專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過光掩模對被曝光體照射曝光光，從而形成曝光圖案 的曝光裝置。更具體來說，涉及一種提高對長方形光掩模照射曝光光的利用 效率的曝光裝置。
背景技術(shù)：
如圖7所示，在現(xiàn)有曝光裝置中，曝光光學(xué)系統(tǒng)具有光源2，其由用于 紫外線照射的例如超高壓汞燈構(gòu)成；凹面鏡3，其對光源2的照射光進行聚光； 圓柱狀光學(xué)積分器(optical integrator) 4，其配置在凹面鏡3的焦點附近，用 于使光線L在曝光面上的亮度分布均勻；曲面反射鏡7，其配置在光學(xué)積分 器4和保持光掩模5的掩模臺架(mask stage) 6之間，而且將入射的曝光光 變成平行光束導(dǎo)向曝光面； 一組平面反射鏡8、 8，其轉(zhuǎn)換光路；而且，光源 2所照射的光線L在曲面反射鏡7成為相互平行的光束，即曝光光，該曝光 光垂直照射于保持在掩模臺架6上的光掩模5 (例如，參照專利文獻l)。此 外，在該圖中，附圖標記9表示將被曝光體裝載在上表面的工作臺，附圖標 記10表示例如由濾色基板構(gòu)成的被曝光體，附圖標記11表示控制曝光光的 光路的打開關(guān)閉的曝光控制用快門。專利文獻1: JP特開2004—347883號公報(圖7)發(fā)明內(nèi)容然而，在這種現(xiàn)有曝光裝置中，由于從曲面反射鏡7射出的光束12的截 面形狀如圖8所示為圓形，所以例如在光掩模5形成為長方形情況下，如該 圖標注斜線所示的部分的光線L對曝光不起作用被白白浪費，而且照射到長 方形光掩模5的曝光光的利用效率低。因此，存在如下問題，即照射被曝光 體的曝光光的能量密度小，曝光處理時間長，生產(chǎn)節(jié)拍(Tact)慢。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光裝置，該曝光裝置解決這種問題， 并用于提高照射長方形光掩模的曝光光的利用效率。用于解決問題的方法為了解決上述問題，本發(fā)明的曝光裝置具有臺架，其在上表面裝載被 曝光體，掩模臺架，其配設(shè)在所述臺架的上方，而且可與該臺架的上表面平 行地保持長方形光掩模；光源，其對保持在所述掩模臺架上的光掩模放射曝 光光；而且，將所述光源放射的曝光光通過所述光掩模照射到所述被曝光體 上，從而在規(guī)定位置形成規(guī)定的曝光圖案；其特征在于，在所述光源和掩模 臺架之間的光路上配設(shè)有光束截面形狀整形裝置，所述光束截面形狀整形裝 置把從所述光源放射的曝光光的光束的截面形狀，整形成與所述長方形光掩 模的形狀一致。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，從光源放射曝光光，用光束截面形狀整形裝置把從光源 放射的曝光光的光束的截面形狀整形成與長方形光掩模的形狀一致，對保持 在掩模臺架的光掩模照射該已整形的曝光光，進一步地，將所述曝光光通過 所述光掩模照射到裝載在臺架的上表面的所述被曝光體上，從而在規(guī)定位置 形成規(guī)定的曝光圖案。而且，所述光束截面形狀整形裝置為柱面透鏡，所述柱面透鏡對平行光 線的入射，僅在正交的兩個軸中的一個軸方向起折射作用，并在焦點位置形 成線狀的射束。這樣，用柱面透鏡整形光束的截面形狀，所述柱面透鏡對平 行光線的入射，僅在一個軸方向起折射作用，并在焦點位置形成線狀的射束。進一步地，所述光束截面形狀整形裝置為復(fù)眼透鏡，所述復(fù)眼透鏡對平 行光線的入射，僅在正交的兩個軸中的一個軸方向起折射作用，在焦點位置 形成線狀的多條射束。這樣，用復(fù)眼透鏡整形光束的截面形狀，所述復(fù)眼透 鏡對平行光線的入射，僅在一個軸方向起折射作用，并在焦點位置形成多條 射束。