專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種印刷電路板、液晶基板等基板和掩模的曝光裝置，特別涉及根據(jù)掩模與基板的分配點(按分點)進行曝光作業(yè)的曝光裝置。
背景技術(shù)：
專利文獻1特開平11-194507號公報(段落0011～0014、圖3)專利文獻2特開2000-122303號公報(全文)以往，在制作印刷電路板時，使用下述的曝光裝置，該曝光裝置將設(shè)有電路圖案的掩模與基板校準(zhǔn)后，通過在使兩者密合的狀態(tài)下照射曝光光線，將電路的圖案復(fù)制到基板上。
這樣的曝光裝置具有放置基板的基座；對基座上的基板進行曝光的具有規(guī)定圖案并位于基座上部的掩模；使掩?；蚧暹M行校準(zhǔn)移動的校準(zhǔn)移動裝置；對掩模及基板曝光的由光源及反射鏡等組合構(gòu)成的光學(xué)系統(tǒng)。
此外，已經(jīng)公知如下的曝光方法(例如，參照專利文獻1)將基板與掩模劃分成任意區(qū)域(例如四個區(qū)域)，首先進行基板整體的校準(zhǔn)，然后進行各個區(qū)域的校準(zhǔn)，從完成校準(zhǔn)的區(qū)域開始順序進行曝光作業(yè)，反復(fù)進行該動作而完成基板整體的曝光作業(yè)。
而且，提出了如下方法(例如，參照專利文獻2)對多個圖案整體進行曝光(通過光束掃描進行描繪)時，測量應(yīng)被曝光的區(qū)域各自的重心位置以及整體的重心位置，以此測量數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，根據(jù)多個區(qū)域各自的基準(zhǔn)位置信息分別進行校正，根據(jù)校正后的數(shù)據(jù)，對各個圖案進行曝光。
但是，在專利文獻1中記載的技術(shù)中，由于首先進行基板整體的校準(zhǔn)，按照適當(dāng)?shù)捻樞驅(qū)澐值娜我鈪^(qū)域進行校準(zhǔn)，從完成了校準(zhǔn)的區(qū)域開始進行曝光，因此，在劃分成四個區(qū)域的情況下，基板整體的校準(zhǔn)需要進行五次校準(zhǔn)步驟，而即使在劃分成兩個區(qū)域的情況下，也必須進行三次校準(zhǔn)步驟，很耗費時間。
而且，由于首先通過掩模及基板的標(biāo)記對基板整體進行校準(zhǔn)，因此再對各個區(qū)域進行校準(zhǔn)后，誤差變大。
由于專利文獻2中記載的技術(shù)是如下方法測量應(yīng)被曝光的各個圖案的重心位置及整體的重心位置，以此測量數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，校正多個區(qū)域各自的基準(zhǔn)位置信息，根據(jù)校正后的數(shù)據(jù)，對各個圖案進行曝光，因此，各個圖案的曝光需要時間，而且很難將其應(yīng)用到如印刷基板的曝光裝置那樣的、使掩模與基板密合來對掩模的圖案進行直接曝光的裝置中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點而提出的，其目的是提供一種曝光裝置，可迅速進行基板的整體曝光。
作為解決上述問題的手段，本發(fā)明的曝光裝置對基板與掩模進行校準(zhǔn)，在將上述掩模密合于上述基板的狀態(tài)下進行曝光，其中基板具有多個定位用的校準(zhǔn)標(biāo)記，掩模具有用來與上述校準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)位置的多個掩模標(biāo)記并設(shè)有規(guī)定圖案，該曝光裝置具有以上述多個掩模標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述掩模整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點MB的單元；以上述校準(zhǔn)標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述基板的整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點WB的單元；對上述掩模標(biāo)記的分配點MB與上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB進行比較的第一比較單元；根據(jù)上述比較單元的比較結(jié)果，判斷上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MB是否在容許范圍內(nèi)的第一判斷單元；在上述第一判斷單元判斷出在容許范圍內(nèi)時，將曝光光線照射于上述基板整體。
