本發(fā)明涉及超導(dǎo)線。

背景技術(shù)：
一直以來，具有覆蓋基板以及層疊于該基板的一個主面?zhèn)鹊某瑢?dǎo)層的周圍的穩(wěn)定化層的超導(dǎo)線是眾所周知的。但是，在這種超導(dǎo)線中，無法視覺辨認超導(dǎo)層和基板，只要不切斷超導(dǎo)線，就難以識別基板側(cè)和超導(dǎo)層側(cè)。因此，在日本特開2011-154790號公報和美國專利第7702373號說明書中公開了如下的超導(dǎo)線：在覆蓋基板以及超導(dǎo)層的周圍的穩(wěn)定化層中的、位于基板側(cè)的穩(wěn)定化層或位于超導(dǎo)層側(cè)的穩(wěn)定化層中的任意一個的表面上設(shè)置有用于識別設(shè)置了超導(dǎo)層一側(cè)的識別標志。此外，在日本專利第4423708號公報中公開了如下的超導(dǎo)線，該超導(dǎo)線進一步用對銅層進行氧化處理后的絕緣層(氧化銅層)覆蓋日本特開2011-154790號公報等所記載的穩(wěn)定化層(的周圍)。同樣，在日本特開2011-233294中公開了用絕緣層(樹脂帶)覆蓋超導(dǎo)線的周圍的超導(dǎo)線。但是，在日本特開2011-154790號公報和美國專利第7702373號說明書所記載的識別標志中，在如日本專利第4423708號公報和日本特開2011-233294號公報那樣用絕緣層覆蓋了穩(wěn)定化層的情況下，無法視覺辨認處于穩(wěn)定化層等的識別標志，結(jié)果難以識別基板側(cè)和超導(dǎo)層側(cè)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明是鑒于上述實際情況而完成的，其目的在于提供即使穩(wěn)定化層用絕緣層覆蓋了也能夠容易地識別基板側(cè)和超導(dǎo)層側(cè)的超導(dǎo)線。本發(fā)明的上述問題通過下述手段解決。<1>一種超導(dǎo)線，其中，該超導(dǎo)線具備：基板；超導(dǎo)層，其層疊于所述基板的一個主面?zhèn)?；穩(wěn)定化層，其覆蓋所述超導(dǎo)層的表面和所述基板的另一個主面；以及絕緣層，其覆蓋所述穩(wěn)定化層的表面，具有識別所述基板側(cè)和所述超導(dǎo)層側(cè)的識別部。<2>如<1>所述的超導(dǎo)線，其中，所述穩(wěn)定化層包含金屬元素，所述絕緣層具有金屬氧化物絕緣部作為所述識別部，該金屬氧化物絕緣部至少形成在所述超導(dǎo)層側(cè)，包含所述金屬元素的氧化物。<3>如<2>所述的超導(dǎo)線，其中，所述金屬氧化物絕緣部具有形成于所述超導(dǎo)層側(cè)的第1金屬氧化物絕緣部、和形成于所述基板側(cè)的第2金屬氧化物絕緣部，作為所述識別部，所述第1金屬氧化物絕緣部和所述第2金屬氧化物絕緣部彼此顏色不同。<4>如<3>所述的超導(dǎo)線，其中，所述第1金屬氧化物絕緣部的厚度比所述第2金屬氧化物絕緣部的厚度大。＜5＞如＜2＞～＜4＞中的任意一項所述的超導(dǎo)線，其中，所述金屬氧化物絕緣部的厚度比所述穩(wěn)定化層的厚度小。＜6＞如＜2＞～＜4＞中的任意一項所述的超導(dǎo)線，其中，在所述金屬氧化物絕緣部與所述穩(wěn)定化層之間，混合存在所述金屬元素和所述金屬元素的氧化物，并且設(shè)置有所述金屬元素的氧化物與單體的金屬元素之比隨著朝向所述金屬氧化物絕緣部而連續(xù)變大的成分傾斜層。＜7＞如＜2＞～＜4＞中的任意一項所述的超導(dǎo)線，其中，所述金屬氧化物絕緣部具有端部識別部，該端部識別部用于識別所述超導(dǎo)線的長度方向的一端部和另一端部或所述超導(dǎo)線的短邊方向的一端部和另一端部。＜8＞如＜1＞～＜4＞中的任意一項所述的超導(dǎo)線，其中，所述絕緣層的所述超導(dǎo)層側(cè)的表面粗糙度與所述絕緣層的所述基板側(cè)的表面粗糙度不同。＜9＞如＜1＞～＜4＞中的任意一項所述的超導(dǎo)線，其中，所述絕緣層的所述超導(dǎo)層側(cè)的維氏硬度與所述絕緣層的所述基板側(cè)的維氏硬度不同。＜10＞如＜5＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述金屬氧化物絕緣部具有端部識別部，該端部識別部用于識別所述超導(dǎo)線的長度方向的一端部和另一端部或所述超導(dǎo)線的短邊方向的一端部和另一端部。