專利名稱：有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備，且特別是有關(guān)于一種能夠提升制造產(chǎn)能的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
有機(jī)電激發(fā)光元件是一種由電能轉(zhuǎn)換成光能，且具有高轉(zhuǎn)換效率的半導(dǎo)體元件。有機(jī)電激發(fā)光元件具備有操作電壓小、量子效率、無視角問題、制程簡易、低成本、高回應(yīng)速度、全彩化的優(yōu)點，正符合多媒體時代顯示器特性的要求。因此，廣泛地應(yīng)用在指示燈、顯示面板以及光學(xué)讀寫頭的發(fā)光元件上。
有機(jī)電激發(fā)光元件是一種利用有機(jī)官能性材料(organic functionalmaterials)的自發(fā)光的特性來達(dá)到顯示效果的元件，可依照有機(jī)官能性材料的分子量不同分為小分子有機(jī)電激發(fā)光元件(small moleculeorganic electroluminescent device，SM-OEL Device)與高分子電激發(fā)光元件(polymer electroluminescent device，PEL Device)兩大類。
有機(jī)電激發(fā)光元件的基本結(jié)構(gòu)包含玻璃基板、金屬電極、氧化銦錫(ITO)電極以及有機(jī)電激發(fā)光層(Organic ElectroluminescentLayer)?；景l(fā)光原理為以金屬電極為陰極，而以氧化銦錫電極為陽極，當(dāng)一順向偏壓加諸于兩極之間時，電子與電洞分別由金屬電極與氧化銦錫電極介面注入發(fā)光層，兩種載子在發(fā)光層中相遇并經(jīng)由結(jié)合的方式產(chǎn)生光子(Photon)，以達(dá)到發(fā)光的目的。在此針對已知有機(jī)電激發(fā)光元件的陰極制作方法進(jìn)行說明。
圖1為已知制作有機(jī)電激發(fā)光元件陰極的成膜設(shè)備示意圖。請參照圖1，已知的成膜設(shè)備包括載入腔體210、多個真空腔體220、卸載腔體230、第一成膜裝置240a與第二成膜裝置240b。其中，多個真空腔體220包括連接腔體222、第一成膜腔體224與第二成膜腔體226。此外，上述的載入腔體210與卸載腔體230是分別與真空腔體220連接，且第一成膜腔體224與第二成膜腔體226分別是與連接腔體222連接，而連接腔體222除了與第一成膜腔體224以及第二成膜腔體226連接的外，其更與載入腔體210以及卸載腔體230連接。另外，第一成膜裝置240a是配置于第一成膜腔體224內(nèi)，且第二成膜裝置240b是配置于第二成膜腔體226內(nèi)。
以下將針對上述的已知成膜設(shè)備中有機(jī)電激發(fā)光元件的陰極制造流程進(jìn)行說明。首先，提供一基板100，且基板100具有一圖案化陽極層，以及配置于圖案化陽極層上之一有機(jī)電激發(fā)光層。此外，基板100的形成方法例如在具有圖案化陽極層的基板上，制作單色有機(jī)電激發(fā)光層。
基板100依傳送路徑250由載入腔體210、閘閥212、連接腔體222與閘閥224a，進(jìn)入第一成膜腔體224內(nèi)，之后第一成膜裝置224于基板100上形成一第一層導(dǎo)體層。在完成第一層導(dǎo)體層制作之后，基板100是依傳送路徑250經(jīng)由第一成膜腔體224、閘閥224a、連接腔體222與閘閥226a，進(jìn)入第二成膜腔體226。接著，第二成膜裝置240b于基板100上形成一第二層導(dǎo)體層。
在完成第二層導(dǎo)體層的制作后，令基板100依傳送路徑250經(jīng)由第二成膜腔體226、閘閥226a、連接腔體222與閘閥222a，進(jìn)入卸載腔體230，即完成已知有機(jī)電激發(fā)光元件的陰極制程。承上述，載入腔體210與卸載腔體230為非真空環(huán)境/真空環(huán)境，且連接腔體222、第一成膜腔體224與第二成膜腔體226為真空環(huán)境。
值得一提的是，在已知有機(jī)電激發(fā)光元件的陰極制程中，基板于制作第一導(dǎo)體層與第二導(dǎo)體層的前，都必須與遮罩進(jìn)行對位。以兩道導(dǎo)體層的制作為例，已知技術(shù)必須針對基板與遮罩進(jìn)行兩次的對位程序，如此一來，將增加陰極制作的時間。此外，為了容納對位裝置，成膜腔體必須具有較大的空間，但是較大的成膜腔體代表較大的真空環(huán)境，也意味著設(shè)備的價格會更加昂貴。當(dāng)對位裝置無法正常運作時，使用者必須針對成膜腔體中的對位裝置進(jìn)行檢修，因此成膜腔體的真空環(huán)境便無法繼續(xù)維持。另一方面，當(dāng)對位裝置檢測完畢后，吾人必須耗費額外的時間等待成膜腔體回復(fù)為所需的真空環(huán)境。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的就是在提供一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其是將遮罩與基板先于一非真空環(huán)境內(nèi)完成對位，之后遮罩與基板于一真空環(huán)境內(nèi)進(jìn)行成膜制程，可提高成膜裝置單位時間產(chǎn)能。
