本發(fā)明的實施方式涉及檢查裝置、減壓干燥裝置和減壓干燥裝置的控制方法。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有技術(shù)中，公知的是利用了有機el(electroluminescence：電致發(fā)光)發(fā)光的發(fā)光二極管即有機發(fā)光二極管(oled：organiclightemittingdiode)。使用了有機發(fā)光二極管的有機el顯示器不僅薄型輕量且低耗電，而且具有在響應速度和視角以及對比度方面優(yōu)異這樣的優(yōu)點。因此，近年來作為下一代的平板顯示器(fpd)受到關(guān)注。

有機發(fā)光二極管具有在基板上的陽極與陰極之間夾著有機el層的構(gòu)造。有機el層例如從陽極側(cè)起依次層疊空穴注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層、電子注入層而形成。在這樣的層疊結(jié)構(gòu)中，例如空穴注入層、空穴輸送層和發(fā)光層分別通過在基板上以噴涂方式涂敷有機材料，并在減壓環(huán)境下使涂敷有有機材料的基板干燥來形成(例如參照專利文獻1)。

但是，上述的直至干燥完成的干燥時間例如根據(jù)被涂敷在基板的有機材料的種類和量、基板的表面狀態(tài)等各種因素而發(fā)生變化。因此，例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管的情況下，需要事先設(shè)定最佳的干燥時間的工作。

在現(xiàn)有技術(shù)中，例如，將進行干燥處理的時間一點一點改變的同時制作大量的樣品，測量所制作的樣品的各層的膜厚和光學特性。然后，在得到了良好的測定結(jié)果的樣品的情況下，斷定為可靠地完成了干燥，將對這樣的樣品所進行的干燥處理的時間設(shè)定為最佳的干燥時間。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2000-181079號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明想要解決的技術(shù)問題

但是，在現(xiàn)有技術(shù)中，因為通過在樣品做成后測量膜厚和光學特性，檢測基板的干燥狀態(tài)，所以需要較多的時間。因此，在現(xiàn)有技術(shù)中，對于在早期檢測基板的干燥狀態(tài)方面還有改善的余地。

實施方式的一個方式的目的在于，提供一種能夠在早期檢測在基板涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)的檢查裝置、減壓干燥裝置和減壓干燥裝置的控制方法。

用于解決技術(shù)問題的技術(shù)方案

實施方式的一個方式的檢查裝置具有拍攝部和干燥狀態(tài)檢測部。拍攝部拍攝在基板中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域。干燥狀態(tài)檢測部基于由上述拍攝部拍攝的上述涂敷區(qū)域的色濃度來檢測上述涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)。

發(fā)明效果

根據(jù)實施方式的一個方式，能夠在早期檢測出基板中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)。

附圖說明

圖1是表示有機發(fā)光二極管的構(gòu)成的概況的示意截面圖。

圖2是表示有機發(fā)光二極管的堤的構(gòu)成的概括的示意平面圖。

圖3是表示有機發(fā)光二極管的制造方法的主要的步驟的流程圖。

圖4是表示本實施方式的基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成的概括的示意平面圖。

圖5a是表示涂敷有用于形成空穴注入層的有機材料的基板的示意截面圖。

圖5b是表示在減壓干燥裝置中被減壓干燥后的基板的示意截面圖。

圖6a是表示涂敷有用于形成空穴輸送層的有機材料的基板的示意截面圖。

圖6b是表示在減壓干燥裝置中被減壓干燥后的基板的示意截面圖。

圖7a是表示涂敷有用于形成發(fā)光層的有機材料的基板的示意截面圖。

圖7b是表示在減壓干燥裝置中被減壓干燥后的基板的示意截面圖。

圖8是表示本實施方式的減壓干燥裝置的構(gòu)成的示意平面圖。

圖9是表示圖8的ix－ix線示意截面圖。

圖10是表示控制裝置的框圖。

圖11是放大表示拍攝部所拍攝的拍攝圖像的一部分的示意放大圖。

圖12是表示減壓干燥處理中由色濃度測量部所測量的色濃度的圖表。

圖13是表示具備本實施方式的檢查裝置的減壓干燥裝置中，設(shè)定干燥時間的處理的處理流程的流程圖。

圖14是表示周邊部的涂敷區(qū)域和中央部的涂敷區(qū)域的g色濃度的圖表。

圖15是表示第二實施方式的拍攝單元的拍攝部附近的示意放大截面圖。

附圖標記說明

11、311拍攝部

12、312照明部

21涂敷區(qū)域

100基板處理系統(tǒng)

121c、122c、123c減壓干燥裝置

140控制裝置

141控制部

141a照明控制部

141b拍攝控制部

141c圖像取得部

141d色濃度測量部

141e判斷部

141f干燥狀態(tài)檢測部

141g減壓控制部

141h升降控制部

160基板保持機構(gòu)

161保持部

163升降部

170減壓機構(gòu)

200檢查裝置

400偏振濾光片

g基板。

具體實施方式

以下，基于附圖詳細說明本發(fā)明所公開的檢查裝置、減壓干燥裝置和減壓干燥裝置的控制方法的實施方式。此外，本發(fā)明并不限定于以下所示的實施方式。

(第一實施方式)

<1.有機發(fā)光二極管的構(gòu)成和制造方法>

首先，利用圖1～圖3對有機發(fā)光二極管的構(gòu)成的概況及其制造方法進行說明。圖1是表示有機發(fā)光二極管500的構(gòu)成的概況的示意性截面圖。圖2是表示有機發(fā)光二極管500的堤(bank)540的構(gòu)成的概略的示意性平面圖。圖3是表示有機發(fā)光二極管500的制造方法的主要步驟的流程圖。

如圖1所示，有機發(fā)光二極管500在作為基板的玻璃基板g(以下記作“基板g”)上具有在陽極510和陰極520之間夾著有機el層530的構(gòu)造。

有機el層530通過從陽極510側(cè)依次層疊空穴注入層531、空穴輸送層532、發(fā)光層533、電子輸送層534和電子注入層535而形成。

具體而言，首先，在陽極形成處理(圖3的步驟s101)中，在基板g上形成陽極510。陽極510例如使用蒸鍍法形成。此外，在陽極510例如使用由ito(indiumtinoxide：氧化銦錫)構(gòu)成的透明電極。

接著，在堤形成處理(圖3的步驟s102)中，在陽極510上形成堤540。堤540例如通過光刻處理或者蝕刻處理等圖案化為規(guī)定的圖案。

如圖2所示，堤540在行方向和列方向上形成有多個。并且，在堤540的內(nèi)部，如后文所述，層疊有機el層530和陰極520而形成像素。在堤540中，例如使用感光性聚酰亞胺樹脂。

接著，在堤540的陽極510上形成有機el層530。具體而言，在空穴注入層形成處理(圖3的步驟s103)中，在陽極510上形成空穴注入層531。然后，在空穴輸送層形成處理(圖3的步驟s104)中，在空穴注入層531上形成空穴輸送層532。

然后，在發(fā)光層形成處理(圖3的步驟s105)中，在空穴輸送層532上形成發(fā)光層533。此外，在發(fā)光層533中包含r色發(fā)光層(紅色發(fā)光層)、g色發(fā)光層(綠色發(fā)光層)和b色發(fā)光層(藍色發(fā)光層)。

接著，在電子輸送層形成處理(圖3的步驟s106)中，在發(fā)光層533上形成電子輸送層534，在電子注入層形成處理(圖3的步驟s107)中，在電子輸送層534上形成電子注入層535。