此外，在該曝光裝置中，還可以將掩模標(biāo)記之間的分配點與基板的校準(zhǔn)標(biāo)記之間的分配點進行比較，在校準(zhǔn)狀態(tài)不好的情況下，卸下該基板，因此，不會進行精度差的無效曝光。


圖1是表示本發(fā)明作為一例所用的曝光裝置的主要部分的平面圖。
圖2是表示本發(fā)明作為一例所用的曝光裝置的整體的立體示意圖。
圖3(a)是表示掩模標(biāo)記的配置的示意圖；圖3(b)是表示基板的校準(zhǔn)標(biāo)記的配置的示意圖。
圖4是表示本發(fā)明作為一例所用的曝光裝置的側(cè)面示意圖。
圖5是本發(fā)明的曝光裝置涉及的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。
圖6是本發(fā)明涉及的曝光裝置的曝光方法的實施方式的流程圖。
符號說明1曝光裝置；2基座；3基板；4掩模；6光源；7(7A～7D)反射鏡；8攝影裝置；9控制機構(gòu)；11汽缸；13桌體；24數(shù)據(jù)輸入部；25數(shù)據(jù)運算部；26數(shù)據(jù)比較部；27判斷部；28曝光信號產(chǎn)生部；30光閘(shutter)機構(gòu)；M(M1～M6)掩模標(biāo)記；MA分配點(掩模一半?yún)^(qū)域中的分配點)；MB分配點(掩模一半?yún)^(qū)域中的分配點)；W(W1～W6)校準(zhǔn)標(biāo)記；WA分配點(基板一半?yún)^(qū)域中的分配點)；WB分配點(基板一半?yún)^(qū)域中的分配點)。
具體實施例方式
以下，參照附圖，對本發(fā)明涉及的曝光裝置的曝光方法的實施方式進行說明。
本發(fā)明是一種曝光裝置，其對具有多個定位用的校準(zhǔn)標(biāo)記的基板、以及具有用于與校準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)位置的掩模標(biāo)記并設(shè)有規(guī)定圖案的掩模進行校準(zhǔn)，在掩模密合于基板上的狀態(tài)下進行曝光。
首先，對曝光裝置進行說明。
在所參照的附圖中，圖1為表示曝光裝置的主要部分的平面圖。圖2為曝光裝置整體的立體示意圖。圖3(a)是表示掩模的掩模標(biāo)記的配置的示意圖。圖3(b)是表示基板的校準(zhǔn)標(biāo)記的配置的示意圖。圖4為曝光裝置的側(cè)面示意圖。
如圖1、圖2所示，曝光裝置1包括放置基板3的基座2；保持掩模4并設(shè)有掩模推動機構(gòu)5(5A、5B、5C)的桌體13，其中掩模具有對基板3進行曝光的規(guī)定電路圖案并位于基板3上，掩模推動機構(gòu)5是使掩模4進行校準(zhǔn)移動的校準(zhǔn)機構(gòu)；從由該桌體13所保持的掩模4的上方照射光并對基板3進行曝光的由光源6及反射鏡7(7A～7B)等所構(gòu)成的光學(xué)系統(tǒng)；用于檢測基板3與掩模4的校準(zhǔn)狀態(tài)的攝影裝置8；經(jīng)由攝影裝置8控制掩模推動裝置5以進行基板3與掩模4的位置對準(zhǔn)等的控制機構(gòu)9(參照圖5)；以及遮擋照射于基板3的規(guī)定區(qū)域的光線的光閘機構(gòu)30(參照圖4)等。
如圖4所示，基座2可通過汽缸11上下活動而使基板3與掩模4密合，而且，為了將基板3固定于基座2上，在基座2的內(nèi)部具有未圖示的真空泵等吸附機構(gòu)。因此，通過基座2上的大量的未圖示的吸附孔，使吸附機構(gòu)產(chǎn)生的吸引空氣作用于孔內(nèi)，從而將基板3吸附于基座2上。
而且，作為上述掩模推動機構(gòu)5的替代物，也可以在汽缸11與基座3之間，配備分三級設(shè)置的可在x方向進行校準(zhǔn)移動的平臺20、可在y方向進行校準(zhǔn)移動的平臺21、以及可在θ方向進行校準(zhǔn)移動的平臺22，進行基板3與掩模4之間的校準(zhǔn)作業(yè)。
基板3為例如由聚酯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂等材質(zhì)構(gòu)成的印刷電路板或液晶基板等。如圖1或圖3(b)所示，在基板3的表面的邊緣部分，例如左右對稱地設(shè)置有多個(此處為六個)O形標(biāo)記或圓孔構(gòu)成的校準(zhǔn)標(biāo)記W(W1～W6)。此外，基板3被未圖示的輸送裝置運送到掩模4正下方的基座2的位置(在此，校準(zhǔn)標(biāo)記W是校準(zhǔn)標(biāo)記的總稱)。