而且，在所述光源和光束截面形狀整形裝置之間的光路上配設(shè)有萬花筒， 所述萬花筒使對所述光掩模照射的曝光光的亮度分布均勻。這樣，用配設(shè)在 光源和光束截面形狀整形裝置之間光路上的萬花筒，使對光掩模照射的曝光 光的亮度分布均勻。而且，在所述光束截面形狀整形裝置和掩模臺架之間的光路上配設(shè)有聚 光透鏡，所述聚光透鏡把入射的曝光光作為平行光射出。這樣，用配設(shè)在光束截面形狀整形裝置和掩模臺架之間光路上的聚光透鏡，使入射的曝光光作 為平行光射出。進一步地，當將曝光光照射到裝載在所述臺架上面的被曝光體進行曝光 時，所述臺架以平行于所述長方形光掩模的面的方式，沿著與其長度方向正 交的方向，輸送所述被曝光體。由此，在臺架上，當將曝光光照射到裝載在 其上表面的被曝光體進行曝光時，以平行于長方形光掩模的面的方式，沿著 與其長度方向正交的方向，輸送被曝光體。而且，所述長方形光掩模將多個掩模圖案沿其長度方向排成一列配置。 由此，用長方形光掩模形成規(guī)定曝光圖案，所述光掩模是將多個掩模圖案沿 長度方向排成一列配置。發(fā)明效果根據(jù)第一技術(shù)方案的發(fā)明，能夠?qū)⑵毓夤鈪R聚到長方形光掩模上，因此 能夠提高向長方形光掩模照射曝光光的利用效率。從而，能夠增加照射被曝 光體的曝光光的能量密度。這樣，能夠減少被曝光體的曝光處理時間，加快 生產(chǎn)節(jié)拍。而且，根據(jù)第二技術(shù)方案的發(fā)明，將曝光光的光束的截面形狀向正交的 兩個軸中的一個軸方向匯聚，從而能夠易于整形成扁平形狀。進一步地，根據(jù)第三技術(shù)方案的發(fā)明，將曝光光的光束的截面形狀向正 交的兩個軸中的一個軸方向匯聚，從而能夠易于整形成扁平形狀。而且，能 夠?qū)崿F(xiàn)曝光光均勻照射光掩模。而且，根據(jù)第四技術(shù)方案的發(fā)明，曝光光能夠均勻照射光掩模。從而， 能夠均勻曝光被曝光體。而且，根據(jù)第五技術(shù)方案的發(fā)明，尤其能夠使沿光掩模長軸方向的光線 變成相互平行。從而，能夠提高沿長方形光掩模長度方向所形成的曝光圖案 的分辨率。進一步地，根據(jù)第六技術(shù)方案的發(fā)明，能夠輸送被曝光體的同時形成曝 光圖案。從而，能夠進一步縮短曝光處理時間。而且，根據(jù)第七技術(shù)方案的發(fā)明，能夠沿著長方形光掩模的長度方向形 成多個曝光圖案。


圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的第一實施方式的主視圖。圖2是表示圖1的重要部的側(cè)視圖。圖3是表示用于上述曝光裝置的濾色基板的俯視圖。圖4是表示在上述曝光裝置中，光束截面為橢圓形的曝光光對長方形光 掩模的照射狀態(tài)的說明圖。圖5是表示本發(fā)明的曝光裝置的第二實施方式的主視圖。圖6是表示用于上述第二實施方式的復(fù)眼透鏡的一個結(jié)構(gòu)例子的圖，(a) 為主視圖，(b)為右側(cè)視圖，(c)為俯視圖。圖7是表示現(xiàn)有曝光裝置的主視圖。圖8是表示在現(xiàn)有曝光裝置中，對于長方形光掩模的光束截面為圓形的 曝光光的照射狀態(tài)的說明圖。附圖標記說明 2光源 5光掩模6掩模臺架(mask stage) 10濾色基板(被曝光體) 12光束 13臺架13a臺架的上表面 14柱面透鏡15萬花筒(kaleidoscope)16聚光(condenser)透鏡(聚光用透鏡)19掩模圖案23曝光圖案24復(fù)眼透鏡(fly eye lens)(光束截面形狀成形方法)具體實施方式