在本實施方式中，在后述的基板處理系統(tǒng)100中分別形成空穴注入層531、空穴輸送層532和發(fā)光層533。在基板處理系統(tǒng)100中，依次進行基于噴涂方式的有機材料的涂敷處理、有機材料的減壓干燥處理、有機材料的燒制處理，形成這些空穴注入層531、空穴輸送層532和發(fā)光層533。此外，關(guān)于空穴注入層531、空穴輸送層532和發(fā)光層533的形成使用圖4～圖7b等進行敘述。

另外，電子輸送層534和電子注入層535分別例如使用蒸鍍法形成。

并且，在陰極形成處理(圖3的步驟s108)中，在電子注入層535上形成陰極520。陰極520例如使用蒸鍍法形成。此外，在陰極520中例如能夠使用鋁。

并且，為了將經(jīng)由步驟s101～s108所形成的層疊構(gòu)造與大氣中的水分等阻隔，對其進行密封處理(圖3的步驟s109)。

在經(jīng)由這樣的成膜步驟～密封步驟所制造的有機發(fā)光二極管500中，通過對陽極510與陰極520之間施加電壓，在空穴注入層531所注入的規(guī)定數(shù)量的空穴經(jīng)由空穴輸送層532被輸送到發(fā)光層533。

另外，在電子注入層535所注入的規(guī)定數(shù)量的電子經(jīng)由電子輸送層534被輸送到發(fā)光層533。并且，在發(fā)光層533內(nèi)空穴和電子再結(jié)合形成激勵狀態(tài)的分子，發(fā)光層533發(fā)光。

<2.基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成>

接著，參照圖4說明具備本實施方式的檢查裝置和減壓干燥裝置的基板處理系統(tǒng)100的構(gòu)成。圖4是表示本實施方式的基板處理系統(tǒng)100的構(gòu)成的概略的示意性平面圖。此外，圖4中為了易于理解地表示檢查裝置200，以規(guī)定的圖案涂抹檢查裝置200來示意性表示。

此外，在下文中，為了使位置關(guān)系明確，規(guī)定相互正交的x軸方向、y軸方向和z軸方向，將z軸正方向設(shè)定為向鉛直方向上方。

如圖4所示，向基板處理系統(tǒng)100搬入基板g，該基板g為預先經(jīng)由陽極形成處理和堤形成處理(參照圖3的步驟s101和s102)形成了陽極510和堤540的基板g。然后，在基板處理系統(tǒng)100中，進行與圖3的步驟s103～s105相應的各處理，在基板g上形成空穴注入層531、空穴輸送層532和發(fā)光層533之后，向電子輸送層形成處理(參照圖3的步驟s106)搬出。

如圖4所示，基板處理系統(tǒng)100具有搬入站110、處理站120和搬出站130連接為一體的構(gòu)成。搬入站110從外部將多個基板g以晶盒c單位搬入，并從晶盒c取出處理前的基板g。

處理站120包括：對基板g進行空穴注入層形成處理的空穴注入層形成模塊121；和對空穴注入層形成處理后的基板g進行空穴輸入層形成處理的空穴輸入層形成模塊122。此外，處理站120具有對空穴輸入層形成處理后的基板g進行發(fā)光層形成處理的發(fā)光層形成模塊123。

搬出站130將處理后的基板g收納在晶盒c內(nèi)，并將多個基板g以晶盒c單位向外部搬出。

搬入站110、空穴注入層形成模塊121、空穴輸送層形成模塊122、發(fā)光層形成模塊123和搬出站130在從x軸負方向向x軸正方向按照該順序被排列配置。

搬入站110包括晶盒載置臺111、搬送通路112和基板搬送體113。晶盒載置臺111將多個晶盒c在y軸方向上自由載置成一列。

搬送通路112設(shè)置為在y軸方向上延伸?；灏崴腕w113設(shè)置為能夠在上述搬送通路112上移動并且能夠在z軸方向和能夠繞z軸移動，在晶盒c與處理站120之間搬送基板g。此外，基板搬送體113例如在吸附保持基板g的同時將其搬送。

在處理站120中，空穴注入層形成模塊121包括涂敷裝置121a、緩沖裝置121b、減壓干燥裝置121c、熱處理裝置121d和溫度調(diào)節(jié)裝置121e。

涂敷裝置121a是對形成于基板g的陽極510上涂敷用于形成空穴注入層531的有機材料的裝置。圖5a是表示涂敷有用于形成空穴注入層531的有機材料的基板g的示意截面圖。

如圖5a所示，由涂敷裝置121a以噴涂方式在基板g上的規(guī)定的位置即堤540的內(nèi)部涂敷有機材料。該有機材料是將用于形成空穴注入層531的規(guī)定的材料溶解在有機溶劑中的溶液。

圖4所示的緩沖裝置121b是暫時收納的多個基板g的裝置。減壓干燥裝置121c是將由涂敷裝置121a所涂敷的有機材料減壓干燥的裝置。

圖5b是表示在減壓干燥裝置121c中被減壓干燥后的基板g的示意截面圖。從圖5a與圖5b的對比可知，在堤540的內(nèi)部所涂敷的有機材料通過減壓干燥被除去溶劑，由此成為在陽極510上層疊了膜厚均勻或者大致均勻的空穴注入層531的狀態(tài)。

圖4所示的熱處理裝置121d是將由減壓干燥裝置121c干燥后的有機材料作為熱處理進行燒制的裝置。例如，熱處理裝置121d具有能夠收納基板g的腔室和配置在腔室內(nèi)的熱板(省略圖示)，利用來自熱板的熱進行有機材料的燒制。

溫度調(diào)節(jié)裝置121e是將由熱處理裝置121d熱處理后的基板g調(diào)節(jié)為規(guī)定的溫度、例如常溫的裝置。此外，空穴注入層形成模塊121中的涂敷裝置121a、緩沖裝置121b、減壓干燥裝置121c、熱處理裝置121d和溫度調(diào)節(jié)裝置121e的配置和個數(shù)能夠任意地選擇。

另外，空穴注入層形成模塊121具有基板搬送區(qū)域cr1～cr3和交接裝置tr1～tr3?；灏崴蛥^(qū)域cr1～cr3例如是搬送機械臂，將基板g分別搬送到相鄰設(shè)置的各裝置。

具體而言，基板搬送區(qū)域cr1將基板g搬送到與基板搬送區(qū)域cr1相鄰的涂敷裝置121a和緩沖裝置121b。另外，基板搬送區(qū)域cr2將基板g搬送到與基板搬送區(qū)域cr2相鄰的減壓干燥裝置121c。

另外，基板搬送區(qū)域cr3將基板g搬送到與該基板搬送區(qū)域cr3相鄰的熱處理裝置121d和溫度調(diào)節(jié)裝置121e。此外，將基板g分別搬送到基板搬送區(qū)域cr1～cr3的基板搬送裝置設(shè)置為在水平方向、鉛直方向和繞鉛直軸自由移動。

交接裝置tr1～tr3分別依次地設(shè)置在搬入站110與基板搬送區(qū)域cr1之間、基板搬送區(qū)域cr1與cr2之間、基板搬送區(qū)域cr2與cr3之間，在它們之間進行基板g的交接。

空穴輸送層形成模塊122包括涂敷裝置122a、緩沖裝置122b、減壓干燥裝置122c、熱處理裝置122d和溫度調(diào)節(jié)裝置122e。涂敷裝置122a在形成于基板g的空穴注入層531上涂敷用于形成空穴輸送層532的有機材料。圖6a是表示涂敷有用于形成空穴輸送層532的有機材料的基板g的示意截面圖。

