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發(fā)光裝置用基板、發(fā)光裝置、以及發(fā)光裝置用基板的制造方法_5

文檔序號:9757110閱讀:來源:國知局
r>[0151]在導(dǎo)電層形成工序中,通常使用含有銀(Ag)等導(dǎo)電性金屬的導(dǎo)電性膏,通過印刷等涂敷于基板表面后,使其干燥而固化。固化后的導(dǎo)電層表面通常被膏的粘合劑中使用的樹脂等的絕緣性覆膜覆蓋。因此,在通過鍍覆來形成電極圖案之前,必須通過蝕刻處理等除去覆蓋導(dǎo)電層的絕緣性覆膜來確保導(dǎo)電性。
[0152]然而,若將覆蓋成為電極圖案的基底的導(dǎo)電層的絕緣覆膜的除去工序用覆膜形成工序的陽極氧化處理來代替,則能夠省略一個工序。在形成鋁的陽極氧化覆膜的工序中,通常作為處理液而使用例如硫酸水溶液的酸性液。因此,通過選擇相對于該酸性液而適度溶解的物質(zhì)來作為導(dǎo)電性膏用的粘合劑,從而能夠同時完成絕緣性覆膜的除去工序和陽極氧化處理。所以,能夠在剛剛完成進(jìn)行陽極氧化處理的覆膜形成工序之后立即轉(zhuǎn)移至通過鍍覆來形成電極圖案的工序。
[0153]此外,在陽極氧化處理中用作處理液的酸性液中,也有不能充分除去覆蓋導(dǎo)電層的絕緣覆膜的情況。該情況下,可以追加除去覆蓋導(dǎo)電層的絕緣覆膜的工序,也可以返回標(biāo)準(zhǔn)的順序。即,可以在進(jìn)行了基于陽極氧化處理的覆膜形成工序的基礎(chǔ)上,按照導(dǎo)電層形成工序、覆蓋導(dǎo)電層的絕緣覆膜的除去工序、電極圖案形成工序的順序來進(jìn)行。
[0154]本發(fā)明的方式16所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法包括:在由鋁構(gòu)成的基體上形成絕緣性的導(dǎo)熱層的導(dǎo)熱層形成工序;在所述導(dǎo)熱層上形成絕緣性的反射層的反射層形成工序;在所述基體的形成有所述導(dǎo)熱層的面以外的面上形成鋁的陽極氧化覆膜的覆膜形成工序;在所述反射層上或者所述反射層中形成導(dǎo)電層的導(dǎo)電層形成工序;和在所述導(dǎo)電層上形成電極圖案的電極圖案形成工序,在所述反射層形成工序中,將包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者,將包含陶瓷的粒子以及樹脂的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,進(jìn)行固化,從而形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者,將陶瓷的粒子高速地噴射至成為所述反射層的底層的層,從而形成陶瓷的沉積層作為所述反射層。
[0155]根據(jù)上述方法,由于對由鋁構(gòu)成的基體的形成有反射層的面以外的面進(jìn)行陽極氧化處理來形成鋁的陽極氧化覆膜(防蝕鋁),因此能夠容易地制造具有保護(hù)基體的功能、不使作為發(fā)光裝置用而被要求的功能下降且量產(chǎn)性優(yōu)異的發(fā)光裝置用基板。另外,由于能夠在比較低溫下形成反射層,因此即使是例如鋁那樣熔點(diǎn)低至660°C的金屬為基體,也能制造發(fā)光裝置用基板。
[0156]本發(fā)明的方式17所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法在方式16所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法中,所述覆膜形成工序在所述導(dǎo)熱層形成工序之后進(jìn)行為好。
[0157]根據(jù)上述方法,通過在導(dǎo)熱層形成工序之后進(jìn)行覆膜形成工序,從而能夠消除防蝕鋁暴露于導(dǎo)熱層形成時的高溫下的情況,從而能夠防止防蝕鋁中發(fā)生龜裂。
[0158]本發(fā)明的方式18所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法在方式17所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法中,在將由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層來使用的情況下,所述覆膜形成工序可以在所述反射層形成工序之前進(jìn)行。
[0159]在將由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為反射層來使用的情況下,例如,若將有機(jī)硅樹脂等樹脂用作粘合劑,則能夠在200°C以下的比較低的溫度下容易地進(jìn)行固化而形成。因此,能夠不使鋁的陽極氧化覆膜發(fā)生龜裂地形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層。所以,覆膜形成工序不僅能夠在反射層形成工序之后進(jìn)行,還能夠在反射層形成工序之如進(jìn)行。