本發(fā)明的再一目的就是在提供一種成膜設(shè)備，且此成膜設(shè)備具有對位腔體。若配置于對位腔體內(nèi)的對位裝置失效或檢修時，成膜設(shè)備依舊可以進(jìn)行成膜制程。
為達(dá)上述或其他目的，本發(fā)明提供一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，適于在一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法包括提供一遮罩；令該基板與該遮罩于一非真空環(huán)境下進(jìn)行對位，并將該基板與該遮罩固定為一體；以及將固定為一體的該基板與該遮罩移至一真空環(huán)境下，并以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
其中該非真空環(huán)境包括一大氣環(huán)境。
其中該非真空環(huán)境包括一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
其中該圖案化薄膜層的形成方法包括蒸鍍與濺鍍其中之一。
其中該圖案化薄膜層的形成方法包括以該遮罩為罩幕，于該基板上形成一第一導(dǎo)體層；以及以該遮罩為罩幕，于該第一導(dǎo)體層上形成一第二導(dǎo)體層。
本發(fā)明一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，適于在一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法包括提供一成膜設(shè)備，該成膜設(shè)備包括至少一真空腔體以及至少一非真空腔體；提供一遮罩；令該基板與該遮罩于該非真空腔體中進(jìn)行對位，并將該基板與該遮罩固定為一體；以及將固定為一體的該基板與該遮罩傳送至該真空腔體中，并以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
其中該非真空腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境。
其中該非真空腔體內(nèi)為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
其中該圖案化薄膜層的形成方法包括蒸鍍與濺鍍其中之一。
其中該圖案化薄膜層的形成方法包括以該遮罩為罩幕，于該基板上形成一第一導(dǎo)體層；以及以該遮罩為罩幕，于該第一導(dǎo)體層上形成一第二導(dǎo)體層。
本發(fā)明一種成膜設(shè)備，適于以一遮罩為罩幕，于一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該成膜設(shè)備包括至少一真空腔體；至少一非真空腔體；一對位裝置，配置于該非真空腔體中，且該對位裝置適于使該基板與該遮罩進(jìn)行對位；以及一成膜裝置，配置于該真空腔體中，其中該成膜裝置是以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
其中還包括一傳送裝置，配置于該真空腔體以及該非真空腔體中，以將該基板傳送于該真空腔體與該非真空腔體之間。
其中該非真空腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境。
其中該非真空腔體內(nèi)為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
其中該對位裝置包括一支架，適于固定該遮罩；一第一定位模組，適于承載該支架，且該第一定位模組適于在X-Y平面上活動；一第二定位模組，配置于該第一定位模組上方，其中該第二定位模組適于固定該基板，且該第二定位模組適于沿著Z軸移動；以及一感測器，配置于該第一定位模組上方。
其中該第一定位模組包括一平臺；以及多數(shù)個定位構(gòu)件，配置于該平臺上。
其中該些定位構(gòu)件包括輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
其中該些定位構(gòu)件還包括一推擠裝置，該推擠裝置適于推擠該支架，以使該支架接觸輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
其中該些定位構(gòu)件包括
一第一推擠裝置；以及一第二推擠裝置，其中該第一推擠裝置與該第二推擠裝置適于夾持該支架，以使該支架定位于該平臺上。
其中該第二定位模組包括夾具以及吸嘴其中之一。
其中該感測器包括電荷耦合元件。
其中該對位裝置包括一支架，適于固定該遮罩；一第一定位模組，適于承載該支架，且該第一定位模組是為固定；一第二定位模組，配置于該第一定位模組上方，其中該第二定位模組適于固定該基板，且該第二定位模組適于在X-Y平面上活動與沿著Z軸移動；以及一感測器，配置于該第一定位模組上方。
其中該第一定位模組包括一平臺；以及多數(shù)個定位構(gòu)件，配置于該平臺上。