下面，根據(jù)附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式。圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的第一實施方式的主視圖，圖2是表示圖1 的重要部的側(cè)視圖。該曝光裝置經(jīng)由光掩模對被曝光體照射曝光光從而形成曝光圖案，并且該曝光裝置由臺架13、掩模臺架6、光源2、柱面透鏡14、 萬花筒15以及聚光透鏡16構(gòu)成。此外，在此，對接近曝光裝置的情況進行 說明，該接近曝光裝置使曝光裝置接近于光掩模和被曝光體并進行曝光，而 且對被曝光體為濾色基板的情況進行說明。上述臺架13是在上表面13a上裝載涂敷有規(guī)定的彩色抗蝕劑的濾色基板 10的部件，當對裝載在上表面13a的上述濾色基板10照射曝光光進行曝光時， 由輸送裝置27進行驅(qū)動，并以與后述的長方形光掩模5的面平行的方式向與 其長度方向正交的方向(圖1所示的箭頭A方向)，以一定速度輸送上述濾 色基板10。此外，如圖3所示，將黑色矩陣18形成在上述濾色基板10上，其中該 黑色矩陣18在曝光區(qū)域28中對應(yīng)單位面積而設(shè)置有多個像素17。而且，在 上述多個像素17中，事先將圖3左端部的像素17a的左上端角部設(shè)定為基準 位置Sl，該基準位置Sl用于與后述的光掩模5的基準位置S2 (參照圖4) 進行對位。在上述臺架13的上方，以接近的方式配置掩模臺架6。該掩模臺架6是 能夠平行于上述臺架13的上表面13a地保持長方形光掩模5的構(gòu)件，而且其 能夠在平行于臺架13的上表面13a的面內(nèi)，沿著與箭頭A方向正交的方向移 動，還能夠以上述光掩模5的面的中心軸作為中心旋轉(zhuǎn)(e)(參照圖4)。在此，如圖4所示地，上述長方形光掩模5是沿著其長度方向?qū)⒍鄠€掩 模圖案19排成一列而配置的，其中該多個掩模圖案19為沿著箭頭A所示的 輸送方向長的矩形形狀，如圖2所示地，對例如Cr的不透明膜21進行蝕刻 而形成上述長方形光掩模5，其中該不透明膜21覆蓋在透明的玻璃基板20 上，并將形成該不透明膜21的面朝向下，而且上述長方形光掩模5由上述掩 模臺架6保持。而且，例如在上述多個掩模圖案19中，事先將圖4所示的左 端部的掩模圖案19a的左邊部設(shè)定為基準位置S2，該基準位置S2用于與上述 濾色基板10的基準位置Sl進行對位。設(shè)置有光源2，該光源2可對保持在上述掩模臺架6的光掩模5照射曝光光。該光源2為放射紫外線的部件，例如為超高壓汞燈、氤燈、發(fā)射紫外線 的激光器等。而且，在被凹面鏡3反射的曝光光的放射方向前方，配置凸透鏡22，從而能夠聚光曝光光。在上述光源2和掩模臺架6之間的光路上，配設(shè)有柱面透鏡14。該柱面 透鏡14對平行光線的入射，僅在正交的兩個軸當中的一個軸方向起折射作用， 并在焦點位置形成線狀射束，而且具有利用與其中心軸平行的面分割圓柱的 形狀，而且還根據(jù)長方形光掩模5的形狀整形光源2放射的曝光光的光束12 的橫截面(下面，僅記載為"截面")形狀，例如，如圖4所示，該柱面透 鏡14為從圓形(如該圖用虛線所示)整形成橢圓形(如該圖實線所示)的光 束截面形狀整形裝置。而且，如該圖所示，以整形了的截面為橢圓形的光束 12的長軸大致與上述長方形光掩模5的長度方向的中心軸吻合的方式，大致 與光掩模5的上述中心軸吻合地配置其圓柱的中心軸。在上述光源2和柱面透鏡14之間的光路上，配設(shè)有萬花筒15。該萬花筒 15使照射到光掩模5的曝光光的亮度分布均勻，并且以規(guī)定長度形成，而且 將與其中心軸平行的側(cè)面形成為多面且將它們分別作為反射面。而且，使該光源2側(cè)的端部15a大致與上述凸透鏡22的焦點一致，并使柱面透鏡14側(cè) 的端部15b大致與后述的聚光透鏡16的焦點一致。在上述柱面透鏡14和掩模臺架6之間的光路上配設(shè)有聚光透鏡16。