掩模4貼在由框緣狀的掩模保持件14所保持的透光玻璃的下面。在掩模4上形成有未圖示的規(guī)定電路圖案，同時如圖3(a)所示，其在邊緣上左右對稱地設(shè)置有多個(此處為六個)O形標(biāo)記等標(biāo)記，該O形標(biāo)記是用于與基板3的校準(zhǔn)標(biāo)記W(W1～W6)對準(zhǔn)位置的掩模標(biāo)記M(M1～M6)(而且，掩模標(biāo)記M是掩模標(biāo)記的總稱)。
如圖1及圖2所示，掩模保持件14通過球體等可自由移動地設(shè)置在桌體13上，掩模推動機構(gòu)5具有配置在該掩模保持件14的各邊上的一對推動部5A、5B；配置在該推動部5A、5B的相鄰邊上的推動部5C；以及配置在與推動部5A、5B、5C相對的位置上的從動部16、16、16。通過適當(dāng)?shù)仳?qū)動該推動機構(gòu)5(5A、5B、5C)，可使掩模4的掩模保持件14在X方向(圖1的紙面左右方向)、Y方向(圖1的紙面上下方向)，或者作為順時鐘方向或圍繞垂直軸線的方向的θ方向進行校準(zhǔn)移動。
如圖2所示，光學(xué)系統(tǒng)包括由照射包含規(guī)定波長的紫外線的放電燈以及配置在該放電燈后方的橢圓反射鏡構(gòu)成的光源6；將來自該光源6的照射光朝規(guī)定方向反射的平面反射鏡7A、7B、7C及凹面反射鏡7D；以及配置在光源6的光路中的規(guī)定位置上的蠅眼透鏡7E。因此，來自光源6的光經(jīng)由蠅眼透鏡7E、平面反射鏡7A、7B、7C及凹面反射鏡7D，從掩模4上方作為平行光照射于基板3上。而且，優(yōu)選在光源6上具有未圖示的光閘，以便只有在曝光作業(yè)中才可以照射光。
攝影裝置8例如為4臺CCD照相機，固定于可在圖1的箭頭方向上水平移動的臂的前端。此外，該攝影裝置8的相互的距離數(shù)據(jù)預(yù)先被輸入到控制機構(gòu)9(參照圖5)的存儲器等存儲部(未圖示)中。
如圖4所示，光閘機構(gòu)30設(shè)置在掩模保持件14的附近，具有遮擋來自凹面反射鏡7D的照射光的遮蔽板32以及自由進退地保持該遮蔽板32的保持部31。
如圖5所示，控制機構(gòu)9具有數(shù)據(jù)輸入部24、數(shù)據(jù)運算部25、數(shù)據(jù)比較部26、判斷部27以及曝光信號產(chǎn)生部28。
而且，也可以用具有鍵盤與鼠標(biāo)等輸入裝置以及CRT(Cathode-RayTube)或液晶畫面之類的顯示器的PC(personal computer)，來構(gòu)成控制機構(gòu)9。
在數(shù)據(jù)輸入部24中，輸入由攝影裝置8所拍攝的校準(zhǔn)標(biāo)記W、掩模標(biāo)記M的各數(shù)據(jù)。所輸入的各數(shù)據(jù)是對用攝影裝置8依次輸入的掩模4的掩模標(biāo)記M1～M6和校準(zhǔn)標(biāo)記W1～W6的位置信息進行了光電轉(zhuǎn)換后的位置數(shù)據(jù)；以及攝影裝置8所移動的距離的移動數(shù)據(jù)等。
數(shù)據(jù)運算部25根據(jù)所輸入的各數(shù)據(jù)，運算掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W的位置關(guān)系，同時將運算出的位置數(shù)據(jù)存儲在未圖示的存儲器等中。
此外，數(shù)據(jù)運算部25通過根據(jù)數(shù)據(jù)輸入部24所輸入的各數(shù)據(jù)，運算有特定關(guān)系的校準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離數(shù)據(jù)、以及有特定關(guān)系的掩模標(biāo)記之間的距離數(shù)據(jù)，從而運算基板3的一個一半?yún)^(qū)域或另一個一半?yún)^(qū)域中的位于對角方向的校準(zhǔn)標(biāo)記W的分配點WA、以及位于基板3整體的對角方向的校準(zhǔn)標(biāo)記W的分配點WB。
同樣地，數(shù)據(jù)運算部25運算掩模4的一個一半?yún)^(qū)域或另一個一半?yún)^(qū)域中的位于對角方向的掩模標(biāo)記M的分配點MA、以及位于掩模4整體的區(qū)域中的對角方向的掩模標(biāo)記的分配點MB，將上述分配點WA、WB與分配點MA、MB作為位置數(shù)據(jù)分別存儲在未圖示的存儲器等中。
數(shù)據(jù)比較部26比較掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W的各位置數(shù)據(jù)的一致度，同時，將掩模標(biāo)記的分配點MA、MB作為基準(zhǔn)值數(shù)據(jù)，和對應(yīng)成為該基準(zhǔn)值數(shù)據(jù)的分配點MA、MB的校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WA、WB進行比較。