其中該些定位構(gòu)件包括輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
其中該些定位構(gòu)件更包括一推擠裝置，該推擠裝置適于推擠該支架，以使該支架接觸輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
其中該些定位構(gòu)件包括一第一推擠裝置以及一第二推擠裝置，其中該第一推擠裝置與該第二推擠裝置適于夾持該支架，以使該支架定位于該平臺上。
其中該第二定位模組包括夾具以及吸嘴其中之一。
其中該感測器包括電荷耦合元件。
本發(fā)明一種成膜設(shè)備，適于以一遮罩為罩幕，于一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該成膜設(shè)備包括一對位腔體；一載入腔體，與該對位腔體連接；多數(shù)個真空腔體，與該載入腔體連接，該些真空腔體包括一第一成膜腔體，與該連接腔體連接；一第二成膜腔體，與該連接腔體連接；一連接腔體，連接于該載入腔體、該第一成膜腔體以及該第二成膜腔體之間；一對位裝置，配置于該對位腔體中，且該對位裝置適于使該基板與該遮罩進(jìn)行對位；以及一成膜裝置，配置于該第一成膜腔體與該第二成膜腔體中，其中該成膜裝置是以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
其中還包括一傳送裝置，配置于該對位腔體、該載入腔體、該連接腔體、該第一成膜腔體與該第二成膜腔體中，以將該基板傳送于該對位腔體、該載入腔體、該連接腔體、該第一成膜腔體與該第二成膜腔體之間。
其中該載入腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境、一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境以及真空環(huán)境其中之一。
其中該對位腔體為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境以及一大氣環(huán)境其中之一。
基于上述，本發(fā)明將遮罩與基板先于一非真空環(huán)境內(nèi)完成對位，可提高提高單位時間產(chǎn)能。


為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉一較佳實施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下，其中圖1為已知制作有機(jī)電激發(fā)光元件陰極的成膜設(shè)備的示意圖。
圖2為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的示意圖。
圖3為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的對位裝置的支架的示意圖。
圖4為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的對位裝置的示意圖。
圖5為依照本發(fā)明另一較佳實施例的成膜設(shè)備其對位裝置的示意圖。
具體實施例方式
圖2為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的示意圖。請參照圖2，成膜設(shè)備例如具有對位腔體310、載入腔體320、多數(shù)個真空腔體330、卸載腔體340、分離腔體350、傳送裝置(未繪示)、對位裝置360、第一成膜裝置370a與第二成膜裝置370b。其中，載入腔體320是與對位腔體310連接，而真空腔體330是與載入腔體320以及卸載腔體340連接，且分離腔體350是與卸載腔體340連接。上述的成膜設(shè)備所形成的薄膜層，其例如為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)，且每一層結(jié)構(gòu)的厚度例如為5至5000?；蚱渌穸确秶?br> 如圖2所繪示，真空腔體330例如包括一連接腔體332、一第一成膜腔體334與一第二成膜腔體336。其中，第一成膜腔體334以及第二成膜腔體336分別是與連接腔體332連接，而連接腔體322除了與第一成膜腔體334以及第二成膜腔體336連接的外，其更與載入腔體320以及卸載腔體340連接。
承上所述，傳送裝置(未繪示)是配置于對位腔體210、載入腔體220、連接腔體230、第一成膜腔體240、第二成膜腔體250、分離腔體270與卸載腔體260中，以將基板200傳送于各腔體之間。
請再參照圖2，第一成膜裝置370a是配置于第一成膜腔體334中，且第二成膜裝置370a是配置于第二成膜腔體334中，以及對位裝置360是配置于對位腔體310中。值得注意的是，本實施例的載入腔體320與卸載腔體340內(nèi)可為大氣環(huán)境/真空環(huán)境或水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境/真空環(huán)境，而對位腔體310與分離腔體350內(nèi)可為水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境或大氣環(huán)境，而載入腔體320、卸載腔體340、對位腔體310與分離腔體350中的環(huán)境狀態(tài)端視制程而有所變化，將詳述于后。
