本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板、其制作方法和顯示裝置。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，顯示面板很容易與外界產(chǎn)生碰撞或跌落，或者在較為惡劣的環(huán)境下(如高溫高濕)的情況下產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而導(dǎo)致保護(hù)層開裂產(chǎn)生微裂紋，但這些情況下，保護(hù)層產(chǎn)生的微裂紋有時(shí)候是很難在初檢時(shí)就被發(fā)現(xiàn)，從而導(dǎo)致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入，而且一旦接觸腐蝕氣體或液體，這種缺陷就會(huì)被放大，從而損傷里面的膜層和金屬走線，導(dǎo)致屏幕顯示發(fā)生不良。

綜上所述，在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護(hù)層容易產(chǎn)生微裂紋，從而導(dǎo)致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入，損傷里面的膜層和金屬走線。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種顯示基板、其制作方法和顯示裝置，用以解決在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護(hù)層容易產(chǎn)生微裂紋，從而導(dǎo)致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入，損傷里面的膜層和金屬走線的問題。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板，包括：襯底基板、設(shè)置在所述襯底基板上的至少一層導(dǎo)電層、以及設(shè)置在所述導(dǎo)電層上的至少一層保護(hù)層；其中，

所述保護(hù)層中包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物；

每個(gè)所述填充物包括多個(gè)被外壁包裹的納米級(jí)填充粒子。

較佳的，所述填充物設(shè)置在所述保護(hù)層上遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)；或，所述填充物設(shè)置在所述保護(hù)層之中。

較佳的，所述保護(hù)層包括鈍化層。

較佳的，所述填充物的外壁包括聚脲材料；所述填充物的填充粒子包括負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一顯示基板。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板的制作方法，包括：

在襯底基板上形成導(dǎo)電層圖案；

在所述導(dǎo)電層圖案上形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案；

其中，所述填充物包括多個(gè)被外壁包裹的納米級(jí)填充粒子。

較佳的，在所述導(dǎo)電層圖案上形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案，包括：

在所述導(dǎo)電層圖案上形成一層保護(hù)層薄膜；

在所述保護(hù)層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

將涂覆有混合溶液的襯底基板進(jìn)行烘烤處理，使所述混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于所述保護(hù)層薄膜上的填充物；

通過構(gòu)圖工藝對(duì)所述保護(hù)層薄膜和所述填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。

較佳的，將涂覆有混合溶液的襯底基板進(jìn)行烘烤處理之后，通過構(gòu)圖工藝對(duì)所述保護(hù)層薄膜和填充物進(jìn)行刻蝕之前，還包括：

在所述填充物上再形成一層保護(hù)層薄膜；

通過構(gòu)圖工藝對(duì)所述保護(hù)層薄膜和所述填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案，具體包括：

通過構(gòu)圖工藝對(duì)兩層保護(hù)層薄膜和所述填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。

較佳的，所述溶劑的材料為下列材料中的一種或組合：環(huán)己烷或有機(jī)溶劑。

較佳的，所述混合溶液中填充物所占的質(zhì)量比為50％-70％。

本發(fā)明有益效果如下：

本發(fā)明實(shí)施例中提供的顯示基板，在至少一層導(dǎo)電層上方的保護(hù)層中，設(shè)置有多個(gè)同層設(shè)置且包含納米級(jí)填充粒子的填充物，當(dāng)保護(hù)層產(chǎn)生微裂紋時(shí)，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會(huì)隨著裂紋破裂，填充物內(nèi)部的納米級(jí)填充粒子可以自動(dòng)填補(bǔ)到裂紋所在的位置，進(jìn)而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入顯示基板，損傷導(dǎo)電層，提高了顯示基板的良率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的保護(hù)層產(chǎn)生裂紋的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法的步驟流程圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的形成包含有填充物的保護(hù)層圖案的制作方法的步驟流程圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法的整體步驟流程圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，并不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

