專利名稱：：金屬膜的制造方法、金屬膜及其應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及金屬膜的制造方法、金屬膜及其應(yīng)用，特別是涉及能夠在任意的樹脂膜上低成本地形成數(shù)十nm數(shù)百nm膜厚的金屬膜，能夠作為濺鍍法(sputteringmethod)的代替方法使用的金屬膜的制造方法、使用該方法制造的金屬膜及其應(yīng)用。
背景技術(shù)：
：在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或玻璃等的電絕緣性的透明基材上，層疊有透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電層疊體，作為用來形成具有透明性的電極和布線的材料，被廣泛應(yīng)用于液晶顯示器以及電致發(fā)光元件(electroluminescenceelement)等的顯示元件的驅(qū)動電極、太陽能電池等的光電變換元件的窗式電極、或者觸摸面板(touchpanel)等的坐標(biāo)輸入裝置中的透明電極膜等中。作為在透明基材上形成透明導(dǎo)電膜的方法，已知的方法有真空蒸鍍法、離子鍍法(ion-platingmethod)、濺鍍法(sputteringmethod)、CVD法等，但從確保均勻性和確保與透明基材之間的緊密型的觀點來看，優(yōu)選濺鍍法(參考專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1:日本國專利申請公開，特開平9-150477號公報(1997年6月10日公開)
發(fā)明內(nèi)容但是，濺鍍法存在著因原料物質(zhì)的面內(nèi)均勻性不充分，從而難于實現(xiàn)透明導(dǎo)電膜的大口徑化的問題。為了提高面內(nèi)均勻性，現(xiàn)狀是在制造過程中只使用被濺鍍的原料物質(zhì)中居于中心部的約20%，其他的部分在產(chǎn)品中不被使用，堆積在照射面的周圍。因此，能夠容易地回收濺鍍了原料物質(zhì)的目標(biāo)產(chǎn)物，但周圍堆積的原料物質(zhì)必須刮去來進(jìn)行清除，包括回收步驟在內(nèi)的使用效率非常低，這是問題所在。同時，在形成透明導(dǎo)電膜的過程中廣泛使用的銦，其枯竭問題也受到重視，因此需要開發(fā)出能夠解決環(huán)境問題的，用來代替濺鍍法的技術(shù)。此外，使用濺鍍法制作金屬膜，存在著金屬膜容易產(chǎn)生裂紋，和對金屬膜進(jìn)行氧化時，例如使用玻璃基板時需要在300°C以上，使用PET基板時需要在150°C以上的高溫條件下進(jìn)行高溫退火(annealing)處理，在低溫條件下無法進(jìn)行氧化從而制造效率低的問題。此外，使用濺鍍法成膜時，在賦予精密結(jié)構(gòu)和布線形狀時，需要使用光刻法(photolithography)，但是光刻法需要使用高價的設(shè)備，并且存在著生產(chǎn)量(throughput)低的問題。本發(fā)明是鑒于所述問題點而進(jìn)行的，其目的在于，提供能夠在任意基板上低成本地形成金屬膜以及金屬圖案，能夠解決濺鍍法中存在的問題的金屬膜的制造方法、金屬膜及其應(yīng)用。本發(fā)明人鑒于所述課題，對含有對金屬(M2)離子具有良好負(fù)載性的官能團的底層組合物、促進(jìn)金屬(M2)離子在有機膜上的固定、防止固定在有機膜上的金屬(M2)溶解、提高金屬(M2)的還原效率、和提高各處理液在底層中的反應(yīng)性等進(jìn)行了深入的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)了能夠在任意的基板上，使用銦等的多種金屬良好并且簡單地形成金屬膜，同時能夠形成三維金屬布線圖案的金屬膜的制造方法，從而完成了本發(fā)明。也就是說，本發(fā)明的金屬膜的制造方法，其特征在于包括以下步驟將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基材或薄膜上，進(jìn)行聚合而形成有機膜的有機膜形成步驟；使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽的金屬鹽生成步驟；通過使用金屬(M2)離子水溶液，對所述通過含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的有機膜進(jìn)行處理，將所述酸性基團的金屬(Ml)鹽轉(zhuǎn)化為金屬(M2)鹽的金屬固定步驟，所述金屬(M2)離子水溶液含有離子化傾向比所述金屬(Ml)離子低的金屬(M2)離子；將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜的還原步驟；將所述金屬膜進(jìn)行氧化的氧化步驟。由本發(fā)明的制造方法的有機膜形成步驟所制造的有機膜，能夠呈現(xiàn)出歸因于具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物的大體積的三維結(jié)構(gòu)(以下，也稱為"蓬松(bulky)結(jié)構(gòu)")。通過呈現(xiàn)所述蓬松結(jié)構(gòu)，所述有機膜能夠在其膜內(nèi)空間固定多個金屬(M2)離子。