＜11＞如＜5＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述絕緣層的所述超導(dǎo)層側(cè)的表面粗糙 度與所述絕緣層的所述基板側(cè)的表面粗糙度不同。＜12＞如＜7＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述絕緣層的所述超導(dǎo)層側(cè)的表面粗糙度與所述絕緣層的所述基板側(cè)的表面粗糙度不同。＜13＞如＜1＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述識別部是形成于所述基板側(cè)或所述超導(dǎo)層側(cè)、或者所述基板側(cè)及所述超導(dǎo)層側(cè)的識別標志。＜14＞如＜13＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述識別標志是立體識別標志。＜15＞如＜1＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述識別部構(gòu)成為所述超導(dǎo)層側(cè)的所述絕緣層的角部的曲率與所述基板側(cè)的所述絕緣層的角部的曲率不同。＜16＞如＜1＞中所述的超導(dǎo)線，其中，所述識別部構(gòu)成為所述超導(dǎo)層側(cè)的所述絕緣層的顏色與所述基板側(cè)的所述絕緣層的顏色不同。根據(jù)本發(fā)明，可提供即使用絕緣層覆蓋了穩(wěn)定化層也能夠容易地識別基板側(cè)和超導(dǎo)層側(cè)的超導(dǎo)線。附圖說明圖1是示出本發(fā)明的實施方式的超導(dǎo)線的層疊結(jié)構(gòu)的立體圖。圖2A是圖1所示的超導(dǎo)線的橫截面圖。圖2B是示出圖1所示的超導(dǎo)線的超導(dǎo)層側(cè)的面的圖。圖2C是示出圖1所示的超導(dǎo)線的基板側(cè)的面的圖。圖3A是示出金屬氧化物絕緣部的制造工序的一部分的圖。圖3B是示出接著圖3A的金屬氧化物絕緣部的制造工序的一部分的圖。圖3C是示出接著圖3B的金屬氧化物絕緣部的制造工序的一部分的圖。圖4A是示出金屬氧化物絕緣部的另一制造工序的一部分的圖。圖4B是示出接著圖4A的金屬氧化物絕緣部的另一制造工序的一部分的圖。圖4C是示出接著圖4B的金屬氧化物絕緣部的另一制造工序的一部分的圖。圖5A是示出本發(fā)明的實施方式的超導(dǎo)線的變形例的圖。圖5B是示出本發(fā)明的實施方式的超導(dǎo)線的另一變形例的圖。具體實施方式以下，參照附圖說明對本發(fā)明的實施方式的超導(dǎo)線進行具體說明。另外，對各圖 中具有相同或?qū)?yīng)的功能的部件(結(jié)構(gòu)要素)標以相同的符號并適當省略說明。<<超導(dǎo)線的概略結(jié)構(gòu)>>圖1是示出本發(fā)明的實施方式的超導(dǎo)線1的層疊結(jié)構(gòu)的立體圖。如圖1所示，超導(dǎo)線1具有在基板10的厚度T方向的一個主面10A側(cè)依次層疊了中間層20、超導(dǎo)層30、穩(wěn)定化層40和絕緣層50的層疊結(jié)構(gòu)。基板10被設(shè)為了沿圖中箭頭L方向(以下設(shè)為長度L方向)延伸的帶狀。該基板10采用了低磁性的金屬基板或陶瓷基板。作為金屬基板的材料，例如可使用強度和耐熱性優(yōu)異的Co、Cu、Ni、Ti、Mo、Nb、Ta、W、Mn、Fe、Cr、Ag等金屬或它們的合金。特別優(yōu)選的是耐蝕性和耐熱性方面優(yōu)異的不銹鋼、哈斯特洛伊鎳基耐蝕耐熱合金(Hastelloy)(注冊商標)、其他的鎳系合金。另外，這些各種金屬材料上還可以配有各種陶瓷。此外，作為陶瓷基板的材料，例如可使用MgO、SrTiO3或釔穩(wěn)定氧化鋯等。中間層20是為了在超導(dǎo)層30中例如實現(xiàn)高的雙軸取向性而設(shè)置于基板10與超導(dǎo)層30之間的層。這種中間層20的例如熱膨脹率、晶格常數(shù)等物理特性值顯示出基板10與構(gòu)成超導(dǎo)層30的超導(dǎo)體的中間的值。此外，中間層20可以是單層結(jié)構(gòu)、也可以是多層結(jié)構(gòu)。