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一種真空滅弧室的一次封排方法

文檔序號:9827066閱讀:1038來源:國知局
一種真空滅弧室的一次封排方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種真空滅弧室的一次封排方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,在真空滅弧室一次封排工藝中,為了保證觸頭片和觸頭棒的焊接質(zhì)量,通常先將觸頭片和觸頭棒在真空爐中預(yù)焊接一次,然后將剩下的零件和預(yù)焊接好的部件裝配,放入真空爐進(jìn)行一次封排。真空滅弧室的完全一次封排,是將真空滅弧室所有零件直接組裝成整件,然后在真空爐中一次完成排氣、烘烤、釬焊封口的過程。在完全一次封排過程中,通常是在動(dòng)觸頭片和動(dòng)觸頭棒之間夾放一片焊料,鉚接后進(jìn)行懸空焊接,這樣鉚接后在常溫下觸頭片與觸頭棒之間被鉚緊,但是在焊接時(shí)的高溫下,由于熱膨脹的原因,焊料片與觸頭棒、焊料片與觸頭片之間就會各有一條縫隙,這樣觸頭棒與觸頭片之間就有兩條縫隙,影響產(chǎn)品的性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種真空滅弧室的一次封排方法,旨在提高觸頭片和觸頭棒的焊接可靠性。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)以上目的,本發(fā)明中真空滅弧室的一次封排方法的技術(shù)方案如下:
真空滅弧室的一次封排方法,包括以下步驟:
步驟一,對觸頭棒進(jìn)行清理;
步驟二,對觸頭棒的用于與觸頭片焊接的焊接面進(jìn)行鍍銀處理;
步驟三,將觸頭棒和觸頭片裝配在一起,再與其它零件裝配成完整的滅弧室后,進(jìn)行一次封排。
[0005]在步驟一中,觸頭棒的清理工序如下:
1)用有機(jī)溶劑對觸頭棒進(jìn)行預(yù)去油;
2)用堿性溶液對觸頭棒進(jìn)行化學(xué)去油;
3)用硫酸與硝酸的混合溶液對觸頭棒進(jìn)行酸洗;
4)用硝酸對觸頭棒進(jìn)行光亮酸洗;
5)將觸頭棒進(jìn)行脫水處理。
[0006]工序I中有機(jī)溶劑為四氯乙烯,工序3中硫酸和硝酸的體積比為2:3,工序5中用無水乙醇對觸頭棒進(jìn)行脫水處理。
[0007]在步驟二中,觸頭棒的焊接面在鍍銀處理工序前,先進(jìn)行電解去油。
[0008]觸頭棒的焊接面鍍銀處理工序?yàn)?
1)將觸頭棒的焊接面插入電解去油溶液中進(jìn)行恒電壓陰極去油,電壓2.5V;
2)在觸頭棒帶電的情況下,將觸頭棒的焊接面插入電鍍槽的電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行恒電壓預(yù)鍍銀,電壓為I?15V,電鍍時(shí)間為30?300s;
3)在鍍銀溶液中恒電流鍍銀,鍍銀電流密度為0.5-5A/dm2,直至在觸頭棒的焊接面上得到厚度為20?100 Mi的鍍銀層。
[0009]工序2中電鍍?nèi)芤旱慕M分為氰化鉀140g/L、氰化銀25g/L,鍍銀溶液的組分為氰化鉀 130g/L、氰化銀43 g/L ο
[0010]本發(fā)明采用在觸頭棒的焊接面上進(jìn)行鍍銀的方式,用焊接面上的鍍銀層代替?zhèn)鹘y(tǒng)的焊料片,使得觸頭片和觸頭棒在一次封排過程中,兩者之間只有一條縫隙,從而減少了觸頭片和觸頭棒受熱膨脹的變形量及焊縫的寬度,從而提高觸頭片和觸頭棒的焊接可靠性。
【附圖說明】
[0011]圖1是本發(fā)明的實(shí)施例中觸頭棒的焊接面鍍銀示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]本發(fā)明中真空滅弧室的一次封排方法的實(shí)施例:如圖1所示,包括以下步驟:
步驟一,對觸頭棒進(jìn)行清理;
步驟二,對觸頭棒的用于與觸頭片焊接的焊接面進(jìn)行鍍銀處理;
步驟三,將觸頭棒和觸頭片裝配在一起,再與其它零件裝配成完整的滅弧室,然后,進(jìn)行一次封排。
[0013]其中步驟一種清理工序?yàn)?
1)用有機(jī)溶劑(四氯乙烯)對觸頭棒進(jìn)行預(yù)去油;
2)用堿性溶液對觸頭棒進(jìn)行化學(xué)去油;
3)用硫酸與硝酸的混合溶液(體積比2:3)對觸頭棒進(jìn)行酸洗;
4)用硝酸對觸頭棒進(jìn)行光亮酸洗;
5)用無水乙醇將觸頭棒進(jìn)行脫水處理。
[0014]鍍銀處理的工序?yàn)?
