本發(fā)明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示面板。

背景技術：

顯示基板的生產工藝中信號線的斷路和短路不良嚴重降低產品良率，所以信號線的修復對提高產品良率至關重要。

修復時，對于斷路的不良，可以采用修復技術在斷開處沉積導電膜層，以形成修復線將斷開處連接起來；對于信號線之間短路的不良，需要利用激光將信號線之間造成短路的導電顆粒去除，同時，信號線在該短路位置也會被激光斷開，需要在斷開處沉積導電膜層，以形成修復線將短路修復時形成的斷開處連接起來。

但是，在修復之后，后段的清洗、涂覆等工序可能會影響該修復線，甚至使其脫落，導致修復失敗。因此，以上現有技術對信號線的修復效果不佳，影響了產品品質。

技術實現要素：

本發(fā)明實施例的目的是提供一種顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示面板，用于解決現有技術中對信號線的修復效果不佳的問題。

本發(fā)明實施例的目的是通過以下技術方案實現的：

一種顯示基板的修復方法，該方法包括：

在檢測到顯示基板的信號線發(fā)生斷路或者短路之后，在信號線發(fā)生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線；

至少在所述修復線所在區(qū)域形成保護層。

較佳地，在信號線發(fā)生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線，包括：

將所述斷開處上方的膜層去除，形成凹槽；

在所述凹槽內形成所述修復線；

所述至少在所述修復線所在區(qū)域形成保護層，包括：

在形成有所述修復線的所述凹槽內填充所述保護層，至所述凹槽被填平。

較佳地，所述保護層具有遮光性能。

較佳地，所述至少在所述修復線所在區(qū)域形成保護層，包括：

在所述修復線所在的像素單元中，僅在包含所述修復線的部分像素單元區(qū)域形成所述保護層或者在整個像素單元區(qū)域形成所述保護層。

較佳地，所述保護層具有絕緣性能。

較佳地，所述保護層的材料為有機材料。

較佳地，所述形成修復線，包括：

采用激光化學氣相沉積修復技術或噴墨印刷技術形成修復線。

較佳地，所述至少在所述修復線所在區(qū)域形成保護層，包括：

采用噴墨印刷技術至少在所述修復線所在區(qū)域涂覆保護層材料；

對涂覆的保護層材料進行固化處理，以形成所述保護層。

一種顯示基板，包括多條信號線；其中，存在經過斷路或者短路修復的信號線，在該信號線的斷開處設置有修復線，至少在所述修復線所在區(qū)域設置有保護層。

較佳地，所述信號線為源極信號線；所述顯示基板還包括在所述信號線上層疊的有機膜層、導電層、絕緣層；

在所述信號線的斷開處設置有貫穿所述有機膜層、導電層、絕緣層的凹槽；

所述修復線設置于所述凹槽內；所述凹槽被具有遮光性能的所述保護層填平；

該保護層還覆蓋所述凹槽以及所述凹槽所在區(qū)域的周邊區(qū)域。

較佳地，所述信號線為源極信號線；所述顯示基板還包括在所述信號線上層疊的絕緣層、有機膜層；

在所述信號線的斷開處設置有貫穿所述絕緣層、有機膜層的凹槽；

所述修復線設置于所述凹槽內；所述凹槽內具有遮光絕緣性能的所述保護層填平；

所述顯示基板還包括在所述保護層和有機膜層上層疊的發(fā)光層、陰極層。

一種顯示面板，包括如以上任一項所述的顯示基板。

一種顯示基板修復系統，包括：

激光化學氣相沉積修復設備，用于在檢測到顯示基板的信號線發(fā)生斷路或者短路之后，在信號線發(fā)生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線；

噴墨印刷設備，用于至少在所述修復線所在區(qū)域形成保護層。

本發(fā)明實施例的有益效果如下：

本發(fā)明實施例提供的顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示基板中，在對信號線的斷開處形成修復線之后，還要進一步形成保護層將該修復線保護起來，消除了后段的清洗、涂覆等工藝對該修復線的影響，避免其脫落導致修復失敗，從而提高了修復效果和產品品質。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的修復方法流程圖；