該聚 光透鏡16為將入射到此的曝光光的光線L變成相互平行的平行光射出的聚光 透鏡。因而，從聚光透鏡16射出的曝光光垂直照射光掩模5。而且，上述曝 光光沿垂直方向通過上述光掩模5并垂直曝光濾色基板10上的彩色抗蝕劑。 從而，形成在濾色基板10上的曝光圖案23 (參照圖3)的分辨率提高，從而 清晰地形成曝光圖案23。接著，對這種結(jié)構(gòu)的曝光裝置的動作進行說明。首先，在將涂敷有彩色抗蝕劑的濾色基板10裝載在臺架13上的狀態(tài)下， 通過輸送裝置27，以一定速度移動臺架13，從而沿著圖1中箭頭A所示的方 向輸送上述濾色基板10。此時，根據(jù)省略圖示的拍攝相機所拍攝的濾色基板10的黑色矩陣18的 像素17的像，控制掩模臺架6，并且在平行于上述臺架13的上表面的面內(nèi)， 沿著與圖1所示的箭頭A方向正交的方向移動掩模臺架6，而且以上述光掩模5的面的中心軸為中心旋轉(zhuǎn)(e)，從而相對事先設(shè)定在濾色基板io的基準位置S1 (參照圖3)，定位保持在掩模臺架6上的光掩模5的基準位置S2 (參照圖4)。同時，點亮光源2，從光源2放射曝光光，利用該曝光光照射保持在掩模 臺架6的光掩模5。然后，將形成在光掩模5上的掩模圖案19復(fù)制到濾色基 板10上，該濾色基板10是由輸送裝置27沿著圖1所示的箭頭A方向輸送的。 因而，如圖3所示，在濾色基板10上的黑色矩陣18的規(guī)定像素17上，形成 條紋狀曝光圖案23。在這種情況下，從光源2放射的曝光光被凹面鏡3反射到前方，并在設(shè) 置于光源2前方的凸透鏡22，聚光到其焦點。已聚光的曝光光入射到萬花筒 15在光源2側(cè)的端部15a。然后，在與該萬花筒15的長度方向的中心軸平行 的側(cè)面15c，進行多重反射而被混合，并從柱面透鏡14側(cè)的端部15b射出。從萬花筒15射出的曝光光入射到聚光透鏡14。此時，在從萬花筒15射 出的曝光光中，如圖1所示，在柱面透鏡14的面14a內(nèi)，沿著與其圓柱的中 心軸正交的方向(該圖中左右方向)放射的光線L，以匯聚的方式向內(nèi)側(cè)折 射而射出上述柱面透鏡14。另一方面，在從萬花筒15射出的曝光光中，如圖2所示，在柱面透鏡14 的面14a內(nèi)，沿著其圓柱的中心軸方向(該圖中左右方向)放射的光線L，不 改變放射角度從柱面透鏡14射出。從而，如圖4的虛線所示地，從萬花筒15 射出的截面為多邊形(圖中，用圓形表示)的光束12的曝光光如圖中實線所 示地，被柱面透鏡14整形為如下形狀的光束12， S卩，將與其圓柱的中心軸平 行的軸設(shè)定為長軸，并將與該中心軸正交的軸設(shè)定為短軸的扁平形狀(圖中 用橢圓表示)。這樣，光束12的截面形狀例如從圓形整形為橢圓形的曝光光入射到聚光 透鏡16。在這種情況下，沿著截面為橢圓形的長軸方向的光線L，即沿著柱 面透鏡14的圓柱中心軸方向放射的光線L，如圖2所示，通過聚光透鏡16 成為與其光軸平行的平行光射出。另一方面，沿著截面為橢圓形的短軸方向 的光線L，如圖1所示，由聚光透鏡16進一步匯聚，從而以集中到光軸側(cè)的 方式射出。在此，將上述柱面透鏡14以使圓柱中心軸大致與保持在掩模臺架6的長方形光掩模5的長度方向的中心軸一致的方式配置，因此從萬花筒16射出的截面為橢圓形的曝光光，如圖4所示地以其長軸與長方形光掩模5的長度方 向的中心軸一致的狀態(tài)，照射光掩模5。在此情況下，光源2放射的曝光光匯 聚到光掩模5上，因此照射光掩模5的曝光光的能量密度提高。然后，沿著 截面為橢圓形的曝光光的長度方向的光線L，垂直通過上述光掩模5，并垂直 曝光濾色基板10上的彩色抗蝕劑。從而，在形成在濾色基板10上的曝光圖 案23中，沿著長方形光掩模5的長度方向的分辨率提高，且與圖3所示箭頭 A正交的方向的曝光圖案23的邊緣部23a、 23b變得清晰。