判斷部27判斷掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W相對于預(yù)先設(shè)定的存儲在未圖示的存儲器等中的基準(zhǔn)值是在容許范圍內(nèi)還是在容許范圍外，同時判斷基板3整體的分配點WB與掩模4的分配點MB、或者分配點MA、WB相對于預(yù)先設(shè)定的存儲在未圖示的存儲器等中的基準(zhǔn)值是在容許范圍內(nèi)還是在容許范圍外。
然后，若判斷部27判斷出掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W在容許范圍外，則輸出信號，將信號傳送給掩模推動機構(gòu)5，通過掩模推動機構(gòu)5進行校準(zhǔn)作業(yè)。
此外，在判斷部27判斷出掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W在容許范圍內(nèi)的情況下，對分配點MB與分配點WB進行判斷，在分配點MB、WB在容許范圍內(nèi)的情況下，由曝光信號產(chǎn)生部28輸出用于進行曝光的信號。
而且，在判斷部27在對分配點MB與分配點WB的判斷是在容許范圍外的情況下，對分配點MA與分配點WA進行判斷，在分配點MA與分配點WA在容許范圍內(nèi)的情況下，輸出信號，以使如圖4所示的光閘機構(gòu)30動作，對不在曝光區(qū)域的位置進行遮光，同時照射來自光源6的照射光。
然后，在判斷部27判斷出分配點MA、WA在容許范圍外的情況下，輸出信號，通過未圖示的機械手(handler)等輸送裝置將基板3從基座2卸下。
接著參照圖6及其它附圖，對本發(fā)明的曝光裝置的曝光方法的一連串的流程進行說明。
首先，如圖2所示，通過未圖示的機械手等輸送裝置將基板3搬入到曝光裝置1的基座2。在將搬入的基板3吸附于基座2的狀態(tài)下，使基座2上升移動，使基板3與掩模4在相對的狀態(tài)下真空密合。
當(dāng)將掩模4與基板3真空密合后，如圖1所示，各攝影裝置8從退避位置移動，對掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W進行拍攝，從而將掩模標(biāo)記M與校準(zhǔn)標(biāo)記W的位置數(shù)據(jù)輸入到數(shù)據(jù)輸入部24(參照圖5)中。
如圖3、圖5及圖6所示，由于掩模4的掩模標(biāo)記M1～M6以及基板3的校準(zhǔn)標(biāo)記W1～W6被輸入到數(shù)據(jù)輸入部24，因此，掩模4的掩模標(biāo)記M1、M2之間、掩模標(biāo)記M2、M4之間、掩模標(biāo)記M4、M5之間、掩模標(biāo)記M5、M6之間、以及掩模標(biāo)記M1、M6之間、掩模標(biāo)記M2、M5之間、掩模標(biāo)記M3、M4之間，作為距離數(shù)據(jù)被輸入到數(shù)據(jù)輸入部24。
同時，基板3的校準(zhǔn)標(biāo)記W1、W2之間、校準(zhǔn)標(biāo)記W2、W4之間、校準(zhǔn)標(biāo)記W4、W5之間，校準(zhǔn)標(biāo)記W5、W6之間、以及校準(zhǔn)標(biāo)記W1、W6之間、校準(zhǔn)標(biāo)記W2、W5之間、校準(zhǔn)標(biāo)記W3、W4之間，作為距離數(shù)據(jù)被輸入到數(shù)據(jù)輸入部24。(S1)接著，根據(jù)被輸入數(shù)據(jù)輸入部24的距離數(shù)據(jù)，在數(shù)據(jù)運算部25中，運算掩模標(biāo)記M2、M4之間、M3、M5之間的分配點MA，以及相對于掩模4整體位于最遠位置的掩模標(biāo)記M1、M4之間、掩模標(biāo)記M3、M6之間的分配點MB。同時，在數(shù)據(jù)運算部25中，運算校準(zhǔn)標(biāo)記W2、W4之間、W3、W5之間的分配點WA，以及相對于基板3整體位于最遠位置的校準(zhǔn)標(biāo)記W1、W4之間、校準(zhǔn)掩模標(biāo)記W3、W6之間的分配點WB，將各個分配點MA、MB、WA、WB存儲在數(shù)據(jù)運算部25中(S2)。
接著，通過使掩模4進行校準(zhǔn)移動的校準(zhǔn)機構(gòu)的掩模推動機構(gòu)5(5A、5B、5C)，根據(jù)掩模標(biāo)記M及校準(zhǔn)標(biāo)記W，進行與放置于基座2上的基板3的校準(zhǔn)作業(yè)(S3)。