如圖6a所示，通過該涂敷裝置122a以噴涂方式在基板g上的規(guī)定的位置、即堤540的內(nèi)部涂敷有機材料。該有機材料是將用于形成空穴輸送層532的規(guī)定的材料溶解于有機溶劑而成的溶液。

關(guān)于圖4所示的緩沖裝置122b和減壓干燥裝置122c，由于與緩沖裝置121b和減壓干燥裝置121c是大致同樣的結(jié)構(gòu)，所以省略詳細的說明。

圖6b是表示在減壓干燥裝置122c中被減壓干燥后的基板g的示意截面圖。從圖6a和圖6b的對比可知，在堤540的內(nèi)部所涂敷的有機材料通過減壓干燥被除去溶劑，由此成為在空穴注入層531上層疊了膜厚均勻或者大致均勻的空穴輸送層532的狀態(tài)。

另外，由于熱處理裝置122d和溫度調(diào)節(jié)裝置122e也是與熱處理裝置121d和溫度調(diào)節(jié)裝置121e大致相同的構(gòu)成，所以省略詳細的說明。但是，在空穴輸送層形成模塊122中，熱處理裝置122d和溫度調(diào)節(jié)裝置122e內(nèi)部維持為低氧且低露點氣氛。

這里，所謂低氧氣氛是指與大氣相比氧濃度低的氣氛，例如是氧濃度為10ppm以下的氣氛。另外，所謂低露點氣氛是指與大氣相比露點溫度低的氣氛，例如是露點溫度為-10℃以下的氣氛。此外，這樣的低氧且低露點氣氛使用例如氮氣等的不活潑氣體維持。

在空穴輸送層形成模塊122中，這些涂敷裝置122a、緩沖裝置122b、減壓干燥裝置122c、熱處理裝置122d和溫度調(diào)節(jié)裝置122e的數(shù)量和配置能夠任意地選擇。

另外，空穴輸送層形成模塊122包括基板搬送區(qū)域cr4～cr6和交接裝置tr5以及tr6。此外，在空穴注入層形成模塊121和空穴輸送層形成模塊122之間經(jīng)由交接裝置tr4連接。

這里，由于基板搬送區(qū)域cr4～cr6和交接裝置tr5以及tr6是與上述的基板搬送區(qū)域cr1～cr3和交接裝置tr1～tr3大致相同的構(gòu)成，所以省略詳細的說明。

但是，如上所述，熱處理裝置122d和溫度調(diào)節(jié)裝置122e的內(nèi)部被維持為低氧且低露點氣氛，因此基板搬送區(qū)域cr6的內(nèi)部也維持為低氧且低露點氣氛。

另外，連接上述的基板搬送區(qū)域cr6和基板搬送區(qū)域cr5的交接裝置tr6構(gòu)成為，暫時收納基板g并且能夠切換內(nèi)部氣氛、即設(shè)計成能夠切換低氧且低露點氣氛與大氣氣氛的閉鎖裝置。

發(fā)光層形成模塊123包括涂敷裝置123a、緩沖裝置123b、減壓干燥裝置123c、熱處理裝置123d和溫度調(diào)節(jié)裝置123e。

涂敷裝置123a是在形成于基板g的空穴輸送層532上涂敷用于形成發(fā)光層533的有機材料的裝置。圖7a是表示涂敷有用于形成發(fā)光層533的有機材料的基板g的示意截面圖。

如圖7所示，在涂敷裝置123a中，以噴涂方式在基板g上的規(guī)定的位置、即堤540的內(nèi)部涂敷有機材料。這樣的有機材料是將用于形成發(fā)光層533的規(guī)定的材料溶解在有機溶劑中而成的溶液。此外，在圖7a中，在發(fā)光層533的r色發(fā)光層附加附圖標記533r、在g色發(fā)光層附加附圖標記533g、在b色發(fā)光層附加附圖標記533b。

關(guān)于圖4所示的緩沖裝置123b和減壓干燥裝置123c，由于是與上述的緩沖裝置122b和減壓干燥裝置122c大致相同的構(gòu)成，所以省略詳細說明。

圖7b是表示在減壓干燥裝置123c中被減壓干燥后的基板g的示意截面圖。從圖7a與圖7b的對比可知，涂敷在堤540的內(nèi)部的有機材料通過減壓干燥被除去溶劑，由此成為在空穴輸送層532上層疊了膜厚均勻或者大致均勻的發(fā)光層533的狀態(tài)。

在上述的減壓干燥裝置121c、122c、123c分別設(shè)置用于檢測基板g的干燥狀態(tài)的檢查裝置200。參照圖8、圖9在后文中敘述這些減壓干燥裝置121c、122c、123c和檢查裝置200的詳細構(gòu)成。

接著圖4的說明，關(guān)于緩沖裝置123b和減壓干燥裝置123c，由于也與緩沖裝置122b和減壓干燥裝置122c是大致同樣的構(gòu)成，所以省略詳細的說明。

在發(fā)光層形成模塊123中，這些涂敷裝置123a、緩沖裝置123b、減壓干燥裝置123c、熱處理裝置123b和溫度調(diào)節(jié)裝置123e的數(shù)量和配置能夠任意地選擇。

發(fā)光層形成模塊123包括基板搬送區(qū)域cr7～cr9和交接裝置tr8～tr10。此外，空穴輸送層形成模塊122和發(fā)光層形成模塊123之間經(jīng)由交接裝置tr7連接。

這里，基板搬送區(qū)域cr7～cr9和交接裝置tr7～tr9，由于與上述的基板搬送區(qū)域cr4～cr6和交接裝置tr4～tr6是大致相同的構(gòu)成，因此省略詳細的說明。

交接裝置tr10設(shè)置在基板搬送區(qū)域cr9和搬出站130之間，在它們之間交接基板g。此外，交接裝置tr10優(yōu)選構(gòu)成為，暫時收納基板g并且能夠切換內(nèi)部氣氛、即設(shè)計成能夠切換低氧且低露點氣氛與大氣氣氛的閉鎖裝置。

搬出站130包括晶盒載置臺131、搬送通路132和基板搬送體133。晶盒載置臺131將多個晶盒c在y軸方向上自由載置成一列。

搬送通路132設(shè)置為在y軸方向上延伸?；灏崴腕w133設(shè)置為能夠在該搬送通路132上移動并且能夠在z軸方向和繞z軸自由移動，在處理站120與晶盒c之間搬送基板g。此外，基板搬送體133例如在吸附保持基板g的同時進行搬送。此外，搬送站130的內(nèi)部優(yōu)選被維持為低氧且低露點氣氛。

另外，基板處理系統(tǒng)100具有控制裝置140?？刂蒲b置140例如是計算機，包括控制部141和存儲部142。在存儲部142中保存有控制在基板處理系統(tǒng)100中執(zhí)行的各種處理的程序?？刂撇?41例如為cpu(centralprocessingunit：中央處理器)，通過讀取存儲于存儲部142中的程序并執(zhí)行來控制基板處理系統(tǒng)100。

此外，該程序是記錄在通過計算機能夠讀取的存儲介質(zhì)中的程序，也可以是從其存儲介質(zhì)存儲在控制裝置140的存儲部142中的程序。作為通過計算機能夠讀取的存儲介質(zhì)，例如有硬盤(hd)、軟盤(fd)、光盤(cd)、磁盤(mo)和存儲卡等。此外，控制部141也可以是不使用程序而僅由硬盤構(gòu)成。另外，關(guān)于控制裝置140的具體的構(gòu)成，參照圖10在后文敘述。

但是，在上述的減壓干燥裝置121c、122c、123c中，直至干燥完成的干燥時間例如根據(jù)涂敷于基板g的有機材料的種類和量、基板g的表面狀態(tài)、形成的層的種類等的因此發(fā)生變化。因此，例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500的情況下，必須要實現(xiàn)進行設(shè)定最佳的干燥時間的操作。