在多層結(jié)構(gòu)的情況下，其層數(shù)和種類不受限定，但例如也可以如圖1所示，是依次層疊了以下層后的結(jié)構(gòu)：包含非晶質(zhì)的Gd2Zr2O7－δ(δ是氧的不定比量)等的底層22；包含晶質(zhì)的MgO等且通過IBAD法形成的強制取向?qū)?4；包含LaMnMO3+δ(δ是氧的不定比量)的LMO層26；以及包含CeO2等的覆蓋層28。超導(dǎo)層30設(shè)置(堆疊)在中間層20的厚度方向的表面上，包含氧化物超導(dǎo)體，尤其包含銅氧化物超導(dǎo)體。作為銅氧化物超導(dǎo)體，優(yōu)選是作為高溫超導(dǎo)體的REBa2Cu3O7-δ(稱作RE系超導(dǎo)體)。另外，RE系超導(dǎo)體中的RE是Y、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等中的一種稀土元素或多種稀土元素，在這些之中，出于不易與Ba段(site)進行置換等理由，優(yōu)選是Y。此外，δ是氧的不定比量，例如為0以上且1以下，從超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度高的觀點出發(fā)，越接近0越優(yōu)選。另外，關(guān)于氧的不定比量，如果能夠使用高壓釜等裝置進行高壓氧退火等，則δ有時也可以取小于0的值、即負值。穩(wěn)定化層40至少覆蓋超導(dǎo)層30的表面30A和基板10的另一個主面10B。穩(wěn)定化層40優(yōu)選包含銅等金屬元素。也可以是，不僅覆蓋表面30A和主面10B，還包含 超導(dǎo)層30的側(cè)面、中間層20的側(cè)面和基板10的側(cè)面進行覆蓋，如圖1所示，覆蓋基板10、中間層20和超導(dǎo)層30的周圍整體。該穩(wěn)定化層40可以是單層結(jié)構(gòu)、也可以是多層結(jié)構(gòu)。在多層結(jié)構(gòu)的情況下，其層數(shù)和種類不受限定，但例如也可以如圖1所示，是依次層疊了由銀構(gòu)成的銀穩(wěn)定化層42、和由銅構(gòu)成的銅穩(wěn)定化層44后的結(jié)構(gòu)。絕緣層50覆蓋穩(wěn)定化層40，具有識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)的識別部。作為識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)的識別部，例如可列舉以下的手段(1)～(5)。另外，也可以組合這些手段。(1)在絕緣層50上設(shè)置識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)的識別標志。具體而言，在絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A、或絕緣層50中的基板10側(cè)的表面50B上通過印刷或刻印等設(shè)置○和×等的標記、或者“正”和“反”等的文字，作為識別標志。利用該識別標志，能夠通過超導(dǎo)線用戶的視覺來識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。尤其是，如果設(shè)置立體的識別標志，則不僅能夠通過視覺，還能夠通過觸覺來識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。但是，由于存在將超導(dǎo)線1設(shè)為線圈時和立體的識別標志在使用時會成為障礙的情況，因此優(yōu)選在能夠通過觸覺識別的程度上盡量使識別標志的厚度變薄。(2)使絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A的粗糙度與基板10側(cè)的表面50B的粗糙度不同。具體而言，對表面50A或表面50B進行研磨，并且在超導(dǎo)層30側(cè)和基板10側(cè)改變絕緣層50的材料，使超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A的粗糙度(算術(shù)平均粗糙度Ra)和絕緣層50中的基板10側(cè)的表面50B的粗糙度(算術(shù)平均粗糙度Ra)不同。利用該粗糙度Ra的差異，能夠通過超導(dǎo)線用戶的觸覺而識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。