1)電解去油;
2)將觸頭棒的焊接面插入電解去油溶液中進(jìn)行恒電壓陰極去油,電壓2.5V;
3)在觸頭棒帶電的情況下,將觸頭棒的焊接面插入電鍍槽的電鍍?nèi)芤?氰化鉀140g/L,氰化銀25 g/L)中進(jìn)行恒電壓預(yù)鍍銀,電壓為I?15V,電鍍時(shí)間為30?300s;
4)在鍍銀溶液(氰化鉀130g/L,氰化銀43g/L)中恒電流鍍銀,鍍銀電流密度為0.5?5A/dm2,直至在觸頭棒的焊接面上得到厚度為20?100 Mi的鍍銀層。
[0015]在鍍銀處理中,電解槽4的槽底設(shè)置有電連接在直流電源2的正極上的極板3(極板上有銀板),在電解槽4內(nèi)還裝配有用于攪拌電鍍?nèi)芤?的攪拌器5,而觸頭棒I在電連接在直流電源2的負(fù)極的情況下插入電鍍?nèi)芤?中。
[0016]觸頭片的清理主要通過有機(jī)溶劑預(yù)去油、研磨、化學(xué)去油、脫水等工藝實(shí)現(xiàn)。
[0017]在其他實(shí)施例中,觸頭棒的清理也可以通過拋光、研磨等工藝實(shí)現(xiàn),當(dāng)然在觸頭棒的焊接面上的鍍銀處理也可以通過電鍍的方式實(shí)現(xiàn)。因此本發(fā)明中真空滅弧室的一次封排方法可按照如下步驟實(shí)施:
步驟一,對觸頭棒進(jìn)行清理;
步驟二,對觸頭棒的用于與觸頭片焊接的焊接面進(jìn)行鍍銀處理;
步驟三,將觸頭棒和觸頭片裝配在一起,再與其它零件裝配成完整的滅弧室,然后,進(jìn)行一次封排。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,包括以下步驟: 步驟一,對觸頭棒進(jìn)行清理; 步驟二,對觸頭棒的用于與觸頭片焊接的焊接面進(jìn)行鍍銀處理; 步驟三,將觸頭棒和觸頭片裝配在一起,再與其它零件裝配成完整的滅弧室后,進(jìn)行一次封排。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,在步驟一中,觸頭棒的清理工序如下: 1)用有機(jī)溶劑對觸頭棒進(jìn)行預(yù)去油; 2)用堿性溶液對觸頭棒進(jìn)行化學(xué)去油; 3)用硫酸與硝酸的混合溶液對觸頭棒進(jìn)行酸洗; 4)用硝酸對觸頭棒進(jìn)行光亮酸洗; 5)將觸頭棒進(jìn)行脫水處理。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,工序I中有機(jī)溶劑為四氯乙烯,工序3中硫酸和硝酸的體積比為2:3,工序5中用無水乙醇對觸頭棒進(jìn)行脫水處理。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,在步驟二中,觸頭棒的焊接面在鍍銀處理工序前,先進(jìn)行電解去油。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,觸頭棒的焊接面鍍銀處理工序?yàn)? 1)將觸頭棒的焊接面插入電解去油溶液中進(jìn)行恒電壓陰極去油,電壓2.5V; 2)在觸頭棒帶電的情況下,將觸頭棒的焊接面插入電鍍槽的電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行恒電壓預(yù)鍍銀,電壓為I?15V,電鍍時(shí)間為30?300s; 3)在鍍銀溶液中恒電流鍍銀,鍍銀電流密度為0.5?5A/dm2,直至在觸頭棒的焊接面上得到厚度為20?100 Mi的鍍銀層。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空滅弧室的一次封排方法,其特征在于,工序2中電鍍?nèi)芤旱慕M分為氰化鉀140g/L、氰化銀25 g/L,鍍銀溶液的組分為氰化鉀130g/L、氰化銀43 g/L。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種真空滅弧室的一次封排方法。包括以下步驟:首先,對觸頭棒進(jìn)行清理;其次,對觸頭棒的用于與觸頭片焊接的焊接面進(jìn)行鍍銀處理;最后,將觸頭棒和觸頭片裝配在一起后,進(jìn)行一次封排。本發(fā)明采用在觸頭棒的焊接面上進(jìn)行鍍銀的方式,用焊接面上的鍍銀層代替?zhèn)鹘y(tǒng)的焊料片,使得觸頭片和觸頭棒在一次封排過程中,兩者之間只有一條縫隙,從而減少了觸頭片和觸頭棒受熱膨脹的變形量及焊縫的寬度,從而提高觸頭片和觸頭棒的焊接可靠性。
【IPC分類】H01H11/06
【公開號】CN105590772
【申請?zhí)枴緾N201511004953
【發(fā)明人】施大成, 陳飛, 李正, 劉晶晶, 王曉琴, 唐先賀, 陳亞鵬, 趙志維, 周廣偉, 陳海軍
【申請人】天津平高智能電氣有限公司, 平高集團(tuán)有限公司, 國家電網(wǎng)公司, 國網(wǎng)寧夏電力公司檢修公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2015年12月29日
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