專利名稱：光罩、平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法以及平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)的制作方法
光罩、平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法以及平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種光罩、導(dǎo)線的制作方法以及導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，尤指一種可應(yīng)用于制作平面顯示面板的導(dǎo)線的光罩、一種平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法以及一種平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在已知的平面顯示面板相關(guān)技術(shù)中，于平面顯示面板的顯示區(qū)以外的周圍區(qū)中設(shè)置有許多導(dǎo)線。經(jīng)由上述導(dǎo)線可將訊號(hào)由外部元件例如驅(qū)動(dòng)IC傳遞至顯示區(qū)中的各顯示單元以呈現(xiàn)各種顯示畫面。
目前業(yè)界用來形成導(dǎo)線的方法，一般先于導(dǎo)電材料上涂布光阻層，經(jīng)由具有圖案的光罩搭配曝光顯影工藝來形成光阻圖案，未被光阻圖案所覆蓋的導(dǎo)電材料于后續(xù)的蝕刻工藝時(shí)會(huì)被移除，而被光阻圖案所覆蓋區(qū)域經(jīng)蝕刻工藝后則可形成導(dǎo)線。由于平面顯示器的解析度要求越來越高，相對(duì)的導(dǎo)線所需設(shè)置的數(shù)目也越來越多。在有限的周邊區(qū)之內(nèi)或甚至于窄邊框設(shè)計(jì)的需求下，有效地縮減導(dǎo)線所占區(qū)域的面積為目前業(yè)界所努力的方向之一。導(dǎo)線所占的面積主要由導(dǎo)線的線寬與間距所組合而成。導(dǎo)線本身受限于材料阻抗以及整體電性需求而必須有一定的線寬，導(dǎo)線間的間距則受限于一般光罩與曝光機(jī)臺(tái)的解析度極限而無法盡可能地縮小。舉例來說，當(dāng)一般曝光機(jī)的解析度約為3. 5至4. 0微米時(shí)，搭配使用的光罩上的遮光圖案間距若小于3. 5微米，即可能發(fā)生光阻未曝完全而導(dǎo)致殘留的現(xiàn)象。因此，在已知的光罩與曝光機(jī)臺(tái)搭配下，導(dǎo)線間的間距無法更進(jìn)一步地縮小。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的之一在于提供一種光罩、平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法以及平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，利用于光罩的遮光圖案中設(shè)置透光狹縫，以縮小可制作的導(dǎo)線間的間距，進(jìn)而使平面顯示面板的周邊區(qū)縮小，實(shí)現(xiàn)具有窄邊框設(shè)計(jì)的平面顯示面板。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種光罩，包括一透光基板、數(shù)個(gè)遮光圖案以及至少一透光區(qū)。遮光圖案設(shè)置于透光基板上。各遮光圖案具有至少一透光狹縫， 大體上與各遮光圖案的一邊緣平行設(shè)置。透光區(qū)位于兩相鄰的遮光圖案之間。兩相鄰的遮光圖案具有一間距，各遮光圖案具有一第一寬度，且第一寬度與相鄰的遮光圖案間之間距的和大體上小于或等于12微米。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，包括下列步驟。首先，提供一基板。接著，于基板上形成一導(dǎo)電層。然后，形成一光阻材料，覆蓋導(dǎo)電層。之后，利用一光罩，對(duì)光阻材料進(jìn)行一曝光顯影工藝，以形成一光阻圖案。 然后，利用光阻圖案對(duì)導(dǎo)電層進(jìn)行一第一蝕刻工藝，以形成數(shù)條導(dǎo)線。上述的光罩包括一透光基板、數(shù)個(gè)遮光圖案以及至少一透光區(qū)。遮光圖案設(shè)置于透光基板上。各遮光圖案具有至少一透光狹縫，大體上與各遮光圖案的一邊緣平行設(shè)置。透光區(qū)位于兩相鄰的遮光圖案之間。兩相鄰的遮光圖案具有一間距，各遮光圖案具有一第一寬度，且第一寬度與相鄰的遮 光圖案間之間距的和大體上小于或等于12微米。為達(dá)上述目的，本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，其包 括一基板以及數(shù)條導(dǎo)線。導(dǎo)線設(shè)置于基板上，且各導(dǎo)線的一寬度與各導(dǎo)線間的一間距之和 大體上小于或等于12微米。本發(fā)明利用于光罩的遮光圖案的邊緣設(shè)置透光狹縫，藉以增加預(yù)計(jì)曝光區(qū)域的透 光度，進(jìn)而縮小利用此光罩制作的導(dǎo)線的間距，使具有此導(dǎo)線設(shè)置的平面顯示面板的周邊 區(qū)范圍得以縮小，使得平面顯示面板可適用于窄邊框的設(shè)計(jì)。