以下將針對上述的成膜設(shè)備中有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制造流程進(jìn)行說明。首先，提供基板100與遮罩500，而基板100上已形成有一圖案化陽極層，以及配置于圖案化陽極層上之一有機(jī)電激發(fā)光層。有關(guān)于基板100上的有機(jī)電激發(fā)光層的形成方法例如可采用已知技術(shù)或是其他成膜方式，故于此不再贅述。
將基板100與遮罩500傳送至對位腔體310中，并令基板200與遮罩500于對位腔體310中藉由對位裝置360進(jìn)行對位程序，并將基板100與遮罩500結(jié)合成一體。值得注意的是，在基板100剛傳送至對位腔體310，然而，為了避免空氣中的水氣或氧破壞基板100上的有機(jī)電激發(fā)光層，通常會注入氮氣以使對位腔體310成為水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。承上述，基板100與遮罩500的結(jié)合方法例如是使用夾持構(gòu)件或是其他固定構(gòu)件進(jìn)行結(jié)合。
然后，由傳送裝置(未繪示)將結(jié)合后的基板100與遮罩500從對位腔體310依循傳送路徑380經(jīng)由閘閥312進(jìn)入載入腔體320中。值得注意的是，在基板100與遮罩500剛傳送至載入腔體320中時，載入腔體320例如為大氣環(huán)境或是水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境，然而，為了能夠順利進(jìn)行后續(xù)制程，通常會將載入腔體320內(nèi)的環(huán)境轉(zhuǎn)變?yōu)檎婵窄h(huán)境。
之后，將閘閥322與閘閥334a開啟，并將基板100與遮罩500沿著傳送路徑380由載入腔體320經(jīng)由連接腔體332傳送至第一成膜腔體334中。在第一成膜腔體334中，可由配置于第一成膜腔體334內(nèi)的第一成膜裝置370a進(jìn)行第一層導(dǎo)體層的制作，而所形成的第一層導(dǎo)體層例如為鈣。
隨后，將閘閥334a與閘閥336a開啟，并將基板100與遮罩500沿著傳送路徑380由第一成膜腔體334經(jīng)由連接腔體332傳送至第二成膜腔體336中。在第二成膜腔體336中，可由配置于第二成膜腔體250內(nèi)的第二成膜裝置370b進(jìn)行第二層導(dǎo)體層的制作，而所形成的第二層導(dǎo)體層例如鋁。
接著，將閘閥336a與閘閥332a開啟，并將基板100與遮罩500沿著傳送路徑380由第二成膜腔體336經(jīng)由連接腔體332傳送至卸載腔體340中。
最后，將閘閥340開啟，并將基板100與遮罩500沿著傳送路徑380由卸載腔體340傳送至分離腔體350中，并將基板100與遮罩500在此分離腔體350內(nèi)完成分離程序，分離腔體350內(nèi)例如是由其內(nèi)部的一分離裝置(未繪示)來進(jìn)行基板100與遮罩500的分離程序。
值得一提的是，上述的對位裝置并不限定配置于對位腔體中，更可配置于成膜設(shè)備中的其他非真空腔體。此外，對位裝置甚至可配置于成膜設(shè)備以外的非真空環(huán)境中，以進(jìn)行對位程序。
圖3為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的對位裝置的支架的示意圖。請參考圖3，支架400例如包括一第一構(gòu)件402與一第二構(gòu)件404。其中，遮罩500是配置于第一構(gòu)件402與第二構(gòu)件404之間，而遮罩500具有對位記號與圖案。此外，第一構(gòu)件402與第二構(gòu)件404分別具有開口402a與開口404a，且開口402a與開口404a是可分別暴露出遮罩500的二表面。
圖4為依照本發(fā)明一較佳實施例的成膜設(shè)備的對位裝置的示意圖。請參考圖4，對位裝置例如包括支架400、第一定位模組610、第二定位模組620與感測器630。第一定位模組610包括平臺612與多數(shù)個定位構(gòu)件，其中定位構(gòu)件例如包括輪狀定位銷616與推擠裝置614。另外，支架400是適于固定遮罩500，而平臺612是適于承載支架400，且平臺612適于沿著X軸與Y軸移動，以及沿Z軸轉(zhuǎn)動。
同樣請參照圖4，第二定位模組620是配置于平臺612上方，其中第二定位模組620是適于固定基板100，且第二定位模組620是適于沿著Z軸移動，而且第二定位模組620例如為夾具或吸嘴。此外，感測器630例如是配置于平臺612上方，其中感測器630例如包括電荷耦合元件或其他型態(tài)的感測元件。本實施例中，感測器630能夠檢測遮罩500的對位記號與基板100的對位記號的影像是否重疊，以判斷二者之間的對位狀態(tài)。另外，推擠裝置614適于推擠支架400，使支架400接觸輪狀定位銷616，其中推擠裝置614例如是機(jī)器手臂。