圖2為現有的一種有機膜層結構的顯示基板的修復結構示意圖；

圖3為現有的一種oled顯示基板的修復結構示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種有機膜層結構的顯示基板的修復結構示意圖之一；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種有機膜層結構的顯示基板的修復結構示意圖之二；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種oled結構的顯示基板的修復結構示意圖之一；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種oled結構的顯示基板的修復結構示意圖之二。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發(fā)明提供的一種顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示面板中進行更詳細地說明。

參見圖1，本發(fā)明實施例提供一種顯示基板的修復方法，其實現方式如下：

步驟110、在檢測到顯示基板的信號線發(fā)生斷路或者短路之后，在信號線發(fā)生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線；

步驟120、至少在修復線所在區(qū)域形成保護層。

本發(fā)明實施例中，在對信號線的斷開處形成修復線之后，還要進一步形成保護層將該修復線保護起來，消除了后段的清洗、涂覆等工藝對該修復線的影響，避免其脫落導致修復失敗，從而提高了修復效果和產品品質。

本發(fā)明實施例中，顯示基板可以但不限于是薄膜晶體管(thinfilmtransistor，tft)陣列基板。

具體實施時，可選的，上述步驟110中，形成修復線，具體實現方式可以是：采用激光化學氣相沉積修復技術或者噴墨印刷技術形成修復線。本實施例中列舉了一種可選的技術形成修復線，也可以采用其它的技術，此處不再一一列舉。

具體實施時，修復線的材料有多種，例如，可以采用鎢粉材料，導電銀膠等等。如果采用鎢粉材料，可以采用激光化學氣相沉積修復技術，如果采用導電銀膠，可以采用噴墨印刷技術。

具體實施時，較佳地，上述步驟120中，至少在修復線所在區(qū)域形成保護層，具體實現方式可以是：采用噴墨印刷技術至少在修復線所在區(qū)域涂覆保護層材料；對涂覆的保護層材料進行固化處理，以形成保護層。其中，固化處理的方式可以是紫外光固化處理，或者熱固化處理。本實施例中列舉了一種可選的技術形成保護層，也可以采用其他的技術，此處不再一一列舉。

本發(fā)明實施例的修復過程，可以是在信號線上方未形成其它膜層結構的時候進行的，可以是在信號線上方已形成一定的膜層結構的時候進行的。并且，修復之后，還可以繼續(xù)進行后續(xù)膜層結構的制備。

采用現有的修復技術在修復過程中，除了以上的修復線脫落的問題，由修復技術本身還會帶來新的問題，以下列舉幾種可能的問題：

問題一、如果信號線上有其它膜層的結構，如有機膜層結構，以圖2所示的顯示基板為例，該顯示基板包括襯底基板21，位于襯底基板21上的柵極22，覆蓋柵極22的柵絕緣層23，位于該柵絕緣層23上的有源層24，在有源層24上相對設置的第一歐姆接觸層25和第二歐姆接觸層26，位于第一歐姆接觸層25和柵絕緣層23上的源極信號線27，位于第二歐姆接觸層26和柵絕緣層23上的漏極信號線28，覆蓋有源層24、源極信號線27和漏極信號線28的有機膜層29，位于有機膜層29上的第一電極層210，位于第一電極層210上的絕緣層211，位于絕緣層211上的第二電極層212；如果源極信號線27斷路，需要將斷開處上方的有機膜層29、第一電極層210、絕緣層211移除，挖出一個凹槽213，再在斷開處形成修復線214，修復之后，由于有機膜層29較厚，該凹槽處相對其它的區(qū)域缺少了較多的膜層，造成透光率相對較大，會導致亮點不良。