在現(xiàn)有技術(shù)中，通過制作大量的樣品，測量所制作的樣品的各層的膜厚和光學特性，設(shè)定最佳的干燥時間，因此在設(shè)定操作是需要花費時間。

但是，在本實施方式的減壓干燥裝置121c、122c、123c中，構(gòu)成為具有對在基板g中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)進行檢測的檢查裝置200。并且，這樣的檢查裝置200中，對基板g的涂敷區(qū)域進行拍攝的同時測量所拍攝的涂敷區(qū)域的色濃度，基于所測量的色濃度檢測涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)。

像這樣，加壓干燥裝置121c、122c、123c具有基于涂敷區(qū)域的色濃度檢測干燥狀態(tài)的檢查裝置，由此能夠在早期檢測涂敷區(qū)域的干燥狀態(tài)。另外，由此也能夠?qū)崿F(xiàn)設(shè)定最佳的干燥時間的操作的高效化。

<3.檢查裝置和減壓干燥裝置的構(gòu)成>

以下參照圖8、圖9對本實施方式的具有檢查裝置200的減壓干燥裝置121c、122c、123c的構(gòu)成進行說明。圖8是表示本實施方式的減壓干燥裝置123c的構(gòu)成的示意平面圖，圖9是表示圖8的ix-ix線示意截面圖。

此外，這里以減壓干燥裝置123c為例進行說明，但是由于減壓干燥裝置121c、122c、123c是大致相同的構(gòu)成，所以以下的說明對于減壓干燥裝置121c、122c也是適合的。

如圖8和圖9所示，減壓干燥裝置123c包括腔室150、基板保持機構(gòu)160(參照圖9)、減壓機構(gòu)170(參照圖9)和檢查裝置200。

腔室150是能夠?qū)?nèi)部密閉的大致長方體狀的處理容器。如圖9所示，在腔室150中收納有由基板保持機構(gòu)160保持的基板g等。另外，在腔室150中，設(shè)置有開口部151和窗部152。具體而言，在腔室150的頂部150a，設(shè)置多個開口部151，在這些開口部151分別設(shè)置窗部152。

窗部152是具有能夠從腔室150的外部利用拍攝部11a～11c(后述)拍攝腔室150的內(nèi)部的基板g的程度的透光性的玻璃。此外，窗部152例如由石英玻璃形成，但并不限定于此。另外，開口部151和窗部152的數(shù)量和配置能夠任意地選擇。

基板保持機構(gòu)160包括保持部161、支柱部162和升降部163。保持部161是載置臺。具體而言，保持部161具有多個平板狀的部件，載置并保持基板g。此外，在圖9所示的例中，表示平板狀的部件為5個，但并不限定于此。另外，構(gòu)成保持部161的平板狀的部件也可以是1個。

支柱部162為在鉛直方向上延伸的部件，基端部與升降部163連接，在前端部將保持部161水平地支承。升降部163例如為電動電極等的驅(qū)動源，使支柱部162和保持部161在鉛直方向上升降。由此，保持在保持部161的基板g能夠升降。此外，升降部163與保持部161為相同個數(shù)，分別與多個保持部161連接，但在圖9中，為了圖示的簡化，將升降部163示意性地表示為1個模塊。

另外，基于升降部163的保持部161的升降，如后所述在減壓干燥時進行，但也可以在基板g的搬入搬出時進行。即，例如在基板g被從基板搬送區(qū)域cr8(參照圖4)向減壓干燥裝置123c搬入的情況下，升降部163首先使多個保持部161的一部分(例如保持基板g的中央部的保持部161的位于兩側(cè)的保持部161)下降。

然后，載置了基板g的基板搬送裝置的叉部(未圖示)被插入到下降了的保持部161的上方的空間，之后叉部被降低，基板g被載置在沒有下降的保持部161。接著，拔出叉部，升降部163使下降了的保持部161上升至原來的位置，如圖9所示，成為基板g被保持部161保持的狀態(tài)。

減壓機構(gòu)170與腔室150連接，將腔室150的內(nèi)部氣氛減壓到例如1pa以下。此外，作為減壓機構(gòu)170，例如能夠使用干泵、機械增壓泵、渦輪分子泵等的真空泵。

檢查裝置200包括第一拍攝單元210a、第二拍攝單元210b和第三拍攝單元210c。此外，拍攝單元的數(shù)量并不限定于例示，可以為2臺以下或者4臺以上。

第一～第三拍攝單元210a～210b配置在窗部152的附近且在腔室150的外部。具體而言，第一、第三拍攝單元210a、210c配置在位于基板g的周邊部的上方的窗部152的附近，第二拍攝單元210b配置在位于基板g的中央部的上方的窗部152的附近。

以下，以第一拍攝單元210a為例進行說明，但是第一～第三拍攝單元210a～210c是大致相同的構(gòu)成，因此，以下的說明對于第二、第三拍攝單元210b、210c也是適合的。此外，在圖8、圖9中關(guān)于第二、第三拍攝單元210b、210c的構(gòu)成要素，對于第一拍攝單元210a相同構(gòu)成要素，標注相同的序號但只改變了末尾的字母的附圖標記，省略詳細說明。

第一拍攝單元210a包括拍攝部11a、照明部12a和焦點調(diào)整部13a。拍攝部11a位于窗部152的上方，拍攝基板g，具體而言經(jīng)由窗部152拍攝基板g中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域(后述)。像這樣，通過在腔室150設(shè)置拍攝用的窗部152，雖然是簡單的構(gòu)成，但能夠從腔室150的外側(cè)拍攝腔室150內(nèi)的基板g。

另外，拍攝部11a配置成該拍攝部11a的光軸與基板g的主面垂直。此外，作為拍攝部11a，例如能夠使用具有長焦透鏡的ccd(chargecoupleddevice：電荷耦合器件)圖像傳感器拍攝機，但是并不限定于此。

照明部12a具有未圖示的光源，安裝在拍攝部11a的側(cè)面。照明部12a從該光源對基板g照射拍攝用的光。具體而言，拍攝部11a具有將來自安裝在側(cè)面的照明部12a的光向下方反射的半反射鏡(未圖示)。并且，通過半反射鏡所反射的來自照明部12a的光在與基板g的主面垂直的方向、換言之是在與拍攝部11a的光軸同軸的方向上入射，照射到拍攝對象物的涂敷區(qū)域。像這樣，照明部12a構(gòu)成為所謂的同軸照明，但并不限定于此，例如，也可以相對于基板g的涂敷區(qū)域從傾斜的方向照射光。

焦點調(diào)整部13a包括主體部14a和滑動部15a。主體部14a被固定在腔室150的頂部150a。此外，在主體部14a的內(nèi)部，收納驅(qū)動滑動部15a的驅(qū)動源(未圖示)。作為該驅(qū)動源，例如能夠使用電動機。

滑動部15a以基端部能夠在與基板g的主面垂直的方向(z軸方向)上滑動的方式安裝在主體部14a。另外，拍攝部被固定在滑動部15a的前端部。

在如上所述構(gòu)成的焦點調(diào)整部13a通過未圖示的線纜連接有控制裝置140(參照圖4)。并且，控制裝置140通過控制主體部14a的驅(qū)動源，使滑動部15a和拍攝部11a在與基板g的主面垂直的方向上滑動，由此能夠適當?shù)卣{(diào)整拍攝部11a的焦點。