圖1繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的光罩的部分上視示意圖。圖2繪示了本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例的光罩的部分上視示意圖。圖3至圖5繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示意 圖。圖6與圖7繪示了本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示 意圖。圖8至圖9繪示了本發(fā)明的又一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示 意圖。圖10繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的上視示意圖。主要元件符號(hào)說明101 光罩102 光罩110 透光基板 120 遮光圖案120P 間距120S 邊緣120W 第一寬度 125 透光狹縫125D 距離125W 第二寬度130 透光區(qū) 130W 第三寬度140 遮光圖案 140P 間距140S 邊緣140W 第一寬度145 透光狹縫 14OT 距離145W 第二寬度 150 遮光圖案150S 邊緣150W 第三寬度155 透光狹縫 15OT 距離155W 第二寬度 160 透光區(qū)160W 第三寬度 200 導(dǎo)線結(jié)構(gòu)210 基板220 導(dǎo)電層221 導(dǎo)線22IP 間距22IW 寬度290 光阻材料290P 光阻圖案301 導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302 導(dǎo)線結(jié)構(gòu)330 介電層
340半導(dǎo)體層341半導(dǎo)體圖案341P間距341W寬度350導(dǎo)電層351導(dǎo)線35IP間距35IW寬度900平面顯示面板 901顯示區(qū)902周邊區(qū)
具體實(shí)施例方式為使熟習(xí)本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的一般技藝者能更進(jìn)一步了解本發(fā)明，下文特列舉本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，詳細(xì)說明本發(fā)明的構(gòu)成內(nèi)容及所欲達(dá)成的功效。請(qǐng)參考圖1。圖1繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的光罩的部分上視示意圖。為了方便說明，本發(fā)明的各圖式僅為示意以更容易了解本發(fā)明，其詳細(xì)的比例可依照設(shè)計(jì)的需求進(jìn)行調(diào)整。如圖1所示，本實(shí)施例提供一種光罩101，用以制作一平面顯示面板的導(dǎo)線。 光罩101包括一透光基板110、數(shù)個(gè)遮光圖案120以及至少一透光區(qū)130。遮光圖案120設(shè)置于透光基板110上，且各遮光圖案120具有至少一透光狹縫125。透光狹縫125大體上與各遮光圖案120的一邊緣120S平行設(shè)置。透光區(qū)130位于兩相鄰的遮光圖案120之間。在本實(shí)施例中，用以形成遮光圖案120的材料可包括光吸收材料例如金屬氮化物、金屬硅化物、氮化鉭(tantalum nitride, TaN)、鉻(chromium, Cr)、娃化銷(molybdenum silicide, MoSix)的其中至少一者所組成或由上述材料的復(fù)合層所組成，但并不以此為限。兩相鄰的遮光圖案120具有一間距120P，各遮光圖案120具有一第一寬度120W，且第一寬度120W與相鄰的遮光圖案120間之間距120P的和大體上小于或等于12微米。此外，透光狹縫125具有一第二寬度125W，透光狹縫125與遮光圖案120的邊緣120S間具有一距離125D。在本實(shí)施例中，第二寬度125W的大小較佳小于或等于1. 2微米，且距離125D的大小較佳小于或等于1. 0微米，但并不以此為限。另外，透光區(qū)130具有一第三寬度130W，第三寬度130W大體上相等于各遮光圖案120間之間距120P，且第三寬度130W大體上小于或等于2. 5微米。 