5-40nm)/第三間隔層電介質組合層(10-200nm)/第四銀層(5_40nm)/第二電介質組合層 (10_80nm)。其中第一、第二電介質組合層，第一、第二、第三間隔層電介質組合層由SSTOx、 CrNx、CdO, MnO2' InSbO、TxO、SnO2, ZnO、ZnSnOx、ZnSnPbOx、ZrO、AZO、Si3N4' SiO、SiOxNy、 BiO2, A1203、Nb2O5, Ta2O5, In2O3> MoO3, TiO2等材料構成的膜層中的一種或幾種組成。實施例I :本實用新型具體實施使用的磁控濺射鍍膜機，包括23個交流旋轉雙陰極，8個直流平面陰極，采用下表列出工藝參數(shù)，使用17個交流旋轉雙陰極，4個直流平面陰極，按照膜層的先后順序依次鍍制，制出本實用新型四銀低輻射鍍膜玻璃。玻璃基板在鍍膜前要經(jīng)過清洗干燥，然后在真空磁控濺射鍍膜機中進行預真空過渡，然后開始鍍膜工序，其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下
權利要求1.一種四銀低輻射鍍膜玻璃，在玻璃基板上設有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結構自玻璃基板向外依次為第一電介質組合層、第一銀層、第一間隔層電介質組合層、第二銀層、第二間隔層電介質組合層、第三銀層、第三間隔層電介質組合層、第四銀層、第二電介質組合層。
2.根據(jù)權利要求I所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質組合層、第二電介質組合層、第一間隔層電介質組合層、第二間隔層電介質組合層、第三間隔層電介質組合層由 SSTOx、CrNx、CdO, MnO2, InSbO、TxO、SnO2, ZnO, ZnSnOx, ZnSnPbOx, ZrO2, AZO、Si3N4' SiO2, SiOxNy、BiO2' Al2O3' Nb2O5' Ta2O5' In2O3' MoO3' TiO2 材料膜層中的一種或幾種組成。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質組合層、第二電介質組合層的厚度為10-80nm。
4.根據(jù)權利要求I或2所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一間隔層電介質組合層、第二間隔層電介質組合層、第三間隔層電介質組合層的厚度為10-200nm。
5.根據(jù)權利要求I或2所述的四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層的厚度為5-40nm。
專利摘要本實用新型公開了一種四銀低輻射鍍膜玻璃，所述四銀低輻射鍍膜玻璃在玻璃基板上設有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結構自玻璃基板向外依次為第一電介質組合層、第一銀層、第一間隔層電介質組合層、第二銀層、第二間隔層電介質組合層、第三銀層、第三間隔層電介質組合層、第四銀層、第二電介質組合層。本實用新型采用了獨特的膜層結構和制造工藝，并且進一步使用了新型材料的電介質層代替?zhèn)鹘y(tǒng)的金屬阻擋層，使玻璃可見光透過率大幅提升、減少了干擾色，并且增加了顏色選擇范圍，使改良后的產(chǎn)品具很高的可見光透過率、極低的輻射率、良好的光熱比和光學穩(wěn)定性、耐候性，并能獲得較好的隔熱保溫效果。
文檔編號C23C14/35GK202344954SQ201120478129
公開日2012年7月25日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權日2011年11月25日
發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