以下將針對基板100與遮罩500的對位流程進(jìn)行說明。首先，將夾架400置于平臺612上，然后推擠裝置614推擠支架400，使支架400接觸輪狀定位銷616，并完成粗定位。接著，令第二定位模組620沿Z軸下降靠近夾架400。之后，啟動感測器630并控制平臺612沿著X、Y方向移動或是沿著Z軸轉(zhuǎn)動，以使得遮罩500與基板100之間能夠精確定位。
值得一提的是，本實施例的平臺612與第二定位模組620亦可具有其他運動模式，例如平臺612是為固定，且第二定位模組620是適于沿著X、Y與Z軸移動，以及沿著Z軸轉(zhuǎn)動。另外，本實施例亦可將輪狀定位銷616以滾珠裝置(未繪示)取代，換言之，本實施例可改變定位構(gòu)件與支架400之間的接觸型態(tài)，使其由線接觸變化為點接觸的型態(tài)，進(jìn)而減少定位構(gòu)件與支架400之間的磨耗問題。
圖5為依照本發(fā)明另一較佳實施例的成膜設(shè)備其對位裝置的示意圖。請參照圖5，本實施例與前述實施例相似，對位裝置例如包括第一定位模組710、第二定位模組720與感測器630。其中，第一定位模組710例如包括平臺712、第一推擠裝置714與第二推擠裝置716，而第一推擠裝置714與第二推擠裝置716適于夾持支架400，使支架400定位于平臺712上的任意位置上。此外，平臺712是適于承載支架400，且平臺712例如為固定，并且第二定位模組720是適于固定基板100，其中第二定位模組720是適于沿著X、Y與Z軸移動，以及沿著Z軸轉(zhuǎn)動。
值得注意的是，第二推擠裝置716適于定位于平臺712上的任意位置，且第一推擠裝置714適于推擠支架400，使支架400接觸第一推擠裝置716。此外，當(dāng)?shù)诙茢D裝置716移動至預(yù)定定位點時，第一推擠裝置714的推擠并不會造成第二推擠裝置716移動，如此方可達(dá)成定位的目的。
以下將針對基板100與遮罩500的對位流程進(jìn)行說明。首先，將第二推擠裝置716移動至預(yù)定的定位點，然后將夾架400置于平臺712上。接著，第一推擠裝置714推擠支架400，使支架400接觸第二推擠裝置716，并完成粗定位。隨后，令第二定位模組720沿Z軸下降靠近夾架400。之后，啟動感測器630并控制二定位模組720沿著X、Y方向移動或是沿著Z軸轉(zhuǎn)動，以使得遮罩500與基板100之間能夠精確定位。
此外，平臺712與第二定位模組720亦可采用不同的運動模式，例如平臺712適于沿著X軸與Y軸移動，以及沿Z軸轉(zhuǎn)動，且第二定位模組720是適于沿著Z軸移動。
值得一提的是，本發(fā)明的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備并不限定于制作有機(jī)電激發(fā)光元件的陰極層，而本發(fā)明亦可應(yīng)用于制作有機(jī)電激發(fā)光元件的有機(jī)電激發(fā)光層或其他材料層，在此不再贅述。
綜上所述，本發(fā)明的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備下列優(yōu)點一、在本發(fā)明的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法中，將遮罩與基板先于非真空環(huán)境內(nèi)完成對位，之后遮罩與基板再于真空腔體內(nèi)進(jìn)行成膜制程，可提高成膜設(shè)備的單位時間產(chǎn)能。
二、本發(fā)明的成膜設(shè)備具有對位腔體，且對位裝置是配置于對位腔體內(nèi)。當(dāng)對位裝置失效或檢修時，成膜設(shè)備依舊可以將剩于成膜腔體的產(chǎn)品完成成膜制程。且對位裝置功能回復(fù)后，將環(huán)境回復(fù)至大氣或水氧濃度為0.1至100ppm的狀態(tài)所花費的時間將遠(yuǎn)較回復(fù)環(huán)境為真空為短。
三、本發(fā)明的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法及其成膜設(shè)備能夠應(yīng)用于制作有機(jī)電激發(fā)光元件的有機(jī)電激發(fā)光層、陰極層或其他其他材料層。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的申請專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，適于在一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法包括提供一遮罩；令該基板與該遮罩于一非真空環(huán)境下進(jìn)行對位，并將該基板與該遮罩固定為一體；以及將固定為一體的該基板與該遮罩移至一真空環(huán)境下，并以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該非真空環(huán)境包括一大氣環(huán)境。
3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該非真空環(huán)境包括一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