透過本實(shí)施例的透光狹縫125的設(shè)置以及第二寬度125W與距離125D大小的控制與搭配， 可在透光區(qū)130的第三寬度130W以及遮光圖案120間之間距120P小于或等于2. 5微米的狀況下，達(dá)到窄間距的曝光效果。更進(jìn)一步地說，各遮光圖案120的透光狹縫125可有助于透光區(qū)130于進(jìn)行曝光工藝時(shí)的曝光效果，使得不需增加整體的曝光能量即可獲得所需的具有窄間距的光阻圖案(圖未示)。此外，本實(shí)施例的遮光圖案120為一長(zhǎng)直條狀圖案，但本發(fā)明并不以此為限而可具有不同形狀的遮光圖案。請(qǐng)參考圖2。圖2繪示了本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例的光罩的部分上視示意圖。如圖2所示，本實(shí)施例的光罩102與上述的光罩101相異的處在于，光罩102包括一遮光圖案 140、一遮光圖案150以及一透光區(qū)160。值得說明的是，遮光圖案140與遮光圖案150彼此相連以形成一類似S型蜿蜒的圖案。也就是說，本實(shí)施例的光罩102可利用來形成一類似S 型蜿蜒的導(dǎo)線，此類導(dǎo)線可用于調(diào)整各導(dǎo)線之間的等電阻狀況，但并不以此為限。此外，本實(shí)施例的遮光圖案140與遮光圖案150可分別具有一透光狹縫145以及一透光狹縫155。 透光狹縫145大體上與遮光圖案140的一邊緣140S平行設(shè)置，透光狹縫155大體上與遮光圖案150的一邊緣150S平行設(shè)置。透光區(qū)160位于兩相鄰的遮光圖案140與遮光圖案150之間。兩相鄰的遮光圖案140與遮光圖案150之間具有一間距140P，遮光圖案140具有一第一寬度140W，遮光圖案150具有一第一寬度150W。第一寬度140W與間距140P之和大體上小于或等于12微米，且第一寬度150W與間距140P之和大體上亦小于或等于12微米。此夕卜，透光狹縫145具有一第二寬度145W，且透光狹縫155具有一第二寬度155W。透光狹縫 145與遮光圖案140的邊緣140S間具有一距離145D，且透光狹縫155與遮光圖案150的邊緣150S間具有一距離155D。第二寬度145W與第二寬度155W的大小較佳分別小于或等于 1. 2微米，且距離145D與距離155D的大小較佳分別小于或等于1. 0微米，但并不以此為限。 另外，透光區(qū)160具有一第三寬度160W，第三寬度160W大體上相等于遮光圖案140與遮光圖案150之間的間距140P，且第三寬度160W大體上小于或等于2. 5微米。本實(shí)施例的光罩102除了各遮光圖案的形狀外，其余各部件的特征與材料特性與上述較佳實(shí)施例的光罩 101相似，故在此并不再贅述。請(qǐng)參考圖3至圖5，并請(qǐng)一并參考圖1。圖3至圖5繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示意圖。首先，如圖3所示，提供一基板210，并于基板 210上形成一導(dǎo)電層220。接著，形成一光阻材料四0，覆蓋導(dǎo)電層220。然后，如圖4所示， 利用一光罩101，對(duì)光阻材料290進(jìn)行一曝光顯影工藝，以形成一光阻圖案^0P。之后，利用光阻圖案對(duì)導(dǎo)電層220進(jìn)行一第一蝕刻工藝，以形成如圖5所示的數(shù)條導(dǎo)線221。 本實(shí)施例的導(dǎo)電層220較佳可包括金屬材料例如鋁、銅、銀、鉻、鈦、鉬的其中至少一者、上述材料的復(fù)合層或上述材料的合金，但并不以此為限而可使用其他具有導(dǎo)電性質(zhì)的材料。 此外，本實(shí)施例的光阻材料290較佳可包括一正型光阻材料，但本發(fā)明并不以此為限。本實(shí)施例所使用的光罩101的相關(guān)特征已于上述實(shí)施例中說明，在此并不再贅述。值得說明的是，本實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法亦可視需要使用上述的光罩102來進(jìn)行曝光顯影工藝，以獲得所需的導(dǎo)線圖案。經(jīng)由上述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，即可獲得如圖5所示的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200。換句話說，導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200包括基板210以及數(shù)條導(dǎo)線221。 導(dǎo)線221設(shè)置于基板210上，各導(dǎo)線221的寬度221W與各導(dǎo)線221間之間距221Ρ的和大體上小于或等于12微米，且各導(dǎo)線221間之間距221Ρ大體上小于或等于5微米，但并不以此為限。