其中，附圖中膜層厚度和區(qū)域形狀不反映其真實(shí)比例，目的只是示意說明本發(fā)明的內(nèi)容。

在下述實(shí)施例中，所用的填充物優(yōu)選為填充微球，易于加工且更穩(wěn)定。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員容易認(rèn)知，基于已有的加工工藝，可以將填充物加工成各種所需形狀，例如矩形、橢圓等。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板，適用于oled(organiclight-emittingdiode，有機(jī)發(fā)光二極管)顯示基板和lcd(liquidcrystaldisplay，液晶顯示器)顯示基板或其它各種顯示模組，主要在現(xiàn)有顯示基板的基礎(chǔ)上，對(duì)導(dǎo)電層上方的保護(hù)層進(jìn)行了改進(jìn)，保護(hù)層中包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物，當(dāng)保護(hù)層產(chǎn)生微裂紋時(shí)，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會(huì)隨著裂紋破裂，填充物內(nèi)部的納米級(jí)填充粒子可以自動(dòng)填補(bǔ)到裂紋所在的位置，進(jìn)而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入，損傷里面的膜層和金屬走線，提高了顯示基板的良率。下面分別對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板、其制作方法及顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)的說明。

如圖1所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；該顯示基板，包括：襯底基板100、設(shè)置在襯底基板100上的至少一層導(dǎo)電層101、以及設(shè)置在導(dǎo)電層101上的至少一層保護(hù)層102；其中，保護(hù)層102中包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物103；每個(gè)填充物103包括多個(gè)被外壁包裹的納米級(jí)填充粒子。

在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，較佳的，在保護(hù)層102中，至少有部分填充物103同層且均勻分布，且其在襯底基板上的投影覆蓋導(dǎo)電層(圖案)在襯底基板上的投影。

圖1只是簡單示意了一種可能的顯示基板結(jié)構(gòu)示意圖，由于本發(fā)明是對(duì)導(dǎo)電層上方的保護(hù)層的改進(jìn)，其中，該保護(hù)層可以是鈍化層，也可以絕緣層，具體的可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置，而且本發(fā)明的構(gòu)思可以適用于oled顯示基板和lcd顯示基板，在此并未畫出所有可能的顯示基板的詳細(xì)結(jié)構(gòu)，同時(shí)，圖1僅畫出了顯示基板的部分主要結(jié)構(gòu)，例如，圖1中并沒有畫出tft(thinfilmtransistor，薄膜晶體管)的結(jié)構(gòu)、液晶層等；這些未圖示的結(jié)構(gòu)為本領(lǐng)域技術(shù)人員公知，在此不做介紹。

在具體實(shí)施時(shí)，由于在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護(hù)層容易產(chǎn)生微裂紋，為了不使腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入，損傷里面的導(dǎo)電層，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，在保護(hù)層102中設(shè)置有多個(gè)同層設(shè)置的填充物103；而且是在的每個(gè)填充物103包括多個(gè)被外壁包裹的納米級(jí)填充粒子。

如圖2所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的保護(hù)層產(chǎn)生裂紋的結(jié)構(gòu)示意圖；由于在保護(hù)層102中設(shè)置有多個(gè)包含納米級(jí)填充粒子的填充物，當(dāng)保護(hù)層102產(chǎn)生微裂紋s(即圖中黑色的縫隙)時(shí)，微裂紋s所在位置的填充物的外壁1031也會(huì)隨著裂紋破裂，隨后粒徑足夠小的納米級(jí)填充粒子1032從填充物中滲出，自動(dòng)填補(bǔ)到裂紋s所在的位置，可以填補(bǔ)裂紋，保證導(dǎo)電層始終有保護(hù)層覆蓋而不裸露在外界環(huán)境中，防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入顯示基板損傷導(dǎo)電層，進(jìn)而提高了顯示基板的良率。

在具體實(shí)施時(shí)，填充物的位置可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置，只要是設(shè)置在保護(hù)層中即可，既可以設(shè)置在保護(hù)層內(nèi)部，也可以設(shè)置在保護(hù)層的表層。較佳的，填充物設(shè)置在保護(hù)層上遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)；或，填充物設(shè)置在保護(hù)層之中。

具體的，填充物設(shè)置的位置與保護(hù)層的材料和制作工藝有關(guān)系，保護(hù)層可以是絕緣層，也可以是鈍化層，較佳的，保護(hù)層包括鈍化層。由于現(xiàn)有的鈍化層一般采用pecvd(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積法)工藝，利用化學(xué)反應(yīng)生成sinx，形成鈍化層。因此，填充物可以通過溶液法制作到保護(hù)層上遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)；又或者是先采用pecvd工藝沉積一層鈍化層，然后在這層鈍化層上制作一層填充物，之后再在填充物上方制作一層鈍化層，即把填充物設(shè)置在保護(hù)層之中。