如上所述，第一～第三拍攝單元210a～210c為大致同樣的構(gòu)成。因此，以下，對于拍攝部11a和照明部12a，在沒有將第一～第三拍攝單元特別地區(qū)別的情況下，有時省略末尾的字母而記載為“拍攝部11”和“照明部12”。

上述的拍攝部11、照明不12、升降部163和減壓基板170也經(jīng)由未圖示的線纜與控制裝置140(參照圖4)連接，被控制各自的動作。

<4.控制裝置的構(gòu)成>

參照圖10詳細地說明上述控制裝置140的構(gòu)成。圖10是控制裝置140的框圖。此外，在圖10中，用功能框表示為了說明本實施方式的檢查裝置200和減壓干燥裝置123c的特征所必須的構(gòu)成要素，省略了對于一般的構(gòu)成要素的記載。

換言之，圖10中圖示的各構(gòu)成要素是表示功能概念的內(nèi)容，并不一定在物理上如圖所示那樣構(gòu)成。例如，各功能模塊的分散、整合的具體的形態(tài)并不限定于如圖所示的內(nèi)容，其全部或者一部分可以根據(jù)各種負載和使用狀況等，以任意的單位按功能或者物理上進行分散、整合而構(gòu)成。

另外，在各功能模塊進行的各處理功能，其全部或者任意的一部分能夠通過cpu等的處理器和由該處理器分析并執(zhí)行的程序來實現(xiàn)，或者，也可以是作為基于布線邏輯的硬件來實現(xiàn)的功能。

首先，如上所述，控制裝置140包括控制部141和存儲部142?？刂撇?41讀取存儲在存儲部142中的程序并執(zhí)行，由此，作為例如圖10所示的各工模塊141a～141h發(fā)揮功能。接著，對這些各功能模塊141a～141h進行說明。

如圖10所示，控制部141包括照明控制部141a、拍攝控制部141b、圖像取得部141c、色濃度測量部141d、判斷部141e、干燥狀態(tài)檢測部141f、減壓控制部141g、升降控制部141h。另外，存儲部142例如存儲拍攝圖像信息142a、圖案/位置信息142b、規(guī)定范圍信息142c和干燥狀態(tài)信息142d。

照明控制部141a控制照明部12，將來自照明部12的光向基板g照射。拍攝控制部141b控制拍攝部11，使拍攝部11拍攝減壓干燥處理中的基板g。

圖像取得部141c取得拍攝部11所拍攝的拍攝圖像，作為拍攝圖像信息142a存儲到存儲部142。圖11是拍攝部11所拍攝的拍攝圖像20的一例，是將拍攝圖像20的一部分放大表示的示意性放大圖。

如圖11所示，拍攝部11對基板g的堤540和堤540的周邊區(qū)域進行拍攝。此外，在圖11中，只表示了一個堤540，但是拍攝部11也可以拍攝多個堤540。

另外，如圖11所示的例子中，表示形成于基板g的發(fā)光層533中的拍攝g色發(fā)光層533g(參照圖7a、圖7b)而得到的拍攝圖像20。即，圖11表示設(shè)置在發(fā)光層形成模塊123的減壓干燥裝置123c的拍攝部11所拍攝的拍攝圖像20。此外，以下，以g色發(fā)光層533g形成的涂敷區(qū)域21為例進行說明，但以下的說明對于形成有r色發(fā)光層533r或b色發(fā)光層533b的涂敷區(qū)域21也是適合的。

在堤540的內(nèi)部，如上所述，涂敷有形成g色發(fā)光層533g的有機溶劑，將該涂敷有有機材料的區(qū)域作為圖11中的“涂敷區(qū)域21”以虛線的閉曲線表示。像這樣，拍攝部11對基板g的涂敷區(qū)域21進行拍攝。

返回到圖10的說明，色濃度測量部141d從存儲部142讀取拍攝圖像信息142a，測量通過拍攝部11所拍攝的涂敷區(qū)域21的色濃度。這里，所謂色濃度是將所拍攝的涂敷區(qū)域21關(guān)于紅色、綠色和藍色這三原色分別以0～225灰度數(shù)值化表示的數(shù)值。

此外，在本實施方式中，將紅色、綠色和藍色的三原色各自按0～225灰度(8比特)數(shù)值化而表示的數(shù)值作為色濃度，但三原色各自的灰度也可以根據(jù)圖像傳感拍攝機的性能按65536灰度(16比特)或其以上的灰度數(shù)值化，作為色濃度來使用。

此外，拍攝部11拍攝多個堤540，在形成有g(shù)色發(fā)光層533g的涂敷區(qū)域21為多個的情況下，色濃度測量部141d例如也可以測量多個涂敷區(qū)域21的色濃度的平均值。上述的平均值能夠使用簡單平均或者加權(quán)平均等各種平均值。另外，在形成有g(shù)色發(fā)光層533g的涂敷區(qū)域21為多個的情況下，并不限定于測量上述的平均值的例子，例如也可以色濃度測量部141d從多個涂敷區(qū)域21中選擇代表的一個涂敷區(qū)域21，測量該涂敷區(qū)域21的色濃度。

另外，色濃度測量部141d除了色濃度的測量之外，也進行圖案檢索處理和位置信息取得處理。圖案檢索處理檢索是具有所拍攝的涂敷區(qū)域21的堤540的圖案的形狀與形成在基板g的圖案中的哪個圖案的形狀一致的處理。另外，位置信息取得處理取得通過檢索處理判斷為一致的圖案的基板g的位置信息的處理。

具體而言，在存儲部142中，作為圖案/位置信息142b預先存儲有減壓干燥處理實施的基板g中的堤540的圖案形狀(以下稱為“存儲圖案形狀”)、形成于堤540的有機el層530的種類、堤540的位置信息等。

此外，上述中存儲的有機el層530的種類的信息是例如空穴注入層531、空穴輸送層532和發(fā)光層533等的信息。另外，有機el層530的種類的信息，在發(fā)光層533的情況下，也包括是否是r色發(fā)光層533r、g色發(fā)光層533g和b色發(fā)光層533b的任一者的信息。另外，堤540的位置信息例如是表示相對設(shè)定在基板g上的基準點(原點)的堤540的相對位置的xy坐標，但并不限定于此。

在圖案檢索處理中，色濃度測量部141d將具有所拍攝的涂敷區(qū)域21的堤540的圖案形狀與存儲圖案形狀相比較，檢索一致的存儲圖案形狀。并且，色濃度測量部141d，通過檢索將具有一致的存儲圖案形狀的堤540的有機el層530的種類和位置的信息與表示上述所測量的色濃度的信息相關(guān)聯(lián)，并將該信息向判斷部141e輸出。

判斷部141e基于從色濃度測量部141d輸出的信息，計算出表示涂敷區(qū)域21的色濃度的變化的值，具體而言是色濃度的變化率。此外，在上述的判斷部141e，作為表示色濃度的變化的值計算出變化率，但是并不限定于此，例如也可以是色濃度的變化量等的其它的值。

這里，關(guān)于減壓干燥處理中的色濃度的變化和基板g的涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的關(guān)系，參照圖12進行說明。圖12是表示減壓干燥處理中通過色濃度測量部141d所測量的色濃度的圖表。

此外，在圖12中，從上起依次為，虛線的圖表表示“紅色濃度30r”，點劃線的圖表表示“綠色濃度30g”，雙點劃線的圖表表示“藍色濃度30b”。此外，在圖12中，實現(xiàn)的圖表是腔室150內(nèi)的壓力值31。此外，在圖12所示的例子中，從開始減壓干燥處理起經(jīng)過時刻t0后，開始色濃度的測定。