另請(qǐng)注意，本實(shí)施例的導(dǎo)電層220直接形成于基板210上，故本實(shí)施例的導(dǎo)電層 220可與一般底部柵極薄膜晶體管(bottom gate thin film transistor)的第一層金屬層(metal 1)的工藝整合，也就是說本實(shí)施例的各導(dǎo)線221可與一底部柵極薄膜晶體管的柵極電極與柵極線以同一導(dǎo)電層及同一黃光蝕刻工藝所形成，但并不以此為限。值得說明的是，如圖4與圖1所示，經(jīng)由光罩101的透光狹縫125的設(shè)置，可使光阻圖案^OP間的空隙不會(huì)因?yàn)楂@得的曝光能量不足而導(dǎo)致光阻殘留的現(xiàn)象發(fā)生，因此可獲得間距較小的光阻圖案^OP,進(jìn)而可以此制作小間距的導(dǎo)線221。請(qǐng)參考圖6與圖7。圖6與圖7繪示了本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示意圖。首先，如圖6所示，提供一基板210，并于基板210上形成一介電層330。然后，于介電層330上形成一導(dǎo)電層350。接著，形成一光阻材料四0，覆蓋導(dǎo)電層350。然后，利用一光罩101，對(duì)光阻材料290進(jìn)行一曝光顯影工藝，以形成一光阻圖案 290P。之后，利用光阻圖案對(duì)導(dǎo)電層350進(jìn)行一蝕刻工藝，以形成如圖7所示的數(shù)條導(dǎo)線351。本實(shí)施例的導(dǎo)電層350較佳可包括金屬材料例如鋁、銅、銀、鉻、鈦、鉬的其中至少一者、上述材料的復(fù)合層或上述材料的合金，但并不以此為限而可使用其他具有導(dǎo)電性質(zhì)的材料。本實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法除了于基板210與導(dǎo)電層350之間形成介電層330之外，其余的特征與上述較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法相似，在此并不再贅述。值得說明的是，經(jīng)由上述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，即可獲得如圖7所示的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301。換句話說，導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301包括基板210以及數(shù)條導(dǎo)線351。 導(dǎo)線351設(shè)置于介電層330之上，各導(dǎo)線351的寬度351W與各導(dǎo)線351間之間距351P的和大體上小于或等于12微米，且各導(dǎo)線351間之間距351P大體上小于或等于5微米，但并不以此為限。另請(qǐng)注意，本實(shí)施例的導(dǎo)電層350形成于介電層330之上，故本實(shí)施例的導(dǎo)電層350可與一般底部柵極薄膜晶體管的第二層金屬層(metal 2)的工藝整合，也就是說本實(shí)施例的各導(dǎo)線351可與一底部柵極薄膜晶體管的源極/漏極電極與資料線以同一導(dǎo)電層及同一黃光蝕刻工藝所形成，但并不以此為限。請(qǐng)參考圖8與圖9。圖8至圖9繪示了本發(fā)明的又一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法示意圖。如圖8所示，與上述實(shí)施例不同之處在于，本實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法更包括于導(dǎo)電層350形成步驟之前，于基板210以及介電層330上形成一半導(dǎo)體層340。接著，于半導(dǎo)體層上依序形成導(dǎo)電層350以及光阻材料四0。然后，利用光罩101，對(duì)光阻材料290進(jìn)行一曝光顯影工藝，以形成光阻圖案^0P。之后，利用光阻圖案^OP對(duì)導(dǎo)電層350進(jìn)行一第一蝕刻工藝以及對(duì)半導(dǎo)體層340進(jìn)行一第二蝕刻工藝，以分別形成如圖9所示的數(shù)條導(dǎo)線351以及數(shù)條半導(dǎo)體圖案341。本實(shí)施例的半導(dǎo)體層340 可包括非晶硅半導(dǎo)體材料、多晶硅半導(dǎo)體材料、有機(jī)半導(dǎo)體材料或氧化物半導(dǎo)體材料，但并不以此為限。本實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法除了半導(dǎo)體層340的形成外，其余的特征與上述較佳實(shí)施例的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法相似，在此并不再贅述。值得說明的是，經(jīng)由上述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，即可獲得如圖9所示的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302。