[0160]但是,在將由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為反射層來使用的情況下,在反射層形成工序中,在250°C以上的高溫下對玻璃進(jìn)行燒成。因此,若在反射層形成工序之前進(jìn)行覆膜形成工序,則鋁的陽極氧化覆膜會產(chǎn)生裂紋。為此,優(yōu)選在反射層形成工序之后進(jìn)行覆膜形成工序。
[0161]本發(fā)明的方式19所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法在方式16至18的任一項(xiàng)所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法中,可以是在所述導(dǎo)熱層形成工序中,將陶瓷的粒子噴射至所述基體,從而形成陶瓷的沉積層作為所述導(dǎo)熱層,或者,在所述基體上涂敷包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述導(dǎo)熱層,或者,形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述導(dǎo)熱層。
[0162]根據(jù)上述方法,由于能夠在比較低溫下形成導(dǎo)熱層,因此即使是例如鋁那樣熔點(diǎn)低至660°C的金屬為基體,也能制造發(fā)光裝置用基板。此外,在形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為導(dǎo)熱層的情況下,可以將包含陶瓷的粒子以及樹脂的涂料涂敷于基體,進(jìn)行固化,從而形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層,還可以在基體上貼附預(yù)先將由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層加工成片狀而得到的部件。
[0163]本發(fā)明的方式20所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法在方式11至19的任一項(xiàng)所涉及的發(fā)光裝置用基板的制造方法中,可以是包含將所述鋁的陽極氧化覆膜的孔封上的封孔工序。
[0164]根據(jù)上述方法,通過對鋁的陽極氧化覆膜進(jìn)行封孔處理,從而陽極氧化覆膜進(jìn)一步穩(wěn)定化。因此,能夠抑制氧化的推進(jìn),因而能夠進(jìn)一步提高發(fā)光裝置用基板的長期可靠性。
[0165]本發(fā)明并不限定于上述各實(shí)施方式以及各變形例,能夠進(jìn)行各種變更,關(guān)于將不同實(shí)施方式中分別公開的技術(shù)手段進(jìn)行適當(dāng)組合而獲得的實(shí)施方式,也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。進(jìn)而,通過將各實(shí)施方式中分別公開的技術(shù)手段進(jìn)行組合,從而能夠形成新的技術(shù)特征。
[0166]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0167]本發(fā)明所涉及的發(fā)光裝置用基板能夠作為各種發(fā)光裝置用的基板來利用。本發(fā)明所涉及的發(fā)光裝置特別是能夠作為高亮度LED發(fā)光裝置來利用。根據(jù)本發(fā)明所涉及的制造方法,能夠通過在保護(hù)發(fā)光裝置用基板的基礎(chǔ)上量產(chǎn)性優(yōu)異的方法來進(jìn)行制造。
[0168]符號說明
[0169]I照明裝置
[0170]2散熱器
[0171]4,4A發(fā)光裝置
[0172]5,5A,5B基板(發(fā)光裝置用基板)
[0173]6發(fā)光元件
[0174]7密封樹脂
[0175]8密封樹脂周緣框體
[0176]10鋁基體(基體)
[0177]17薄膜層(反射層)
[0178]17a下部薄膜層(導(dǎo)熱層)
[0179]17b上部薄膜層(反射層)
[0180]19保護(hù)層(鋁的陽極氧化覆膜)
[0181]20,20A電極圖案
[0182] 22基底的電路圖案