發(fā)明者們在對減壓干燥處理中的涂敷區(qū)域21進行色濃度的測量時，發(fā)現(xiàn)涂敷區(qū)域21的色濃度與涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)之間具有相關(guān)關(guān)系。具體說明，例如如圖12所示，當開始減壓干燥處理并經(jīng)過時刻ta時，壓力值21的變化消失，腔室150內(nèi)維持被減壓為規(guī)定壓力的狀態(tài)。

在涂敷區(qū)域21中，在被減壓到規(guī)定壓力之前且剛剛開始干燥時，色濃度發(fā)生比較大的變化，但經(jīng)過了時刻ta，隨著時間的經(jīng)過，換言之，隨著接近干燥完成的狀態(tài)，色濃度逐漸穩(wěn)定。并且，例如在綠色濃度30g中，在時刻tb，值穩(wěn)定，成為涂敷區(qū)域21的干燥完成了的狀態(tài)。

這是由于，在涂敷區(qū)域21中，通過減壓干燥而被除去的溶劑的量隨著時間的經(jīng)過逐漸減少，色濃度的變化也消失。像這樣，可知涂敷區(qū)域21的色濃度與涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)之間存在相關(guān)關(guān)系。

因此，在具備本實施方式的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c中，計算出涂敷區(qū)域21的色濃度的變化率，基于所計算的變化率檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。

具體而言，圖10所示的判斷部141e，計算色濃度的變化率，判斷所計算出的色濃度的變化率是否在規(guī)定范圍內(nèi)，換言之，關(guān)于色濃度判斷變化是否消失而成為穩(wěn)定的值。此外，上述的規(guī)定范圍被預先設(shè)定為伴隨干燥的進行的色濃度的變化變得比較小能夠判斷為已穩(wěn)定的值，作為規(guī)定范圍信息142c存儲在存儲部142中。判斷部141e將判斷結(jié)果向干燥狀態(tài)檢測部141f輸出。

干燥狀態(tài)檢測部141f基于判斷結(jié)果來檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)，詳細而言，基于由拍攝部11拍攝的涂敷區(qū)域21的色濃度來檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。更詳細而言，在判斷由判斷部141e所計算出的變化率已在規(guī)定范圍內(nèi)的情況下，干燥狀態(tài)檢測部141f檢測出涂敷區(qū)域21已經(jīng)成為干燥了的狀態(tài)。

干燥狀態(tài)檢測部141f將從開始減壓干燥處理到檢測出已經(jīng)成為干燥了的狀態(tài)的時間(這里例如是時刻tb)設(shè)定為“干燥時間”，將該干燥時間作為干燥狀態(tài)信息142d存儲在存儲部142中。

此外，干燥狀態(tài)檢測部141f，除了上述的干燥時間以外，還將形成有成為干燥了的狀態(tài)的涂敷區(qū)域21的堤540的有機el層530的種類和位置信息等作為干燥狀態(tài)信息142d存儲在存儲部142。

像這樣，在有干燥狀態(tài)檢測部141f的情況下，通過利用涂敷區(qū)域21的色濃度，與制作大量的樣品的技術(shù)相比，能夠早期地檢測出涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。

此外，如上所述，在減壓干燥裝置123c設(shè)置用于檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢查裝置200，基于所檢測的涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)設(shè)定干燥時間。由此，例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500之前進行設(shè)定最佳的干燥時間的操作的情況下，不需要制作大量的樣品，能夠?qū)崿F(xiàn)設(shè)定操作的高效化。

此外，在有上述的干燥狀態(tài)檢測部141f的情況下，不需要對通過色濃度測量部141d所測量的色濃度的全部檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。即，干燥狀態(tài)檢測部141f例如根據(jù)涂敷區(qū)域21的種類從紅色濃度、綠色濃度和藍色濃度中選擇至少一種色濃度即可。

詳細地說明，色濃度如上所述包括紅色濃度、綠色濃度和藍色濃度。這三種色濃度的隨著時間經(jīng)過的變化的方式根據(jù)涂敷區(qū)域21的種類分別不同，這些色濃度的變化也與伴隨干燥狀態(tài)的進行的變化相對應。

因此，預先通過實驗等求出顯著地表現(xiàn)伴隨干燥狀態(tài)的進行的變化的色濃度，干燥狀態(tài)檢測部141f根據(jù)涂敷區(qū)域21的種類從紅色濃度、綠色濃度和藍色濃度中選擇至少一種色濃度即可。

并且，干燥狀態(tài)檢測部141f也可以基于所選擇的色濃度檢測干燥狀態(tài)。像這樣，干燥狀態(tài)檢測部141f通過使用容易表現(xiàn)伴隨干燥狀態(tài)的進行的變化的色濃度，能夠正確地檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。此外，通過干燥狀態(tài)檢測部141f選擇的色濃度的數(shù)量能夠設(shè)定為任意的值。

接著進行圖10的說明，減壓控制部141g控制減壓機構(gòu)170，進行減壓干燥處理。具體而言，減壓控制部141g在干燥時間的設(shè)定操作結(jié)束之后，在所設(shè)定的干燥時間、或所設(shè)定的干燥時間上加上規(guī)定時間的時間中進行減壓干燥處理。

升降控制部141h控制升降部163使保持部161升降。此外，升降控制部141h在干燥時間的設(shè)定操作完成之后進行的減壓干燥處理中，換言之，在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500時進行的減壓干燥處理中，根據(jù)涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)控制升降部163，對此參照附圖14在后文敘述。

<5.檢查裝置和減壓干燥裝置的具體的動作>

接著，參照圖13對具有本實施方式的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c執(zhí)行的處理內(nèi)容進行說明。

圖13是表示在具有本實施方式的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c中，設(shè)定干燥時間的處理的處理順序的流程圖。此外，圖13表示例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500之前，用于設(shè)定最佳的干燥時間的處理順序。因此，在圖13所示的例子中，在預先設(shè)定了涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢測處理時間中持續(xù)進行檢測，在檢測處理時間經(jīng)過后設(shè)定干燥時間。上述的檢測處理時間設(shè)定為比預測為涂敷區(qū)域21成為干燥了的狀態(tài)的時間充分長的時間。

另外，圖13所示的各處理順序按照控制裝置140的控制部141的控制執(zhí)行。

在以下進行詳細說明，如圖13所示，控制部141的拍攝控制部141b拍攝在基板g中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域21(步驟s10)。此外，在該拍攝處理之前，使來自照明部12的光為向基板g照射的光。

接著，色濃度測量部141d，將在所拍攝的拍攝圖像中，具有涂敷區(qū)域21的堤540的圖案的形狀與存儲圖案形狀相比較，檢索一致的存儲圖案形狀(步驟s11)。接著，色濃度測量部141d通過檢索處理取得具有一致的存儲圖案形狀的堤540的有機el層530的種類和位置信息等(步驟s12)。

接著，色濃度測量部141d在所拍攝的拍攝圖像中測量涂敷區(qū)域21的色濃度(步驟s13)。接著，判斷部141e計算出涂敷區(qū)域21的色濃度的變化率(步驟s14)，判斷所計算出的色濃度的變化率是否在規(guī)定范圍內(nèi)(步驟s15)。

判斷部141e判斷為色濃度的變化率在規(guī)定范圍內(nèi)的情況下(步驟s15，是)，計算出從開始減壓干燥處理直至判斷為色濃度的變化率在規(guī)定范圍內(nèi)的時間作為“干燥時間”(步驟s16)。

此外，判斷部141e判斷為色濃度的變化率不在規(guī)定范圍內(nèi)的情況下(步驟s15，否)，即，判斷為色濃度發(fā)生比較大的變化的情況下，跳過步驟s16的處理。