此外，在對這種超導(dǎo)線1進行了線圈化的情況下，卷繞的表面50A和表面50B接觸，還起到能夠利用這些粗糙度Ra的差防止卷繞錯位這樣的特有效果。從所有的超導(dǎo)線用戶都能夠通過觸覺掌握表面粗糙度的差異的觀點出發(fā)，優(yōu)選超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A的粗糙度Ra與絕緣層50中的基板10側(cè)的表面50B的粗糙度Ra之間有10μm以上的差，而且，由于期望為在適用于應(yīng)用設(shè)備時不發(fā)生不利情況的程度的粗糙度，因此為500μm以下、優(yōu)選為100μm以下的差即可。(3)使絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的硬度與絕緣層50中的基板10側(cè)的硬度不同。具體而言，通過在超導(dǎo)層30側(cè)和基板10側(cè)改變絕緣層50的材料，使絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的維氏硬度與絕緣層50中的基板10側(cè)的維氏硬度不同。利用該維氏硬度的差異，能夠通過超導(dǎo)線用戶的觸覺而識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。從所有的超導(dǎo)線用戶都能夠通過觸覺掌握表面粗糙度的差異的觀點出發(fā)，優(yōu)選超導(dǎo)層30側(cè)的維氏硬度與基板10側(cè)的維氏硬度至少有Hv30以上、期望有Hv150以上的差，而且，由于期望為在適用于應(yīng)用設(shè)備時不發(fā)生不利情況的程度的硬度，因此為Hv1000以下、優(yōu)選為Hv500以下的差即可。(4)在絕緣層50的角部形成R，并且使絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的R的曲率與絕緣層50中的基板10側(cè)的R的曲率不同。具體而言，在絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)和絕緣層50中的基板10側(cè)的任意一方的角部形成R。在兩方的角部形成R的情況下，使絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的R的曲率與絕緣層50中的基板10側(cè)的R的曲率不同。由此能夠通過超導(dǎo)線用戶的視覺和觸覺，識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。(5)在絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A與基板10側(cè)的表面50B處使顏色不同。具體而言，在超導(dǎo)層30側(cè)和基板10側(cè)改變絕緣層50的材料，與上述(2)同樣地在超導(dǎo)層30側(cè)和基板10側(cè)改變粗糙度Ra而改變反射率，將作為絕緣層50的絕緣帶進行帶卷繞，在超導(dǎo)層30側(cè)和基板10側(cè)改變絕緣層50的厚度而改變反射率，并且如后所述，在絕緣層50中，至少在超導(dǎo)層30側(cè)設(shè)置金屬氧化物絕緣部，該金屬氧化物絕緣部包含穩(wěn)定化層40所包含的金屬元素的氧化物(在實施方式中為銅氧化物)，從而在絕緣層50中的超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A和基板10側(cè)的表面50B處使顏色不同。由此，能夠通過超導(dǎo)線用戶的視覺而識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。此外，在設(shè)置金屬氧化物絕緣部的情況下，與僅對絕緣帶進行帶卷繞的情況相比，絕緣層50與穩(wěn)定化層40的緊密貼合性增加，基板10的長度L方向的拉力增強，而且能夠抑制液體和雜質(zhì)進入到絕緣層50與穩(wěn)定化層40之間。<<金屬氧化物絕緣部的詳細情況>>接著，對在絕緣層50中至少在超導(dǎo)層30側(cè)設(shè)置包含穩(wěn)定化層40所包含的金屬元素的氧化物的金屬氧化物絕緣部的情況更詳細地進行說明。在僅在超導(dǎo)層30側(cè)設(shè)置金屬氧化物絕緣部的情況下，超導(dǎo)層30側(cè)以外的絕緣層50由絕緣帶等形成。