用于處理基板的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式涉及用于處理基板的裝置，并且更具體地，涉及用于清洗基板的基板處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在基板的表面上殘留的污染物質(zhì)(例如，顆粒、有機(jī)污染物以及金屬污染物)導(dǎo)致半導(dǎo)體器件的電特性劣化且產(chǎn)品收得率降低。因此，在半導(dǎo)體制造過程期間，可在半導(dǎo)體制造過程的每個(gè)單步之前和/或之后執(zhí)行清洗過程以從基板表面除去污染物質(zhì)。通常，清洗基板的過程可以包括化學(xué)處理過程、漂洗過程、以及干法，在化學(xué)處理過程中，使用化學(xué)品從基板去除在基板上殘留的金屬材料、有機(jī)材料或顆粒；在漂洗工藝中，使用去離子水去除在基板上殘留的化學(xué)品；在干法中，有機(jī)溶劑、氮?dú)獾缺挥糜谑够甯稍铩?br>[0003]在韓國(guó)專利公開第2012-0056620號(hào)中公開了用于清洗過程的傳統(tǒng)設(shè)備。該設(shè)備包括用于收集各種處理溶液的器皿和設(shè)置在器皿中的基板支撐構(gòu)件。設(shè)備的器皿被設(shè)置成具有平滑的內(nèi)側(cè)面。然而，使用這種器皿可能會(huì)導(dǎo)致基板的二次污染。例如，提供的用于清洗基板的化學(xué)溶液因離心力與器皿內(nèi)側(cè)面碰撞然后被彈回從而污染基板。此外，與器皿碰撞的一小部分化學(xué)溶液可能形成朝向基板向下移動(dòng)的大液滴然后與朝向器皿移動(dòng)的其他化學(xué)溶液碰撞。一小部分碰撞的化學(xué)溶液可能落到基板上，這會(huì)導(dǎo)致基板污染。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式提供了基板處理裝置，該基板處理裝置被配置為當(dāng)在基板清洗過程中化學(xué)溶液與器皿碰撞時(shí)抑制化學(xué)溶液朝向基板彈回。
[0005]本發(fā)明構(gòu)思的其他示例性實(shí)施方式提供了基板處理裝置，其被配置為減小化學(xué)溶液的每個(gè)液滴的大小，在基板清洗過程期間因與器皿碰撞減小的液滴朝向基板彈回。
[0006]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，基板處理裝置可以包括:器皿，被配置為在其中提供處理空間；基板支撐單元，設(shè)置在器皿中以支撐基板；以及噴射構(gòu)件，被配置為在基板支撐單元上裝載的基板上噴射處理溶液。器皿可具有內(nèi)側(cè)面，在該內(nèi)側(cè)面上形成有至少一個(gè)紋理圖案。
[0007]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可被設(shè)置成具有線性形狀。
[0008]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括設(shè)置成垂直于水平面并平行于垂直方向的垂直紋理圖案。
[0009]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括設(shè)置成相對(duì)于水平面傾斜的傾斜紋理圖案。
[0010]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括設(shè)置成螺旋狀的螺旋紋理圖案。
[0011]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括:被設(shè)置成垂直于水平面并平行于垂直方向的垂直紋理圖案，以及被設(shè)置成平行于水平面的水平紋理圖案。水平紋理圖案可被設(shè)置成與垂直紋理圖案交叉。
[0012]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括以與砂紙表面的類似方式形成的砂紙狀紋理圖案。
[0013]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括多個(gè)紋理圖案，其中一些紋理圖案被設(shè)置成彼此間隔開均勻距離。
[0014]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括多個(gè)紋理圖案，其中一些紋理圖案被設(shè)置成以至少兩種不同的距離彼此間隔開。
[0015]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括多個(gè)紋理圖案，其中一些紋理圖案被設(shè)置成彼此具有基本上相同的深度。
[0016]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括多個(gè)紋理圖案，其中一些紋理圖案被設(shè)置成具有至少兩種不同的深度。
[0017]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以設(shè)置成雕刻形狀。
[0018]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以設(shè)置成浮雕形狀。