接著，干燥狀態(tài)檢測部141f例如在通過判斷部141e判斷為變化率在規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，檢測出涂敷區(qū)域21成為已經(jīng)干燥了的狀態(tài)的情況，輸出表示成為已經(jīng)干燥的狀態(tài)的情況的信息，存儲到存儲部142(步驟s17)。另外，干燥狀態(tài)檢測部141f無論判斷部141e的判斷結(jié)果如何，都將所取得的堤540的有機el層530的種類和位置信息、所測量的涂敷區(qū)域21的色濃度等作為表示干燥狀態(tài)的信息輸出，存儲到存儲部142。

接著，干燥狀態(tài)檢測部141f判斷是否已經(jīng)經(jīng)過了上述的檢測處理時間(步驟s18)。干燥狀態(tài)檢測部141f判斷為還未經(jīng)過檢測處理時間的情況下(步驟s18，否)，重復步驟s10～s17的處理。

另一方面，干燥狀態(tài)檢測部141f判斷為經(jīng)過了檢測處理時間的情況下(步驟s18，是)，設(shè)定干燥時間(步驟s19)。這里設(shè)定的干燥時間與在步驟s16中所計算出的干燥時間是相同的值。

如此一來，例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500之前，完成為了設(shè)定最佳的干燥時間的一系列的處理。并且，雖然省略了圖示，但例如在量產(chǎn)有機發(fā)光二極管500的情況下，在減壓干燥裝置123c中，構(gòu)成為在步驟s19所設(shè)定的干燥時間、或者在所設(shè)定的干燥時間上加上規(guī)定時間的時間中進行減壓干燥處理。此外，在上述中，在干燥時間上加上規(guī)定時間是為了，例如即使涂敷區(qū)域21的干燥的進行因環(huán)境條件變遲的情況下，由規(guī)定時間吸收所變遲的時間，使涂敷區(qū)域21的干燥可靠地完成。

另外，在上述的減壓干燥裝置123c中，在設(shè)定干燥時間的操作時進行涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢測。但是，在減壓干燥裝置123c中，涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢測并不限定于上述內(nèi)容。

即，例如也可以構(gòu)成為在設(shè)定了干燥時間后的減壓干燥裝置123c中也進行涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢測。例如，如后文所述，在基板g的涂敷區(qū)域21中，在基板g的周邊部和中央部，干燥的速度不同。因此，在本實施方式中，檢測周邊部的涂敷區(qū)域21和中央部的涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)，基于檢測結(jié)果使基板g升降，由此實現(xiàn)干燥的促進。

對此參照圖14進行說明。圖14是表示周邊部的涂敷區(qū)域21和中央部的涂敷區(qū)域21的g色濃度的圖表。此外，在圖14中，對于由第一拍攝單元210a的拍攝部11a所拍攝的涂敷區(qū)域21的g色濃度標注附圖標記41。另外，在圖14中，對于由第二拍攝單元210b的拍攝部11b所拍攝的涂敷區(qū)域21的g色濃度標注附圖標記42，對于由第三拍攝單元210c的拍攝部11c所拍攝的涂敷區(qū)域21的g色濃度標注附圖標記43。即，g色濃度41、43是周邊部的涂敷區(qū)域21的g色濃度，g色濃度42是中央部的涂敷區(qū)域21的g色濃度。

如圖14所示，關(guān)于g色濃度41～43，均是在開始減壓干燥處理經(jīng)過時刻t0之后急劇地增加之后轉(zhuǎn)為減少。并且，三個g色濃度41～43中，關(guān)于g色濃度41、43，在時刻t1，減少了的值反轉(zhuǎn)而增加，關(guān)于g色濃度42，在比時刻t1遲的時刻t2，減少了的值發(fā)生反轉(zhuǎn)而增加。

這樣的反轉(zhuǎn)如圖7a所示，是比堤540的上表面向上方隆起的發(fā)光層533由于干燥而降低，成為比堤540的上表面靠下方的狀態(tài)(參照圖7b)時被觀察到的現(xiàn)象。此外，在緊接著變成圖7b所示的狀態(tài)后的涂敷區(qū)域21并不是完全干燥了的狀態(tài)。

如上所述，對于g色濃度41～43中反轉(zhuǎn)的時刻，在中央部的涂敷區(qū)域21的g色濃度42中反轉(zhuǎn)的時刻比周邊部的涂敷區(qū)域21的g色濃度41、43中反轉(zhuǎn)的時刻遲。即，可知中央部的涂敷區(qū)域21比周邊部的涂敷區(qū)域21的干燥速度慢，難以干燥。

另外，在腔室150內(nèi)，由減壓機構(gòu)170生成氣流，由于該氣流的方向等，存在在腔室150內(nèi)涂敷區(qū)域21存在易于干燥的部位的情況。

因此，在本實施方式的減壓干燥裝置123c中，也可以例如根據(jù)涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)控制升降部163使保持部161升降，調(diào)整基板g的高度。

詳細而言，升降控制部141h，在周邊部的涂敷區(qū)域21的g色濃度41、43發(fā)生了反轉(zhuǎn)的情況下，控制升降部163使保持部161升降，以中央部的涂敷區(qū)域21位于腔室150內(nèi)的易于干燥的部位的方式調(diào)整基板g的高度。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)中央部的涂敷區(qū)域21的干燥的促進。

另外，通過如上所述的構(gòu)成，能夠使中央部的涂敷區(qū)域21的干燥速度接近周邊部的涂敷區(qū)域21的干燥速度，由此能夠抑制在基板g中因部位不同而產(chǎn)生干燥不均的情況。

如上述所構(gòu)成的那樣，第一實施方式的檢查裝置200包括拍攝部11和干燥狀態(tài)檢測部141f。拍攝部11對基板g中涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域21進行拍攝。干燥狀態(tài)檢測部141f基于由拍攝部11所拍攝的涂敷區(qū)域21的色濃度檢測出涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。由此，在基板g中能夠早期地檢測涂敷有有機材料的涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。

此外，在上述中，干燥狀態(tài)檢測部141f基于涂敷區(qū)域21的一個部位的色濃度檢測涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)，但并不限定于此。即，干燥狀態(tài)檢測部141f例如也可以如圖11中的假想線所表示，基于涂敷區(qū)域21中的多個部位的點22的色濃度檢測干燥狀態(tài)。

由此，干燥狀態(tài)檢測部141f例如能夠進行涂敷區(qū)域21內(nèi)的多個部位的點22中色濃度的比較，能夠確認涂敷區(qū)域21內(nèi)是否已經(jīng)均勻的干燥。

另外，由于也能夠計算出涂敷區(qū)域21內(nèi)的多個部位的點22的色濃度的差，因此能夠根據(jù)該差推測涂敷區(qū)域21中的膜厚分布，其結(jié)果是能夠分析相對涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的膜厚的變化。

(第二實施方式)

接著，對具有第二實施方式的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c進行說明。此外，在以下的說明中，對與已說明的部分同樣的部分標注與已說明的部分同樣的附圖標記，省略重復的說明。

在圖2的實施方式中，改變了拍攝部的配置。圖15是表示第二實施方式的拍攝單元310的拍攝部311附近的示意放大截面圖。

如圖15所示，在第二實施方式中，拍攝部311配置成拍攝部311的光軸相對于基板g的主面傾斜。此外，作為拍攝單元310的照明部312，與第一實施方式同樣能夠使用同軸照明的照明部。

另外，拍攝單元310也可以進一步具有輔助照明部320。輔助照明部320例如配置在拍攝對象物即涂敷區(qū)域21的上方，對基板g照射拍攝用的光。此外，在圖15中，為了便于理解，以虛線的封閉曲線示意地表示了涂敷區(qū)域21。