此外，如圖2A所示，上述金屬氧化物絕緣部可以形成在穩(wěn)定化層40(銅穩(wěn)定化層44)的整個面上，作為識別部，具有形成于超導(dǎo)層30側(cè)的第1金屬氧化物絕緣部50C和形成于基板10側(cè)的第2金屬氧化物絕緣部50D，并且使第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D的顏色彼此不同(參照圖2B和圖2C)。為了使該顏色不同，例如使第1金屬氧化物絕緣部50C的厚度和第2金屬氧化物絕緣部50D的厚度不同即可。另外，如圖2A所示，優(yōu)選第1金屬氧化物絕緣部50C的厚度比第2金屬氧化物絕緣部50D的厚度大。相比基板10更需要保護超導(dǎo)層30，因此通過使第1金屬氧化物絕緣部50C的厚度比第2金屬氧化物絕緣部50D大，能夠?qū)崿F(xiàn)保護的強化。此外，是因為能夠防止需要保護的超導(dǎo)層30側(cè)的絕緣層50和穩(wěn)定化層40的剝離。此外，在超導(dǎo)線1的使用時在超導(dǎo)層30流過電流，因此需要將超導(dǎo)層30側(cè)的絕緣層50設(shè)為更高的絕緣特性。因此，優(yōu)選使得第1金屬氧化物絕緣部50C的厚度比第2金屬氧化物絕緣部50D的厚度大，并且使得第1金屬氧化物絕緣部50C的絕緣特性高于第2金屬氧化物絕緣部50D的絕緣特性。此外，優(yōu)選第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D、尤其是第1金屬氧化物絕緣部50C比穩(wěn)定化層40的厚度小。如后所述，這是因為第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D能夠利用對穩(wěn)定化層40進行了氧化處理后的層，由于相比穩(wěn)定化層40的金屬元素，對該金屬元素進行氧化而形成的金屬氧化物一般易壞，因此通過確保更牢固的穩(wěn)定化層40的厚度能夠抑制機械強度的降低。此外，優(yōu)選在絕緣層50的金屬氧化物絕緣部與穩(wěn)定化層40之間，混合存在穩(wěn)定化層40的金屬元素(在實施方式中為銅元素)和金屬元素的氧化物(在實施方式中為銅氧化物)，并且設(shè)置有金屬元素的氧化物相對于該單體的金屬元素的比率隨著朝 向金屬氧化物絕緣部而連續(xù)變大的成分傾斜層。是因為由此能夠提高絕緣層50與穩(wěn)定化層40的緊密貼合性。此外，如圖2A所示，作為具有第1金屬氧化物絕緣部50C和形成于基板10側(cè)的第2金屬氧化物絕緣部50D、并且使第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D的顏色相互不同的其他形式，可以通過使第1金屬氧化物絕緣部50C(超導(dǎo)層30側(cè)的表面50A)的表面形狀與第2金屬氧化物絕緣部50D(基板10側(cè)的表面50B)的表面形狀不同，來控制可見區(qū)域的反射率，成為不同的顏色。<<金屬氧化物絕緣部的制造方法>>接著，說明上述金屬氧化物絕緣部的制造方法的一例。圖3A～圖3C是示出金屬氧化物絕緣部的制造工序的一部分的圖。另外，圖中的虛線表示在銅穩(wěn)定化層44中被氧化的區(qū)域的邊界線或被氧化的區(qū)域的邊界線，實際上無法視覺辨認。首先，如圖3A所示，準備依次用銀穩(wěn)定化層42和銅穩(wěn)定化層44覆蓋了基板10、中間層20和超導(dǎo)層30的周圍的處理前的超導(dǎo)線1A。在超導(dǎo)線1A中，用遮蔽帶(maskingtape)60被覆除超導(dǎo)線30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的表面以外的銅穩(wěn)定化層44的周圍，對超導(dǎo)線30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的表面進行氧化處理，得到氧化銅層70(參照圖3A和圖3B)。作為氧化處理，可列舉浸漬到強堿性煮沸類型的銅/銅合金發(fā)黑劑的方法、氨(氣體)氣相法、銅的陽極氧化法、在氧化性環(huán)境中進行熱處理的方法。另外，從可以不對超導(dǎo)線1A實施作為從超導(dǎo)層30脫氧的主要原因的高溫處理的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用熱處理以外的方法。