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種發(fā)光裝置用基板,在由鋁構(gòu)成的基體上形成有使來自發(fā)光元件的光反射的絕緣性的反射層,其特征在于, 所述基體的形成有所述反射層的面以外的面被鋁的陽極氧化覆膜覆蓋。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于, 導(dǎo)熱率比所述反射層高的絕緣性的導(dǎo)熱層介于所述基體與所述反射層之間。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于, 所述反射層由陶瓷與玻璃的混合物、陶瓷與樹脂的混合物、或者陶瓷構(gòu)成。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于, 與所述發(fā)光元件的電極電連接的電極圖案形成在所述反射層上。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于, 與所述發(fā)光元件的電極電連接的電極圖案埋設(shè)于所述反射層中, 所述電極圖案的端子部在所述反射層的表面露出。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于, 與所述發(fā)光元件的電極電連接的電極圖案埋設(shè)于所述反射層中,并且在所述導(dǎo)熱層上與所述導(dǎo)熱層接觸或者埋設(shè)于所述導(dǎo)熱層, 所述電極圖案的端子部在所述反射層的表面露出。7.—種發(fā)光裝置,其特征在于, 在權(quán)利要求4至6的任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置用基板上具備發(fā)光元件。8.一種發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于,包括: 反射層形成工序,在由鋁構(gòu)成的基體上形成絕緣性的反射層; 覆膜形成工序,在所述基體的形成有所述反射層的面以外的面上形成鋁的陽極氧化覆膜; 導(dǎo)電層形成工序,在所述反射層上形成導(dǎo)電層;和 電極圖案形成工序,在所述導(dǎo)電層上形成電極圖案, 在所述反射層形成工序中,在所述基體上涂敷包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于, 所述覆膜形成工序在所述反射層形成工序之后進(jìn)行。10.一種發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于,包括: 導(dǎo)熱層形成工序,在由鋁構(gòu)成的基體上形成絕緣性的導(dǎo)熱層; 反射層形成工序,在所述導(dǎo)熱層上形成絕緣性的反射層; 覆膜形成工序,在所述基體的形成有所述導(dǎo)熱層的面以外的面上形成鋁的陽極氧化覆膜; 導(dǎo)電層形成工序,在所述反射層上或者所述反射層中形成導(dǎo)電層;和 電極圖案形成工序,在所述導(dǎo)電層上形成電極圖案, 在所述反射層形成工序中, 將包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者, 將包含陶瓷的粒子以及樹脂的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,進(jìn)行固化,從而形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者, 將陶瓷的粒子高速地噴射至成為所述反射層的底層的層,從而形成陶瓷的沉積層作為所述反射層。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于, 所述覆膜形成工序在所述導(dǎo)熱層形成工序之后進(jìn)行。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于, 在將由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層來使用的情況下,所述覆膜形成工序在所述反射層形成工序之前進(jìn)行。13.根據(jù)權(quán)利要求10至12的任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于, 在所述導(dǎo)熱層形成工序中, 將陶瓷的粒子噴射至所述基體,從而形成陶瓷的沉積層作為所述導(dǎo)熱層,或者, 在所述基體上涂敷包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述導(dǎo)熱層,或者, 形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述導(dǎo)熱層。
【專利摘要】基板(5)通過將鋁基體(10)的形成有絕緣性的薄膜層(17)的面以外的面由作為鋁的陽極氧化覆膜的保護(hù)層(19)覆蓋而形成。
【IPC分類】H01L33/62, C25D11/04, H01L33/60
【公開號】CN105518883
【申請?zhí)枴緾N201480048564
【發(fā)明人】小西正宏, 伊藤晉
【申請人】夏普株式會社
【公開日】2016年4月20日
【申請日】2014年7月25日
【公告號】US20160204320, WO2015033700A1
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