4.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該圖案化薄膜層的形成方法包括蒸鍍與濺鍍其中之一。
5.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該圖案化薄膜層的形成方法包括以該遮罩為罩幕，于該基板上形成一第一導(dǎo)體層；以及以該遮罩為罩幕，于該第一導(dǎo)體層上形成一第二導(dǎo)體層。
6.一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，適于在一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法包括提供一成膜設(shè)備，該成膜設(shè)備包括至少一真空腔體以及至少一非真空腔體；提供一遮罩；令該基板與該遮罩于該非真空腔體中進(jìn)行對位，并將該基板與該遮罩固定為一體；以及將固定為一體的該基板與該遮罩傳送至該真空腔體中，并以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
7.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該非真空腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境。
8.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該非真空腔體內(nèi)為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
9.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該圖案化薄膜層的形成方法包括蒸鍍與濺鍍其中之一。
10.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其特征在于，其中該圖案化薄膜層的形成方法包括以該遮罩為罩幕，于該基板上形成一第一導(dǎo)體層；以及以該遮罩為罩幕，于該第一導(dǎo)體層上形成一第二導(dǎo)體層。
11.一種成膜設(shè)備，適于以一遮罩為罩幕，于一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該成膜設(shè)備包括至少一真空腔體；至少一非真空腔體；一對位裝置，配置于該非真空腔體中，且該對位裝置適于使該基板與該遮罩進(jìn)行對位；以及一成膜裝置，配置于該真空腔體中，其中該成膜裝置是以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
12.如權(quán)利要求11所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中還包括一傳送裝置，配置于該真空腔體以及該非真空腔體中，以將該基板傳送于該真空腔體與該非真空腔體之間。
13.如權(quán)利要求11所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該非真空腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境。
14.如權(quán)利要求11所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該非真空腔體內(nèi)為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境。
15.如權(quán)利要求11所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該對位裝置包括一支架，適于固定該遮罩；一第一定位模組，適于承載該支架，且該第一定位模組適于在X-Y平面上活動；一第二定位模組，配置于該第一定位模組上方，其中該第二定位模組適于固定該基板，且該第二定位模組適于沿著Z軸移動；以及一感測器，配置于該第一定位模組上方。
16.如權(quán)利要求15所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該第一定位模組包括一平臺；以及多數(shù)個定位構(gòu)件，配置于該平臺上。
17.如權(quán)利要求16所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件包括輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
18.如權(quán)利要求17所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件還包括一推擠裝置，該推擠裝置適于推擠該支架，以使該支架接觸輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