在浸漬方法、氨(氣體)氣相法和銅的陽極氧化法中，由于氧化速度變快，因此從防止難以控制金屬氧化物絕緣部(氧化銅層)的厚度的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用氨(氣體)氣相法和銅的陽極氧化法。其中，在浸漬方法的情況下，能夠通過降低使用的溶液的濃度、減少涂覆量來容易地控制金屬氧化物絕緣部(氧化銅層)的厚度。在浸漬到發(fā)黑劑的方法中，例如可使用EBONOLCSpecial液作為發(fā)黑劑。此時，作為浸漬條件，例如可將浸漬溫度設(shè)為90℃、浸漬時間設(shè)為30秒。此外，可以在浸漬前，尤其在遮蔽帶之前，進行利用堿脫脂材料的電解脫脂(例如處理溫度60℃、處理時間120秒)、利用硫酸的表面活化。在進行了超導(dǎo)層30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的氧化處理后，如圖3B所示，從超導(dǎo)線1A取下遮蔽帶60。接著，如圖3C所示，包含氧化銅層70對銅穩(wěn)定化層44的整個表面進行氧化處理。作為對整個表面進行氧化處理的方法，采取與超導(dǎo)線30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的氧化處理的方法相同的方法在節(jié)省人力方面優(yōu)選，但也可以用與超導(dǎo)線30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的氧化處理的方法不同的方法進行氧化處理。由此，如圖2A所示，在銅穩(wěn)定化層44的周圍形成作為絕緣層50的金屬氧化物絕緣部(銅氧化物層)，從而得到超導(dǎo)線1。并且，金屬氧化物絕緣部具有形成于超導(dǎo)層30側(cè)的第1金屬氧化物絕緣部50C和形成于基板10側(cè)的第2金屬氧化物絕緣部50D，第1金屬氧化物絕緣部50C的厚度比第2金屬氧化物絕緣部50D的厚度大，例如如果將兩次浸漬條件設(shè)為相同，則厚度變?yōu)槠浯蠹s2倍。其結(jié)果，第1金屬氧化物絕緣部50C由于厚度較大而看到為較深的黑色，第2金屬氧化物絕緣部50D由于厚度較小而看到為較淺的黑色，看起來顏色相互不同，從而能夠識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。此外，可以連續(xù)進行銅穩(wěn)定化層44的形成工序和氧化處理工序。該情況下，準備銀穩(wěn)定化層42處于最表面的超導(dǎo)線。將該超導(dǎo)線在過硫酸鈉100g/L、硫酸50g/L的溶液中以室溫浸漬30秒，對銀穩(wěn)定化層42的表面進行化學(xué)粗化，之后進行水洗。并且，將水洗后的超導(dǎo)線浸漬到硫酸銅180～250g/L、硫酸45～65g/L、氯化物離子20～60mg/L的溶液中，在室溫下對超導(dǎo)線進行鍍覆處理，從而形成銅穩(wěn)定化層44。一邊使超導(dǎo)線輸送一邊在單面上實施遮蔽(masking)，對沒有進行遮蔽的面涂覆發(fā)黑劑。將此時的浸漬溫度設(shè)為90℃、浸漬時間設(shè)為30秒。在水洗和干燥后解除遮蔽，能夠?qū)Τ瑢?dǎo)線進行氧化處理即可。然后，說明上述金屬氧化物絕緣部的制造方法的另一例。圖4A～圖4C是示出金屬氧化物絕緣部的另一制造工序的一部分的圖。另外，圖中的虛線表示在銅穩(wěn)定化層44中被氧化的區(qū)域的邊界線或被氧化的區(qū)域的邊界線，實際上無法視覺辨認。作為使第1金屬氧化物絕緣部50C的表面形狀與第2金屬氧化物絕緣部50D的表面形狀不同(可見區(qū)域的反射率)不同的方法，能夠通過調(diào)制用于形成銅穩(wěn)定化層44的鍍覆液，控制銅穩(wěn)定化層44的表面形狀。例如，如圖4A那樣，在依次用銀穩(wěn)定化層42和銅穩(wěn)定化層44覆蓋了基板10、中間層20和超導(dǎo)層30的周圍的處理前的超導(dǎo)線1B中，用遮蔽帶60被覆除超導(dǎo)線30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的表面以外的銅穩(wěn)定化層44的周圍，在表面硫酸鈉100g/L、 硫酸50g/L的溶液中以室溫浸漬30秒，對超導(dǎo)層30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的表面進行化學(xué)粗化，并進行水洗。