[0019]在示例性實(shí)施方式中，器皿可以包括多個(gè)收集瓶，多個(gè)收集瓶具有在垂直方向上位于不同水平高度(level)的入口，并且至少一個(gè)紋理圖案可以設(shè)置在每個(gè)收集瓶的內(nèi)側(cè)面上。
[0020]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括在器皿的內(nèi)側(cè)面上沿著器皿的周向設(shè)置的多個(gè)紋理圖案。
[0021]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括設(shè)置成垂直于水平面并平行于垂直方向的垂直紋理圖案。
[0022]在示例性實(shí)施方式中，至少一個(gè)紋理圖案可以包括設(shè)置成相對(duì)于水平面傾斜的傾斜紋理圖案。
[0023]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，基板處理裝置可以包括:器皿，被配置為在其中提供處理空間；基板支撐單元，設(shè)置在器皿中以支撐基板；以及噴射構(gòu)件，被配置為在加載在基板支撐單元上的基板上噴射處理溶液。器皿可以包括分割構(gòu)件，其被配置為當(dāng)用于基板處理過程的處理溶液與器皿的內(nèi)側(cè)面碰撞時(shí)分割處理溶液。
[0024]在示例性實(shí)施方式中，分割構(gòu)件可以包括沿著器皿的周向設(shè)置在器皿的內(nèi)側(cè)面上的多個(gè)紋理圖案。
[0025]在示例性實(shí)施方式中，紋理圖案可設(shè)置成垂直于水平面并平行于垂直方向。
[0026]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，基板處理裝置可以包括:器皿，被配置為在其中提供處理空間；基板支撐單元，設(shè)置在器皿中以支撐基板；以及噴射構(gòu)件，被配置為在加載在基板支撐單元上的基板上噴射處理溶液。器皿可以包括防止彈回構(gòu)件，其被配置為當(dāng)用于基板處理過程的處理溶液與器皿的內(nèi)側(cè)面碰撞時(shí)抑制處理溶液朝向基板彈回。
[0027]在示例性實(shí)施方式中，防止彈回部件可以包括沿著器皿的周向設(shè)置在器皿的內(nèi)側(cè)面上的多個(gè)紋理圖案。
[0028]在示例性實(shí)施方式中，紋理圖案可設(shè)置成垂直于水平面并平行于垂直方向。
【附圖說明】
[0029]將根據(jù)以下連同附圖的簡(jiǎn)要說明更清晰地理解示例性實(shí)施方式。附圖相當(dāng)于在本文中所描述的非限制性示例性實(shí)施方式。
[0030]圖1是示意性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的平面圖。
[0031]圖2是示出圖1的基板處理裝置的平面圖。
[0032]圖3是示出圖1的基板處理裝置的剖視圖。
[0033]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式的具有紋理的器皿的實(shí)例的示圖。
[0034]圖5到圖11是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的其他示例性實(shí)施方式的具有紋理的器皿的其他實(shí)例的示圖。
[0035]圖12是示意性地示出當(dāng)器皿設(shè)置成具有平滑內(nèi)側(cè)面時(shí)處理溶液的軌跡的示圖。
[0036]圖13是示意性地示出當(dāng)器皿設(shè)置成具有在圖4中所示的結(jié)構(gòu)時(shí)處理溶液的軌跡的示圖。
[0037]應(yīng)注意，這些圖旨在示出在某些示例性實(shí)施方式中使用的方法、結(jié)構(gòu)和/或材料的一般特性并補(bǔ)充如下提供的書面說明。然而，這些附圖不是按比例的并可能不會(huì)精確地反應(yīng)任何特定實(shí)施方式的精確的結(jié)構(gòu)或性能特性，并不應(yīng)當(dāng)解釋為定義或限制示例性實(shí)施方式包括的值或性能的范圍。例如，為清晰起見，可以減小或放大分子、層、區(qū)域和/或結(jié)構(gòu)元件的相對(duì)厚度和位置。在各個(gè)附圖中使用相似或相同的參考標(biāo)號(hào)旨在表示存在相似或相同的元件或特征。
【具體實(shí)施方式】
[0038]現(xiàn)將參考附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，其中示出示例性實(shí)施方式。然而，可以許多不同的形式涵蓋本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式并且不應(yīng)當(dāng)解釋為限于在本文中闡述的實(shí)施方式；相反地，提供這些實(shí)施方式以便本公開詳盡且完整，并將向本領(lǐng)域普通技術(shù)人員完全傳達(dá)示例性實(shí)施方式的構(gòu)思。在附圖中，為了清楚起見可放大層和區(qū)域的厚度。附圖中相同參考標(biāo)號(hào)表示相同元件，從而將省略對(duì)它們的說明。
[0039]應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)提及一個(gè)元件“連接”或“耦接”至另一個(gè)元件時(shí)，其可以直接連接或耦接至另一個(gè)元件或