換句話說，導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302包括基板210、數(shù)條導(dǎo)線351以及數(shù)條半導(dǎo)體圖案341。各半導(dǎo)體圖案341位于基板210與導(dǎo)線351之間并分別與各導(dǎo)線351對(duì)應(yīng)設(shè)置。此外，在本實(shí)施例中，各半導(dǎo)體圖案341間的一間距341P較佳大體上小于或等于3微米，各導(dǎo)線351 間之間距351P較佳大體上小于或等于7微米，且各導(dǎo)線351的寬度351W與各導(dǎo)線351間之間距351P的和較佳大體上小于或等于12微米，但并不以此為限。此外，由于使用同一光阻圖案來形成導(dǎo)線351以及半導(dǎo)體圖案341，且用來形成半導(dǎo)體圖案341的第二蝕刻工藝一般較佳為一干式蝕刻工藝，故半導(dǎo)體圖案341的一寬度341W大體上大于導(dǎo)線351的寬度351W，但并不以此為限。另請(qǐng)注意，由于本實(shí)施例的導(dǎo)線351以及半導(dǎo)體圖案341使用同一光阻圖案^OP來形成，故本實(shí)施例的制作方法可與一般四道光罩G masks process) 的薄膜晶體管的工藝進(jìn)行整合，但并不以此為限。請(qǐng)參考圖10，并一并參考圖5、圖7以及圖9。圖10繪示了本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的平面顯示面板的上視示意圖。如圖10所示，本實(shí)施例的平面顯示面板900包括一顯示區(qū)901以及一周邊區(qū)902，且周邊區(qū)902位于顯示區(qū)901的外圍，周邊區(qū)902舉例環(huán)繞顯示區(qū)901。此外，平面顯示面板900更包括數(shù)個(gè)導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200、數(shù)個(gè)導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301或數(shù)個(gè)導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302設(shè)置于周邊區(qū)902。導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200、導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301以及導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302的特征已于上述內(nèi)容說明，在此并不再贅述。值得說明的是，由于導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200、導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301以及導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302中的各導(dǎo)線間距可經(jīng)由上述的光罩101或光罩102而縮小，故可使導(dǎo)線結(jié)構(gòu)200、導(dǎo)線結(jié)構(gòu)301以及導(dǎo)線結(jié)構(gòu)302所需的空間亦隨的縮小，因此可使平面顯示面板900的周邊區(qū)902得以變小，達(dá)到窄邊框設(shè)計(jì)的效果。綜合以上所述，本發(fā)明利用于光罩的遮光圖案邊緣設(shè)置透光狹縫，并經(jīng)由調(diào)整與控制透光狹縫的寬度以及透光狹縫與遮光圖案邊緣間的距離，可在遮光圖案之間距縮小的狀況下，改善窄間距的曝光效果，進(jìn)而縮小利用此光罩制作的導(dǎo)線間距，使具有此導(dǎo)線設(shè)置的平面顯示面板的周邊區(qū)得以縮小而可適用于窄邊框的設(shè)計(jì)。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明權(quán)利要求書所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種光罩，包括一透光基板；數(shù)個(gè)遮光圖案，設(shè)置于該透光基板上，各該遮光圖案具有至少一透光狹縫，大體上與各該遮光圖案的一邊緣平行設(shè)置；以及至少一透光區(qū)，位于兩相鄰的所述遮光圖案之間；其中兩相鄰的所述遮光圖案具有一間距，各該遮光圖案具有一第一寬度，且該第一寬度與相鄰的該遮光圖案間的該間距的和大體上小于或等于12微米。