在具體實(shí)施時(shí)，上述填充物可以根據(jù)需要進(jìn)行選取，只要是由外壁包裹用于進(jìn)行填充的納米級(jí)填充粒子即可。較佳的，填充物的直徑為50微米-200微米；相應(yīng)的，納米級(jí)填充粒子的直徑可以為不高于于100nm，優(yōu)選不高于50nm。而具體的填充物包括外壁和內(nèi)部的填充粒子，具體的制作材料可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行選取，較佳的，填充物的外壁包括聚脲材料；填充物的填充粒子包括負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

具體的，上述負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅的填充粒子，可以通過微乳液聚合的方法制作，具體的制作方法如下：

1)將ctab(十二烷基三甲基溴化銨)、mgso4(硫酸鎂)、sinx(氮化硅)加入到去離子水中，進(jìn)行超聲分散；

2)以十二烷基苯磺酸鈉作為乳化劑，加入teos(正硅酸四乙酯)，進(jìn)行反應(yīng)；

3)待反應(yīng)結(jié)束后，使用無水乙醇進(jìn)行破乳，然后烘干，得到負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

在制作出負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅之后，通過反相細(xì)乳液法制作出填充物：

1)將二胺單體混合物(eda乙二胺和aibn偶氮二異丁腈)、nacl(氯化鈉)、以及之前的制備的負(fù)載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅加入到去離子水中，進(jìn)行超聲分散；

2)使用十二烷基苯磺酸鈉作為乳化劑，kps(過硫酸鉀)作為引發(fā)劑，對(duì)步驟1)所得分散液進(jìn)行預(yù)乳化，得到混合溶液；

3)然后在混合溶液中緩慢滴加含tdi(甲苯二異氰酸酯)的環(huán)己烷溶液，反應(yīng)結(jié)束后，洗滌干凈后得到包裹有氮化硅納米粒子的聚脲微球(即本發(fā)明實(shí)施例中的填充物)。

上述所提供的制備過程僅為一種示意性說明，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)所提供的制備工藝結(jié)合相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)可選擇合適的反應(yīng)原料用量、反應(yīng)條件與反應(yīng)時(shí)間，例如反應(yīng)時(shí)間可以是12小時(shí)、24小時(shí)或其它所需反應(yīng)時(shí)間，反應(yīng)溫度可以是常溫(20-30℃)或其它有利于加快反應(yīng)進(jìn)行的溫度，乳化時(shí)間可以是1小時(shí)或其它可行的時(shí)間，烘干方式可以是常溫通風(fēng)烘干、30-50℃熱烘干等。

當(dāng)然，上述制作填充物的過程只是一種較佳的制作方法，僅用來解釋說明如何制作填充物，并不用于限定本發(fā)明中填充物的制作方法。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一顯示基板。該顯示裝置的實(shí)施可以參見上述任一顯示基板的實(shí)施例，重復(fù)之處不再贅述。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一顯示基板的制作方法，由于該制作方法解決問題的原理與本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板相似，因此該制作方法的實(shí)施可以參見顯示基板的實(shí)施，重復(fù)之處不再贅述。

如圖3所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法的步驟流程圖，具體可以采用如下步驟實(shí)現(xiàn)：

步驟301，在襯底基板上形成導(dǎo)電層圖案；

步驟302，在導(dǎo)電層圖案上形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案；其中，填充物包括多個(gè)被外壁包裹的納米級(jí)填充粒子。

在具體實(shí)施時(shí)，先在襯底基板上形成導(dǎo)電層的圖案，具體可以采用現(xiàn)有技術(shù)中的方式進(jìn)行制作，在此不做限定。之后制作保護(hù)層的圖案，并在制作過程中，采用同一次制作工藝在保護(hù)層中形成多個(gè)填充物，下面具體介紹如何形成包含有填充物的保護(hù)層圖案。

如圖4所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的形成包含有填充物的保護(hù)層圖案的制作方法的步驟流程圖，具體可以采用如下步驟實(shí)現(xiàn)：