19.如權(quán)利要求16所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件包括一第一推擠裝置；以及一第二推擠裝置，其中該第一推擠裝置與該第二推擠裝置適于夾持該支架，以使該支架定位于該平臺上。
20.如權(quán)利要求15所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該第二定位模組包括夾具以及吸嘴其中之一。
21.如權(quán)利要求15所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該感測器包括電荷耦合元件。
22.如權(quán)利要求11所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該對位裝置包括一支架，適于固定該遮罩；一第一定位模組，適于承載該支架，且該第一定位模組是為固定；一第二定位模組，配置于該第一定位模組上方，其中該第二定位模組適于固定該基板，且該第二定位模組適于在X-Y平面上活動與沿著Z軸移動；以及一感測器，配置于該第一定位模組上方。
23.如權(quán)利要求22所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該第一定位模組包括一平臺；以及多數(shù)個定位構(gòu)件，配置于該平臺上。
24.如權(quán)利要求23所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件包括輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
25.如權(quán)利要求24所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件更包括一推擠裝置，該推擠裝置適于推擠該支架，以使該支架接觸輪狀定位銷以及滾珠裝置其中之一。
26.如權(quán)利要求23所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該些定位構(gòu)件包括一第一推擠裝置以及一第二推擠裝置，其中該第一推擠裝置與該第二推擠裝置適于夾持該支架，以使該支架定位于該平臺上。
27.如權(quán)利要求22所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該第二定位模組包括夾具以及吸嘴其中之一。
28.如權(quán)利要求22所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該感測器包括電荷耦合元件。
29.一種成膜設(shè)備，適于以一遮罩為罩幕，于一基板上制作一圖案化薄膜層，其特征在于，該成膜設(shè)備包括一對位腔體；一載入腔體，與該對位腔體連接；多數(shù)個真空腔體，與該載入腔體連接，該些真空腔體包括一第一成膜腔體，與該連接腔體連接；一第二成膜腔體，與該連接腔體連接；一連接腔體，連接于該載入腔體、該第一成膜腔體以及該第二成膜腔體之間；一對位裝置，配置于該對位腔體中，且該對位裝置適于使該基板與該遮罩進(jìn)行對位；以及一成膜裝置，配置于該第一成膜腔體與該第二成膜腔體中，其中該成膜裝置是以該遮罩為罩幕，于該基板上形成該圖案化薄膜層。
30.如權(quán)利要求29所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中還包括一傳送裝置，配置于該對位腔體、該載入腔體、該連接腔體、該第一成膜腔體與該第二成膜腔體中，以將該基板傳送于該對位腔體、該載入腔體、該連接腔體、該第一成膜腔體與該第二成膜腔體之間。
31.如權(quán)利要求29所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該載入腔體內(nèi)為一大氣環(huán)境、一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境以及真空環(huán)境其中之一。
32.如權(quán)利要求29所述的成膜設(shè)備，其特征在于，其中該對位腔體為一水氧濃度為0.1至100ppm的環(huán)境以及一大氣環(huán)境其中之一。
全文摘要
一種有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法，其適于在基板上制作圖案化薄膜層。有機(jī)電激發(fā)光元件的薄膜制作方法是先提供一遮罩，然后令基板與遮罩于非真空環(huán)境下進(jìn)行對位，并將基板與遮罩固定為一體，之后，將固定為一體的基板與遮罩移至一真空環(huán)境下，并以遮罩為罩幕，在基板上形成圖案化薄膜層。本發(fā)明主要是將遮罩與基板于非真空環(huán)境內(nèi)完成對位之后，在將其移至一真空環(huán)境下進(jìn)行成膜的動作，故此方法可大幅提高單位時間的產(chǎn)能。
文檔編號H05B33/10GK1642370SQ200410001430
公開日2005年7月20日 申請日期2004年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月8日
發(fā)明者李玉山, 陳建良, 陳純鑑, 陳來成 申請人:翰立光電股份有限公司