接著，在與通過校準(zhǔn)作業(yè)被校準(zhǔn)移動后的掩模標(biāo)記M的數(shù)據(jù)一致的狀態(tài)下，對存儲于運算部25的掩模的分配點MB的數(shù)據(jù)與基板的分配點WB的數(shù)據(jù)，在數(shù)據(jù)比較部26進行比較(比較步驟)(S4)。
用判斷部27判斷比較的結(jié)果是否在規(guī)定的容許范圍內(nèi)(判斷步驟，S5)，若掩模標(biāo)記M的分配點MB與校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB在規(guī)定的容許范圍內(nèi)(“是”)，則由于可對基板3整體照射曝光光線，因此，根據(jù)來自判斷部27的信號，通過曝光信號產(chǎn)生部28產(chǎn)生曝光信號，將曝光光線照射到基板3整體上(S6)。
另一方面，若步驟S5的判斷為在容許范圍外(“否”)，則由數(shù)據(jù)比較部26對存儲于運算部25中的掩模標(biāo)記M的分配點MA數(shù)據(jù)與校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WA數(shù)據(jù)進行比較(第二比較步驟、S7)。
由判斷部27對比較的結(jié)果進行判斷(第二判斷步驟、S8)，若在規(guī)定的容許范圍內(nèi)(“是”)，則由于可以對基板3的一半?yún)^(qū)域WA進行曝光，因此，根據(jù)來自判斷部27的信號，通過曝光信號產(chǎn)生部28產(chǎn)生曝光信號的同時，使光閘機構(gòu)30的遮蔽板2動作，覆蓋不曝光的另一半?yún)^(qū)域，僅對圖3(b)所示的區(qū)域A進行曝光(S9)。若步驟S8中判斷在規(guī)定的容許范圍外(“否”)，則將未曝光的基板3卸下(S10)。此外，在進行曝光時，使攝影裝置退避以避免干涉。
如以上所述，首先將基板3分成二個區(qū)域，運算位于一個區(qū)域A的對角方向的校準(zhǔn)標(biāo)記W2、W4以及校準(zhǔn)標(biāo)記W3、W5之間的分配點WA，接著以基板3整體為對象，同樣地運算分配點WB，在與掩模4的分配點MA、MB進行比較后再曝光，因而，可以進行精度良好的曝光。
此外，本發(fā)明由于能以少量的步驟對基板3整體進行曝光，因此能夠提高生產(chǎn)效率，同時，即使僅在應(yīng)曝光的基板3的一半?yún)^(qū)域A中分配點WA與掩模一致，也可以進行曝光，因此，可以有效地利用基板材料。
本發(fā)明由于首先將基板3分成二個區(qū)域，運算位于一邊區(qū)域A的對角方向的校準(zhǔn)標(biāo)記之間的分配點WA，接著以基板整體為對象，同樣地運算分配點WB，在與掩模的分配點MA、MB進行比較之后進行曝光，因此，可以進行精度良好的曝光。
本發(fā)明由于能夠以少量的步驟對基板整體進行曝光，因此，能夠提高生產(chǎn)效率，同時，即使僅在應(yīng)曝光的基板的一半?yún)^(qū)域中分配點與掩模一致，也可以進行曝光，因此，可以有效地利用基板材料。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，對基板與掩模進行校準(zhǔn)，在將上述掩模密合于上述基板的狀態(tài)下進行曝光，其中基板具有多個定位用的校準(zhǔn)標(biāo)記，掩模具有用來與上述校準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)位置的多個掩模標(biāo)記并設(shè)有規(guī)定圖案，該曝光裝置具有以上述多個掩模標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述掩模整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點MB的單元；以上述多個校準(zhǔn)標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述基板整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點WB的單元；對上述掩模標(biāo)記的分配點MB與上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB進行比較的第一比較單元；根據(jù)上述第一比較單元的比較結(jié)果，判斷上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MB是否在容許范圍內(nèi)的第一判斷單元；在上述第一判斷單元判