步驟3021，在導(dǎo)電層圖案上形成一層保護(hù)層薄膜；

步驟3022，在保護(hù)層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

步驟3023，將涂覆有混合溶液的襯底基板進(jìn)行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護(hù)層薄膜上的填充物；

步驟3024，通過構(gòu)圖工藝對(duì)保護(hù)層薄膜和填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。

在形成導(dǎo)電層的圖案之后，在上方制作保護(hù)層，首先執(zhí)行步驟3021，形成一整層的保護(hù)層薄膜；此時(shí)，先不進(jìn)行構(gòu)圖，而是執(zhí)行步驟3022，在保護(hù)層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；該混合溶液即通過溶劑溶解的填充物。上述溶劑的材料可以根據(jù)需要進(jìn)行選取，只要能用于溶解填充物即可，但是為了防止溶劑對(duì)保護(hù)層薄膜產(chǎn)生影響，較佳的，溶劑的材料為下列材料中的一種或組合：環(huán)己烷或有機(jī)溶劑。

具體的，一般填充物在未使用前以固體粉末的形式低溫密封保存在試劑瓶中，使用時(shí)以一定的質(zhì)量百分比溶解在溶劑中使用。較佳的，混合溶液中填充物所占的質(zhì)量比為50％-70％。

在涂覆完混合溶液之后，需要去除溶劑，使填充物固定到保護(hù)層薄膜上，因而需要執(zhí)行步驟3023，將涂覆有混合溶液的襯底基板進(jìn)行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護(hù)層薄膜上的填充物。當(dāng)然，也可以根據(jù)需要采取其它的工藝去除混合溶液中的溶劑。

在去除溶劑之后，由于烘烤，填充物會(huì)固定到保護(hù)層薄膜上，可以直接對(duì)烘烤處理后的保護(hù)層薄膜進(jìn)行構(gòu)圖，即執(zhí)行步驟3024，通過構(gòu)圖工藝對(duì)保護(hù)層薄膜和填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。此時(shí)，形成的保護(hù)層圖案中設(shè)置有填充物，當(dāng)保護(hù)層產(chǎn)生微裂紋時(shí)，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會(huì)隨著裂紋破裂，填充物內(nèi)部的納米級(jí)填充粒子可以自動(dòng)填補(bǔ)到裂紋所在的位置，進(jìn)而可以保護(hù)顯示基板中的導(dǎo)電層，提高了顯示基板的良率。

具體的，為了使填充物起到更好的保護(hù)作用，可以在填充物的上方再制作一層保護(hù)層薄膜，較佳的，在步驟3023之后，在步驟3024之前，還包括：在填充物上再形成一層保護(hù)層薄膜；即將填充物設(shè)置在保護(hù)層圖案之中。此時(shí)，則需要通過構(gòu)圖工藝對(duì)兩層保護(hù)層薄膜和填充物同時(shí)進(jìn)行刻蝕，進(jìn)而形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。

為了清楚的說明本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法，如圖5所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法的整體步驟流程圖，具體包括如下步驟：

步驟501，在襯底基板上形成導(dǎo)電層圖案；

步驟502，在導(dǎo)電層圖案上形成一層保護(hù)層薄膜；

步驟503，在保護(hù)層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

步驟504，將涂覆有混合溶液的襯底基板進(jìn)行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護(hù)層薄膜上的填充物；

步驟505，在填充物上再形成一層保護(hù)層薄膜；

步驟506，通過構(gòu)圖工藝對(duì)兩層保護(hù)層薄膜和填充物進(jìn)行刻蝕，形成包含有多個(gè)同層設(shè)置的填充物的保護(hù)層圖案。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中提供的顯示基板，在至少一層導(dǎo)電層上方的保護(hù)層中，設(shè)置有多個(gè)同層設(shè)置且包含納米級(jí)填充粒子的填充物，當(dāng)保護(hù)層產(chǎn)生微裂紋時(shí)，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會(huì)隨著裂紋破裂，填充物內(nèi)部的納米級(jí)填充粒子可以自動(dòng)填補(bǔ)到裂紋所在的位置，進(jìn)而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進(jìn)入顯示基板，損傷導(dǎo)電層，提高了顯示基板的良率。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。