在第二實施方式中，通過將拍攝部311按如上所述方式配置，與第一實施方式同樣地能夠在早期檢測出涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。此外，在第二實施方式中，通過以如上所述方式配置拍攝部311，通過從斜上方對涂敷區(qū)域21進行拍攝。從斜上方所拍攝的涂敷區(qū)域21的色濃度，有時隨著干燥進行表示出比較大的變化，因此在第二實施方式中，能夠更加準確地檢測出涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。

另外，在第二實施方式中，也可以構(gòu)成為求得從斜上方所拍攝的涂敷區(qū)域21的體積，分析相對涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的體積的變動等。

(第三實施方式)

接著，對具有第三實施方式的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c進行說明。在第三實施方式中，如圖9中以假想線所表示具有偏振濾光片400。由此，能夠更準確地測量涂敷區(qū)域21的色濃度，其結(jié)果是能夠檢測出準確的干燥狀態(tài)。

以下進行詳細說明，偏振濾光片400配置在拍攝部11與基板g的涂敷區(qū)域21(參照圖11)之間。此外，在圖9中，為了圖示的簡化，僅表示了配置在拍攝部11a與涂敷區(qū)域21之間的偏振濾光片400，省略了配置在拍攝部11b、11c與涂敷區(qū)域21之間的偏振濾光片400的圖示。

但是，照明部12的光照射到涂敷區(qū)域21，在涂敷區(qū)域21發(fā)生反射。來自該涂敷區(qū)域21的反射光包括到達涂敷區(qū)域21的內(nèi)部在基板g的上表面反射的“內(nèi)部反射光”和沒有到達涂敷區(qū)域21的內(nèi)部在涂敷區(qū)域21的表面發(fā)生漫反射的“表面反射光”。該漫反射后的表面反射光對于拍攝部11來說成為噪聲(干擾)的主要因素，因此盡可能不受光。

因此，在偏振濾光片400，使具有上述的內(nèi)部反射光的相位的光通過拍攝部11的光軸通過的中心部，使偏光的方向正交具有漫反射后的表面反射光的相位的光不通過包圍該中心部的周邊部。

由此，在拍攝部11，通過偏振濾光片400能夠減輕漫反射后的表面反射光的受光，能夠抑制表面反射光的影響。因此，在第三實施方式中，能夠更準確地測量涂敷區(qū)域21的色濃度，其結(jié)果是，能夠檢測出準確的干燥狀態(tài)。

(第一變形例)

接著，對具有第一變形例的檢查裝置200的減壓干燥裝置123c進行說明。

在第一變形例的減壓干燥裝置123c中，如圖10的假想線所示，具有通知部410。并且，在減壓干燥裝置123c中，干燥狀態(tài)檢測部141f例如，在色濃度的變化率收斂在規(guī)定范圍內(nèi)之后，偏離了規(guī)定范圍的情況下，推測為減壓干燥裝置123c中有可能發(fā)生了什么異常，通過通知部410向用戶通知。

作為通知部410能夠使用顯示器或蜂鳴器等，在推測為減壓干燥裝置123c中發(fā)生了什么異常的情況下，例如表示異常發(fā)生的顯示器進行顯示或者蜂鳴器進行蜂鳴。由此，用戶能夠在早期了解到減壓干燥裝置123c的異常。

另外，在第一變形例的減壓干燥裝置123c中，如圖10中由假想線所示，也可以具有光測定器420。光測定器420設(shè)置在照明部12，測定照明部12的光量。

表示由光測定器420所測定的光量的信息輸出到照明控制部141a。照明控制部141a，例如照明部12的光量降低，在檢測出照明部12的劣化的情況下，通過通知部410向用戶通知。

由此，例如，由于照明部12的經(jīng)年劣化而不能正確地測量涂敷區(qū)域21的色濃度之前，能夠催促用戶對照明部12進行維護。即，能夠預先避免由于照明部12的經(jīng)年劣化而不能正確地測量涂敷區(qū)域21的色濃度，涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的檢測精度降低的情況。

(第二變形例)

接著，對第二變形例進行說明。在第二變形例的減壓干燥裝置123c中，根據(jù)被測量的色濃度的種類改變從照明部12向涂敷區(qū)域21照射的光的波長。

詳細而言，存在通過測濃度測量部141d測量的涂敷區(qū)域21的色濃度的值根據(jù)從照明部12照射的光的波長發(fā)生改變的情況。因此，在第二變形例中，照明控制部141a根據(jù)要測量的涂敷區(qū)域21的色濃度的種類，選擇容易表現(xiàn)隨著干燥狀態(tài)的進行的色濃度的變化的波長，向涂敷區(qū)域21照射所選擇的波長的光。此外，通過照明控制部141a選擇的波長例如能夠是通過實驗等預先導出適當?shù)闹?，存儲在存儲?42等中的值。

由此，干燥狀態(tài)檢測部141f能夠準確地掌握伴隨干燥狀態(tài)的進行的色濃度的變化，其結(jié)果是能夠正確地檢測出涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)。另外，如上所述通過改變光的波長，也能夠減輕對涂敷的墨水的損傷，也能夠取得更容易觀察的拍攝圖像。

(第三變形例)

接著，對第三變形例進行說明。在第三變形例的減壓干燥裝置123c中，拍攝部11構(gòu)成為具有由紅外線的透射率比較高的材質(zhì)所制作的長焦透鏡的紅外線圖像傳感照相機。另外，在該情況下，窗部152也使用紅外線的透射率比較高的材質(zhì)。

在第三變形例中，能夠利用紅外線圖像傳感照相機(紅外熱照相機等)測定從作為測定對象的基板g的涂敷區(qū)域21釋放的紅外線的強度，觀察涂敷區(qū)域21的溫度分布、溫度圖像。另外，通過利用紅外線圖像傳感照相機(紅外熱照相機等)，能夠高速地且非接觸地進行溫度測定。

并且，如果將所測定的涂敷區(qū)域21的溫度作為干燥狀態(tài)信息142d存儲在存儲部142中，則能夠分析相對涂敷區(qū)域21的干燥狀態(tài)的涂敷區(qū)域21的溫度變化。

此外，上述的第一實施方式至第三實施方式和第一變形例至第三變形例中分別所說明的各構(gòu)成也能夠適當組合。即，例如也可以在第一實施方式的構(gòu)成中組合第一變形例的通知部410和改變第二變形例的照明部12的光的波長的照明控制部141a。

另外，在上述內(nèi)容中，腔室150的頂部150a在俯視時為矩形，將窗部152和第一～第三拍攝單元210a～210c沿著頂部150a的對角線配置，但并不限定于此。即，例如也可以將窗部152和第一～第三拍攝單元210a～210c相對于頂部150a沿著x軸方向或y軸方向配置。

另外，在上述的構(gòu)成中，在拍攝圖像信息142a中包括表示涂敷區(qū)域21的干燥進行的過程的連續(xù)的拍攝圖像。由此，例如，在設(shè)定減壓干燥裝置121c、122c、123c的減壓干燥處理的干燥方案時，通過解析連續(xù)的拍攝圖像，能夠高效地實現(xiàn)最佳化。

更多的效果和變形例能夠由從業(yè)人員容易地得到。因此，本發(fā)明的更多的方式并不限定于以上所表示的和所描述的特定的詳細內(nèi)容以及代表性的實施方式。因此，只要不脫離所附的權(quán)利要求的范圍及其均等的范圍所定義的概括性的發(fā)明思想和范圍，就能夠進行各種變更。