問題二、對液晶產品進行修復后，修復線可能會影響液晶排列導致形成亮點不良，在r/g/b任何畫面下均可見。

問題三、修復線與其它的導電層有交疊區(qū)域，額外產生電容效應，導致亮點不良。

問題四、因源極信號線斷開，修復之后，從線不良變成了亮點不良。

問題五、如果采用激光化學氣相沉積修復技術沉積材料形成修復線，沉積過程中材料擴散到薄膜晶體管的溝道中，導致短路，也會造成亮點不良。

問題六、暗點化失敗，仍是存在亮點不良。

問題七、信號線通過保護層直接與其它的導電膜層電連接，以一種oled產品為例，參見圖3所示的oled顯示基板，該顯示基板包括襯底基板31，位于襯底基板31上的柵極32，覆蓋柵極32的柵絕緣層33，位于該柵絕緣層33上的有源層34，在有源層34上相對設置的第一歐姆接觸層35和第二歐姆接觸層36，位于第一歐姆接觸層35和柵絕緣層33上的源極信號線37，位于第二歐姆接觸層36和柵絕緣層33上的漏極信號線38，覆蓋有源層34、源極信號線37和漏極信號線38的絕緣層39，位于絕緣層39上的有機膜層310，位于有機膜層310上的陽極層311。如果源極信號線37斷路，需要將斷開處上方的絕緣層39、有機膜層310、陽極層311移除，挖出一個凹槽312，再在斷開處形成修復線313，修復之后，在凹槽312處，修復線313代替原來的陽極層311，后續(xù)在形成發(fā)光層314、陰極層315之后，發(fā)光層314直接與修復線313和陰極層315電連接，發(fā)光層導通，不再受薄膜晶體管的控制，成為常亮點；且由于有機膜層310較厚，該凹槽312處段差過大，甚至還會導致發(fā)光層314容易斷裂，陰極層和陽極層直接短路，導致形成暗線。

針對以上由修復技術帶來的問題，發(fā)明人進一步提出了解決方案，下面進行具體說明。

基于以上相關實施例，上述步驟110的具體實現方式可以是：將斷開處上方的膜層去除，形成凹槽；在凹槽內形成修復線。相應的，上述步驟120中，至少在修復線上形成保護層，具體實現方式可以是：在形成有修復線的凹槽內填充保護層，至凹槽被填平。本實施例中，利用保護層將形成的凹槽填平，一方面，針對問題一，凹槽內填充的保護層代替了被移除的膜層，降低了透過率，使之暗點化，從而解決了上述的問題一中凹槽帶來的亮點不良問題；另一方面，針對問題八，由于凹槽被保護層填平，消除了段差，使得后續(xù)膜層在該處保持平坦，不會斷裂，從而解決了問題八中凹槽段差大帶來的暗線的問題。

基于以上相關實施例，較佳地，保護層具有遮光性能。這樣，還可以進一步利用保護層將亮點不良的區(qū)域遮擋。較佳地，上述步驟120中，至少在修復線上形成保護層，具體實現方式可以是：在修復線所在的像素單元中，僅在包含修復線的部分像素單元區(qū)域形成保護層或者在整個像素單元區(qū)域形成保護層。實施中，根據引起像素區(qū)域的亮點不良的原因，選擇是部分遮擋還是全部遮擋，例如，針對以上問題一、二、三、七帶來的亮點不良，在部分像素單元區(qū)域遮擋。針對以上問題四、五、六帶來的亮點不良，對整個像素單元區(qū)域全部遮擋。

基于以上相關實施例，較佳地，保護層具有絕緣性能。較佳地，保護層的材料可以但不限于為有機材料。較佳地，有機材料為聚亞酰胺或者酚醛樹脂，還可以為丙烯酸酯、不飽和聚酯、環(huán)氧丙烯酸樹脂、聚氨酯丙烯酸酯、雙酚a環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯硅氧烷、含異氰酸基的聚氨酯丙烯酸酯或者聚乙二醇聚氨酯丙烯酸，等等。本實施例中，保護層絕緣可以避免信號線通過保護層直接與其它的導電膜層電連接，從而有效避免了以上問題八oled中，發(fā)光層不受薄膜晶體管控制的問題。

基于同樣的發(fā)明構思，本發(fā)明實施例還提供一種顯示基板，包括多條信號線；其中，存在經過斷路或者短路修復的信號線，在該信號線的斷開處設置有修復線，至少在修復線所在區(qū)域設置有保護層。