2.如權(quán)利要求1所述的光罩，其中該透光狹縫具有一第二寬度，且該第二寬度大體上小于或等于1.2微米。
3.如權(quán)利要求1所述的光罩，其中該透光狹縫與該遮光圖案的該邊緣間具有一距離， 且該距離大體上小于或等于1.0微米。
4.如權(quán)利要求1所述的光罩，其中該透光區(qū)具有一第三寬度，該第三寬度大體上相等于各該遮光圖案間的該間距，且該第三寬度大體上小于或等于2. 5微米。
5.如權(quán)利要求1所述的光罩，其中至少部分的所述遮光圖案彼此相連。
6.一種平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，包括提供一基板；于該基板上形成一導(dǎo)電層；形成一光阻材料，覆蓋該導(dǎo)電層；利用如權(quán)利要求1所述的光罩，對(duì)該光阻材料進(jìn)行一曝光顯影工藝，以形成一光阻圖案；以及利用該光阻圖案對(duì)該導(dǎo)電層進(jìn)行一第一蝕刻工藝，以形成數(shù)條導(dǎo)線。
7.如權(quán)利要求6所述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，其中各該導(dǎo)線的一寬度與各該導(dǎo)線間的一間距的和大體上小于或等于12微米。
8.如權(quán)利要求6所述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，其中各該導(dǎo)線的一間距大體上小于或等于5微米。
9.如權(quán)利要求6所述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，另包括于該導(dǎo)電層形成步驟之前，于該基板上形成一半導(dǎo)體層；以及利用該光阻圖案對(duì)該半導(dǎo)體層進(jìn)行一第二蝕刻工藝，以形成數(shù)條半導(dǎo)體圖案。
10.如權(quán)利要求9所述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，其中各該半導(dǎo)體圖案間的一間距大體上小于或等于3微米。
11.如權(quán)利要求9所述的平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法，其中各該導(dǎo)線間的一間距大體上小于或等于7微米。
12.—種平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，包括一基板；以及數(shù)條導(dǎo)線，設(shè)置于該基板上，其中各該導(dǎo)線的一寬度與各該導(dǎo)線間的一間距的和大體上小于或等于12微米。
13.如權(quán)利要求12所述的平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，其中各該導(dǎo)線間的該間距大體上小于或等于5微米。
14.如權(quán)利要求12所述的平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，更包括數(shù)條半導(dǎo)體圖案，位于該基板與所述導(dǎo)線之間并分別與各該導(dǎo)線對(duì)應(yīng)設(shè)置。
15.如權(quán)利要求14所述的平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，其中各該半導(dǎo)體圖案間的一間距大體上小于或等于3微米。
16.如權(quán)利要求14所述的平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，其中各該導(dǎo)線間的一間距大體上小于或等于7微米。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光罩，包括一透光基板、數(shù)個(gè)遮光圖案以及至少一透光區(qū)。遮光圖案具有至少一透光狹縫，與各遮光圖案的邊緣平行設(shè)置。各遮光圖案具有一第一寬度，且第一寬度與兩相鄰遮光圖案間間距的和小于或等于12微米。本發(fā)明亦提供一種利用上述光罩制作平面顯示面板的導(dǎo)線的制作方法以及一種平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)。平面顯示面板的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)包括數(shù)條導(dǎo)線。各導(dǎo)線的寬度與各導(dǎo)線間之間距的和小于或等于12微米。
文檔編號(hào)H01L23/522GK102495524SQ20111037298
公開日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月5日
發(fā)明者張名豪, 游偉盛 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司