斷出在容許范圍內(nèi)時，將曝光光線照射于上述基板整體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括以上述多個掩模標(biāo)記為基礎(chǔ)，將上述掩模分割為規(guī)定數(shù)量的區(qū)域，求出其中一個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點MA的單元；以上述多個校準(zhǔn)標(biāo)記為基礎(chǔ)，將上述基板分割為規(guī)定數(shù)量的區(qū)域，求出其中一個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點WA的單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括以上述多個掩模標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述掩模的一半?yún)^(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點MA的單元；以上述多個校準(zhǔn)標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出上述基板的一半?yún)^(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點WA的單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置，其特征在于，還包括當(dāng)上述第一判斷單元判斷為上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MB在容許范圍外時，對上述掩模標(biāo)記的分配點MA與上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WA進行比較的第二比較單元；根據(jù)上述第二比較單元的比較結(jié)果，判斷上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WA相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MA是否在容許范圍內(nèi)的第二判斷單元；當(dāng)上述第二判斷單元判斷出在容許范圍內(nèi)時，將曝光光線照射于上述基板中的包括上述分配點WA的區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，還包括當(dāng)上述第二判斷單元判斷出上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WA相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MA在容許范圍外時，卸下上述基板。
全文摘要
一種曝光裝置，對基板與掩模進行校準(zhǔn)，在將上述掩模密合于上述基板的狀態(tài)下進行曝光，其中基板具有多個定位用的校準(zhǔn)標(biāo)記，掩模具有用來與上述校準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)位置的多個掩模標(biāo)記并設(shè)有規(guī)定圖案，曝光裝置具有以多個掩模標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出掩模整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點MB的單元；以上述校準(zhǔn)標(biāo)記為基礎(chǔ)，求出基板的整個區(qū)域的對角線彼此交叉所得到的分配點WB的單元；對掩模標(biāo)記的分配點MB與校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB進行比較的第一比較單元；根據(jù)第一比較單元的比較結(jié)果，判斷上述校準(zhǔn)標(biāo)記的分配點WB相對于上述掩模標(biāo)記的分配點MB是否在容許范圍內(nèi)的第一判斷單元；在上述第一判斷單元判斷出在容許范圍內(nèi)時，將曝光光線照射于上述基板整體。
文檔編號H05K3/00GK1818794SQ20061000735
公開日2006年8月16日 申請日期2004年6月4日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月6日
發(fā)明者屋木康彥, 藪慎太郎, 氏益稔 申請人:株式會社Orc制作所