具體實施時，信號線為源極信號線，本實施例提供的一種顯示基板還包括：在信號線上層疊的有機膜層、導電層、絕緣層；

在信號線的斷開處設置有貫穿有機膜層、導電層、絕緣層的凹槽；

修復線設置于凹槽內；凹槽被具有遮光性能的保護層填平；

該保護層還覆蓋凹槽以及凹槽所在區(qū)域的周邊區(qū)域。

本實施例的顯示基板為有機膜層結構的顯示基板，對發(fā)生斷路或者短路的源極信號線修復后，由于凹槽被遮光性能的保護層填平，并且凹槽及其周邊都被遮光的保護層遮擋，可以有效的防止亮點的出現。

具體實施時，信號線為源極信號線，本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板還

包括在信號線上層疊的絕緣層、有機膜層；

在信號線的斷開處設置有貫穿絕緣層、有機膜層的凹槽；

修復線設置于凹槽內；凹槽內具有遮光絕緣性能的保護層填平；

顯示基板還包括在保護層和有機膜層上層疊的發(fā)光層、陰極層。

本實施例的顯示基板為oled結構的顯示基板，對發(fā)生斷路或者短路的源極信號線修復后，由于凹槽被絕緣保護層填平，消除了段差，發(fā)光層不易斷裂，且保護層絕緣，發(fā)光層不會直接被導通，可以有效的防止亮點的出現。

下面以具體的顯示基板結構為例，對本發(fā)明實施例提供的顯示基板的修復方法及顯示基板進行更加詳細地說明。

以圖2所示的有機膜層顯示基板結構為例，本實施例提供的修復過程如下：

步驟一、對絕緣層211切出有機膜層加工輪廓，防止有機膜層崩裂，按照該加工輪廓，移除絕緣層211、第一導電電極層210和有機膜層29，在源極信號線27的斷開處形成凹槽213；在源極信號線27的斷開處采用激光化學氣相沉積修復技術沉積鎢粉，形成修復線214；移除凹槽側壁上與鎢粉接觸的ito(即第一導電電極210和第二導電電極212)，防止短路發(fā)生。

步驟二、如圖4所示，采用噴墨印刷技術在凹槽中填充遮光的保護層材料，直至該凹槽被填平，進一步的，將凹槽上方及周邊區(qū)域覆蓋該保護層材料；對該保護層材料進行紫外固化，形成保護層215。

以圖3所示的oled顯示基板為例，本發(fā)明實施例提供的修復過程如下：

步驟一、移除斷開的源極信號線37上方的陽極層311、有機膜層310、絕緣層39，形成凹槽312，采用激光化學氣相沉積修復技術在源極信號線37的斷開處沉積鎢粉，形成修復線313，移除凹槽內與鎢粉接觸的ito，避免發(fā)生短路，如圖5所示。

步驟二、采用噴墨印刷技術在凹槽312中填充遮光絕緣的保護層材料，直至該凹槽312被填平；對該保護層材料進行紫外固化，以形成保護層316，如圖6所示。

修復后的顯示基板，由于凹槽312被絕緣遮光的保護層316填平，如圖7所示，后續(xù)在蒸鍍發(fā)光層314和形成陰極層315后，發(fā)光層314就不會在凹槽處斷開，陰極層315和源極信號線就不會短路，防止形成暗線。

基于同樣的發(fā)明構思，本發(fā)明實施例還提供一種顯示基板修復系統，包括：

激光化學氣相沉積修復設備，用于在檢測到顯示基板的信號線發(fā)生斷路或者短路之后，在信號線發(fā)生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線；

噴墨印刷設備，用于至少在修復線所在區(qū)域形成保護層。

本發(fā)明實施例提供的顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示基板中，在對信號線的斷開處形成修復線之后，還要進一步形成保護層將該修復線保護起來，消除了后段的清洗、涂覆等工藝對該修復線的影響，避免其脫落導致修復失敗，從而提高了修復效果和產品品質。

顯然，本領域的技術人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內。