本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種銳角金屬圖形制作方法。

背景技術(shù)：

金屬lift-off工藝由于剝離精度高、形貌好、控制容易，已廣泛地應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)。整個(gè)lift-off工藝為：（1）在襯底上涂覆一層光刻膠，把掩膜版圖案在襯底表面上準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)，通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上，并通過(guò)顯影把掩膜版圖案復(fù)刻到光刻膠上，得到圖形化襯底，如圖1（a）所示；（2）采用金屬蒸發(fā)、濺射或化學(xué)氣相淀積薄膜工藝，在圖形化襯底上沉積一層金屬1，如圖1（b）所示；（3）去除光刻膠，得到金屬圖形，如圖1（c）所示。

在整個(gè)半導(dǎo)體工藝中，為了節(jié)約成本，提高效率，在去除光刻膠時(shí)，一般采用物理撕除（tape- peeling）結(jié)合濕法的方式快速去除光刻膠。在金屬圖形存在銳角時(shí)，濕法藥水不易進(jìn)入銳角區(qū)域，加之物理撕除的引入，極易造成金屬圖形的銳角缺損，如圖4（a）所示。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種銳角金屬圖形制作方法，該夾具可以很好地解決傳統(tǒng)lift-off工藝極易造成金屬圖形缺損，無(wú)法得到具有完成銳角的金屬圖形的問(wèn)題。

為達(dá)到上述要求，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是：提供一種銳角金屬圖形制作方法，包括采用lift-off工藝形成銳角缺損的金屬圖形的步驟，還包括以下步驟：

S1、在銳角缺損的金屬圖形上采用PECVD反應(yīng)生長(zhǎng)硅化物層；

S2、在所述硅化物層上涂覆光刻膠，采用光刻顯影定義出硅化物層的打開(kāi)位置；

S3、根據(jù)所述打開(kāi)位置，采用刻蝕方式打開(kāi)硅化物層，定義出銳角位置，銳角位置的兩個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形部分重疊；

S4、在所述銳角位置再次沉積金屬；

S5、去除光刻膠，得到具有完整銳角的金屬圖形。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)：

在傳統(tǒng)lift-off工藝的基礎(chǔ)上，進(jìn)行二次金屬沉積，由于第二次銳角位置的兩個(gè)自由端僅與銳角缺損的金屬圖形部分重疊，區(qū)域較小，有利于濕法藥水進(jìn)入銳角處，便于光刻膠去除，更易于完成具有完整銳角的金屬圖形。

附圖說(shuō)明

此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，在這些附圖中使用相同的參考標(biāo)號(hào)來(lái)表示相同或相似的部分，本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本申請(qǐng)，并不構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為lift-off工藝過(guò)程中形成的器件結(jié)構(gòu)的剖視圖；

圖2為本發(fā)明方法的流程圖；

圖3為本發(fā)明工藝過(guò)程中形成的器件結(jié)構(gòu)的剖視圖；

圖4（a）為lift-off工藝形成的具有缺損銳角的金屬圖形的俯視圖；圖4（b）為硅化物層打開(kāi)位置的俯視圖；圖4（c）為具有完整銳角的金屬圖形的俯視圖。

具體實(shí)施方式

為使本申請(qǐng)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例，對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步地詳細(xì)說(shuō)明。為簡(jiǎn)單起見(jiàn)，以下描述中省略了本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的某些技術(shù)特征。

如圖2所示，本實(shí)施例提供一種銳角金屬圖形制作方法，包括采用lift-off工藝形成銳角缺損的金屬圖形的步驟，銳角缺損的金屬圖形如圖4（a）所示；還包括以下步驟：

S1、在銳角缺損的金屬圖形上采用PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法）反應(yīng)生長(zhǎng)硅化物層2，作為銳角定義層，如圖3（a）所示；硅化物層2為SiO₂或SiN；

S2、在硅化物層2上涂覆光刻膠PR，采用光刻顯影在光刻膠PR上定義出硅化物層2的打開(kāi)位置，打開(kāi)位置即圖3（b）中光刻膠PR的缺口；

S3、根據(jù)打開(kāi)位置，采用刻蝕方式打開(kāi)硅化物層2，定義出銳角位置，銳角位置即圖3（c）中硅化物層2的缺口，也為圖4（b）中的虛線位置；銳角位置的一個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形的一條邊部分重疊，銳角位置的另一個(gè)自由端與銳角缺損的金屬圖形的另一條邊部分重疊，如圖3（c）和圖4（b）所示，單邊重疊的長(zhǎng)度m不小于0.5 μm；

S4、在銳角位置再次沉積金屬3，且再次沉積的金屬3單邊長(zhǎng)度n不超過(guò)10 μm，如圖3（d）和圖4（c）所示；由于步驟S3中的部分重疊，能保證再次沉積的金屬3與原缺損銳角金屬1完全連接；

S5、去除光刻膠，得到具有完整銳角的金屬圖形，如圖3（e）所示。

當(dāng)然，通過(guò)任意其他工藝制成的銳角缺損的金屬圖形，采用該方法制得具有完整銳角金屬圖形的情況，也落入本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。

以上實(shí)施例僅表示本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能理解為對(duì)本發(fā)明范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明保護(hù)范圍。因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求為準(zhǔn)。