之后，浸漬到由硫酸鎳(NiSO4·5H2O)100g/L(作為Ni為24g/L)、硫酸銅(CuSO4·5H2O)4g/L(作為Cu為1g/L)構(gòu)成的鍍覆液(pH4.5、30℃)，陽極使用作為不溶性陽極的鍍鉑鈦網(wǎng)，以電流密度2A/dm2進行20秒期間的電解，在電解后進行水洗和干燥。由此，如圖4B那樣，在超導(dǎo)層30側(cè)的銅穩(wěn)定化層44的表面上，形成表面形狀與被遮蔽的銅穩(wěn)定化層44不同的銅層(呈現(xiàn)均勻黑色的銅層)80。并且，如圖4B所示，從超導(dǎo)線1A取下遮蔽帶60。接著，如圖4C所示，包含銅層(呈現(xiàn)均勻黑色的銅層)80對銅穩(wěn)定化層44的整個表面進行氧化處理。由此，如圖2A所示，在銅穩(wěn)定化層44的周圍形成作為絕緣層50的金屬氧化物絕緣部(銅氧化物層)，得到超導(dǎo)線1。并且，金屬氧化物絕緣部具有形成于超導(dǎo)層30側(cè)的第1金屬氧化物絕緣部50C和形成于基板10側(cè)的第2金屬氧化物絕緣部50D，銅層80的顏色比其他穩(wěn)定化層44的顏色深(反射率低)，因此通過進行相同的氧化處理，第1金屬氧化物絕緣部50C的顏色(反射率)比第2金屬氧化物絕緣部50D的淺(低)。其結(jié)果，第1金屬氧化物絕緣部50C在可見區(qū)域的反射率比第2金屬氧化物絕緣部50D低，看到為較淺的黑色，通過使第1金屬氧化物絕緣部50C與第2金屬氧化物絕緣部50D看起來彼此顏色不同，從而能夠識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)。<變形例>此外，雖然就特定的實施方式詳細說明了本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于這些實施方式，在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以存在其他各種實施方式，這對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的，例如可以適當?shù)亟M合上述多種實施方式來實施。此外，還可以適當組合以下的變形例。例如，可以不僅如上述實施方式那樣識別基板10側(cè)和超導(dǎo)層30側(cè)，而在絕緣層50的金屬氧化物絕緣部上具有端部識別部，用于識別超導(dǎo)線1的長度L方向的一端部和另一端部或超導(dǎo)線1的短邊方向的一端部和另一端部。例如，如果能夠識別長度L方向的一端部和另一端部，則在掌握從一端部到另一端部的特性變化表時等是有用的。此外，如果能夠識別短邊方向的一端部和另一端部，則在確定破損時等是有用的。該情況下，從不增加其他處理工序的觀點出發(fā)，優(yōu)選對進行氧化處理而形成的第 1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D的一部分進一步進行氧化處理而使顏色改變(進一步加深顏色)，設(shè)置圖5A所示的那樣的沿短邊方向延伸的直線狀的端部識別部80或圖5B所示的那樣的沿長度L方向延伸的直線狀的端部識別部82。此外，在實施方式中，在使用銅穩(wěn)定化層進行氧化處理時，對銅元素進行氧化而得到了銅氧化物，但也可以取代銅穩(wěn)定化層，或在銅穩(wěn)定化層的表面配置鈷或鐵等的金屬層，對鈷或鐵等其他金屬元素進行氧化。該情況下，有時金屬氧化物絕緣部不是在實施方式中說明的黑色，而看到為藍色或茶色。此外，如在實施方式中所說明那樣，對第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D的顏色通過彼此顏色深淺而不同的情況進行了說明，但也可以按照彼此顏色種類不同的方式來設(shè)法進行氧化。具體而言，對氧化處理法進行調(diào)整，改變第1金屬氧化物絕緣部50C和第2金屬氧化物絕緣部50D的金屬價數(shù)，例如考慮取代銅穩(wěn)定化層，或在銅穩(wěn)定化層的表面配置鐵的金屬層，將第1金屬氧化物絕緣部50C設(shè)為看到為黑色的Fe3O4，并且將第2金屬氧化物絕緣部50D設(shè)為看到為紅色的Fe2O3等。此外，可以省略中間層20的全部或一部分(LMO層26等)。