另一方面，沿著截面為橢圓形的曝光光的短軸方向的光線L,傾斜地通 過上述光掩模5在光掩模5的下側(cè)繞進，并以傾斜方向曝光濾色基板10上的 彩色抗蝕劑。從而，在形成在濾色基板10上的曝光圖案23中，與長方形光 掩模5的長度方向正交的方向的分辨率降低，且圖3所示箭頭A方向的曝光 圖案23的邊緣部23c、 23d變得模糊。但是，在此情況下，上述曝光圖案23 如圖3所示地具有向箭頭A方向延伸的條紋狀，曝光圖案23的箭頭A方向 的邊緣部23c、 23d的模糊一點也不會給相鄰不同顏色的濾色片帶來影響。從 而，可以容許上述曝光圖案23的箭頭A方向的邊緣部23c、 23d的模糊。此外，在如上說明中，對從萬花筒15放射的曝光光的光束截面形狀為圓 形的情況進行了敘述，但不僅限于此，也可以將萬花筒15的截面形狀形成為 方形，使得放射的曝光光的光束截面形狀成為大致方形。而且，也可以替換 萬花筒15而使用光纖。圖5是表示本發(fā)明的曝光裝置的第二實施方式的主視圖。該曝光裝置在 光源2和掩模臺架6之間的光路上，配設(shè)有作為光束截面形狀整形裝置的復(fù) 眼透鏡24，該復(fù)眼透鏡24對平行光線的入射，僅在正交的兩個軸中的一個軸 方向起到折射作用，并在焦點位置形成線狀的多條射束，并且該復(fù)眼透鏡24 與聚光透鏡16互相作用，其中該聚光透鏡16配設(shè)在該復(fù)眼透鏡24和掩模臺 架6之間的光路上，將曝光光匯聚到長方形光掩模5上的同時使亮度分布均 勻。從而，在第二實施方式中，能夠省略第一實施方式所具有的復(fù)眼透鏡15。上述復(fù)眼透鏡24的具體的結(jié)構(gòu)例如下述一樣，g卩，如圖6(a)所示，在 聚光透鏡16側(cè)的端面24b形成了第一柱面透鏡陣列25，所述第一柱面透鏡陣 列25將微小的凸面狀的柱面透鏡25a，如圖6 (c)中用虛線所示地，以使其圓柱的中心軸設(shè)定成與XY平面的Y軸平行，并沿著X軸方向例如排列四個 而配置，如圖6(b)所示，在光源2側(cè)的端面24a形成第二柱面透鏡陣列26， 所述第二柱面透鏡陣列26將微小的凹面狀的柱面透鏡26a，如圖6 (c)中用 實線所示地，以使其圓柱的中心軸設(shè)定成與X軸平行的方式，沿著Y軸方向 例如排列四個而配置。接著，對沿著X軸及Y軸方向的光線的傳播方向進行說明。在入射到復(fù) 眼透鏡24的光源2側(cè)的端面24a的、曝光光的光線L中，向圖6(c)所示X 軸方向放射并入射到第二柱面透鏡陣列26的光線L，在上述第二柱面透鏡陣 列26不發(fā)生折射(實際上，以稍向外側(cè)擴散的方式進行折射)，并入射到形 成在聚光透鏡16側(cè)的端面24b的第一柱面透鏡陣列25。而且，此光線L，以 通過上述第一柱面透鏡陣列25匯聚的方式向內(nèi)側(cè)折射，并從聚光透鏡16側(cè) 的端面24b經(jīng)過復(fù)眼透鏡24而射出。另一方面，在入射到復(fù)眼透鏡24的光源2側(cè)的端面24a的、曝光光的光 線L中，從圖6 (c)所示的Y軸方向放射并入射到第二柱面透鏡陣列26的 光線L，以在上述第二柱面透鏡陣列26擴散更大的方式折射，再向外側(cè)擴散， 并入射到形成在聚光透鏡16側(cè)的端面24b的第一柱面透鏡陣列25。而且，該 光線L在上述第一柱面透鏡陣列25不發(fā)生折射(實際上，以稍向內(nèi)側(cè)擴散的 方式折射)，從聚光透鏡16側(cè)的端面24b射出復(fù)眼透鏡24。從而，從上述復(fù) 眼透鏡24射出的曝光光的光束的截面形狀設(shè)定成扁平形狀，gp，將圖(c) 所示的Y軸方向作為長軸，并將X軸方向作為短軸的扁平形狀。而且，從上 述第一柱面透鏡陣列25的每個微小的柱面透鏡25a射出的曝光光，在光掩模 5上相互重疊而照射到光掩模5，從而使光掩模5上的曝光光的亮度分布均勻。此外，在上述實施方式中，對接近曝光裝置的情況進行了說明，其中該 接近曝光裝置是曝光裝置使光掩模5和被曝光體接近并進行曝光的裝置，但 本發(fā)明不局限于此，也能夠應(yīng)用到使用長方形光掩模5的任何的曝光裝置。 而且，在上述說明中，對被曝光體為濾色基板10的情況進行了敘述，但是只 要形成了條紋狀的曝光圖案23，則任意一個基板都可以。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，具有臺架，其在上表面裝載被曝光體，掩模臺架，其配設(shè)在所述臺架的上方，而且可與該臺架的上表面平行地保持長方形光掩模，光源，其對保持在所述掩模臺架上的光掩模放射曝光光；而且，將所述光源放射的曝光光通過所述光掩模照射到所述被曝光體上，從而在規(guī)定位置形成規(guī)定的曝光圖案；其特征在于，在所述光源和掩模臺架之間的光路上配設(shè)有光束截面形狀整形裝置，所述光束截面形狀整形裝置把從所述光源放射的曝光光的光束的截面形狀，整形成與所述長方形光掩模的形狀一致。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述光束截面形狀 整形裝置為柱面透鏡，所述柱面透鏡對平行光線的入射，僅在正交的兩個軸 中的一個軸方向起折射作用，在焦點位置形成線狀射束。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述光束截面形狀 整形裝置為復(fù)眼透鏡，所述復(fù)眼透鏡對平行光線的入射，僅在正交的兩個軸 中的一個軸方向起折射作用，在焦點位置形成線狀的多條射束。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，在所述光源和光束 截面形狀整形裝置之間的光路上配設(shè)有萬花筒，所述萬花筒使對所述光掩模 照射的曝光光的亮度分布均勻。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，在所述光束截面形 狀整形裝置和掩模臺架之間的光路上配設(shè)有聚光透鏡，所述聚光透鏡把入射 的曝光光作為平行光射出。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，當將曝光光照射到 裝載在所述臺架上面的被曝光體進行曝光時，所述臺架以平行于所述長方形 光掩模的面的方式，沿著與其長度方向正交的方向，輸送所述被曝光體。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述長方形光掩模 將多個掩模圖案沿其長度方向排成一列配置。
全文摘要
本發(fā)明具有臺架13，其將濾色基板11裝載在上表面13a上；掩模臺架6，其配設(shè)在所述臺架13的上方，而且能夠平行于該臺架13的上表面地保持長方形光掩模5；光源2，其向保持在所述掩模臺架6的所述光掩模5照射曝光光；而且，將從所述光源2放射的曝光光通過所述光掩模5，照射到所述濾色基板11上，從而在規(guī)定位置形成規(guī)定曝光圖案的曝光裝置；并且，在所述光源2和掩模臺架6之間的光路上配設(shè)有柱面透鏡14，該柱面透鏡14根據(jù)長方形光掩模5的形狀，整形所述光源2放射的曝光光的光束的截面形狀。由此，提高照射到長方形光掩模的曝光光的利用效率。
文檔編號H01L21/027GK101258447SQ20068003291
公開日2008年9月3日 申請日期2006年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月9日
發(fā)明者梶山康一, 渡邊由雄 申請人:株式會社Ⅴ技術(shù)