因此，可以認(rèn)為所述有機膜能夠固定多個金屬離子。此外從結(jié)構(gòu)上講，能夠?qū)⑦€原劑充分運送到有機膜的內(nèi)部，因此能夠在膜內(nèi)部進(jìn)行金屬(M2)離子的還原。而且，所述具有親水性官能團的加成聚合性化合物，能夠改善所述有機膜的親水性，使各種處理液，也就是含有金屬(Ml)離子的水溶液、含有金屬(M2)離子的金屬(M2)離子水溶液、以及還原劑水溶液深入到所述有機膜的內(nèi)部發(fā)揮作用。也就是說，能夠使所述各處理液對所述有機膜更有效地發(fā)揮作用。此外，所述有機膜能夠通過紫外線照射發(fā)生硬化，因此對于耐熱性低的基板也能夠適用。并且，所述有機膜在金屬鹽生成步驟中，酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽，并且在金屬固定步驟中，使用含有比金屬(Ml)離子具有更低的離子化傾向的金屬(M2)離子的金屬離子水溶液進(jìn)行處理，憑借金屬(Ml)與金屬(M2)之間離子化傾向的差異，能夠高效率地固定金屬(M2)離子。如上所述，本發(fā)明的方法屬于濕法處理，能夠在基板上均勻地形成金屬(M2)的金屬膜，容易地實現(xiàn)透明導(dǎo)電膜的大口徑化。此外，本發(fā)明的方法能夠在電鍍槽(platingbath)中進(jìn)行處理，因此與濺鍍法相比金屬(M2)的使用效率得以大幅度的提高。并且，不使用光刻法就能夠在基板上容易地形成精密結(jié)構(gòu)和金屬布線等。因為具有這樣的特點，本發(fā)明所涉及的制造方法能夠在任意基板上均勻并且高效率地、低成本地制造透明性導(dǎo)電膜，該透明性導(dǎo)電膜能夠容易地加工成任意形狀。本發(fā)明所涉及的制造方法中，所述底層組合物，優(yōu)選為含有具有堿性基團的加成聚合性化合物。使用所述具有堿性基團的加成聚合性化合物，能夠使由本發(fā)明制造的金屬膜的導(dǎo)電性得以顯著提高。這可以認(rèn)為是因為堿性基團使底層組合物的表面與含有金屬(Ml)離子的水溶液的親和性得以提高，所以底層組合物與所述水溶液的反應(yīng)效率得以提高而引起的。也就是說，通過調(diào)節(jié)具有堿性基團的加成聚合性化合物的量，能夠控制金屬膜的電阻值。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述堿性基團是選自氨基、吡啶基、嗎啉基、苯胺基中的l個以上的官能團。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述氧化是通過紫外線、等離子體或紅外線照射金屬膜，或通過對金屬膜加溫而進(jìn)行的。經(jīng)過了還原步驟的金屬膜，是呈粒子狀的膜，粒子狀的形狀加速了金屬(M2)的氧化，使得在低溫下的氧化變得可能。因此，通過使用紫外線、等離子體、或紅外線照射金屬膜，能夠容易并且充分地使金屬膜氧化，使其透明化。此外，金屬膜的加溫也可以在低溫條件下(例如在14(TC條件下處理)進(jìn)行。也就是說，與需要高溫加熱的濺鍍法相比，能夠簡單地進(jìn)行氧化。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述酸性基團是選自羧基、磺酸基、酚基、苯甲酸基、鄰苯二甲酸基、水楊酸基、乙酰水楊酸基、苯磺酸基中的1個以上的官能團。這些官能團是強酸性的，并且具有吸電子基，所以包括這些官能團的氧化基團，能夠容易地進(jìn)行金屬(Ml)離子與金屬(M2)離子之間的離子交換，成為更容易固定金屬(M2)的基團。因此，能夠更高效率地制造金屬膜。本發(fā)明所涉及的制造方法中，所述具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物的反應(yīng)基團，優(yōu)選包含丙烯?；?或甲基丙烯?；?。丙烯?；?或甲基丙烯酰基，是易于構(gòu)成蓬松結(jié)構(gòu)的官能團，因此以使將有機膜成為能夠固定更多個金屬離子、并且還原劑更容易進(jìn)入到內(nèi)部的結(jié)構(gòu)。因此，可以認(rèn)為能夠在更深的內(nèi)部，對金屬(M2)離子進(jìn)行還原。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述親水性官能團包含環(huán)氧乙烷基和/或環(huán)氧丙烷基。在親水性官能團中，環(huán)氧乙烷基和環(huán)氧丙烷基特別具有良好的改善所述有機膜親水性的能力，能夠使所述各處理液的作用，深入到所述有機膜的更深的內(nèi)部。因此，能夠使所述各處理液更加有效地作用于有機膜。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述金屬(Ml)離子為鉀或鈉。采用所述方案，由于鉀或鈉的離子化傾向非常大，因此與金屬(M2)之間的離子化傾向差異大，從而在所述金屬固定步驟中，更容易將金屬(M2)固定。因此，能夠更加高效率地制造金屬膜。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述金屬(M2)為銦、鋅、錫中所選的l種以上的金屬。這些金屬，作為透明導(dǎo)電膜的原料被廣泛應(yīng)用。采用所述方案，使用所述金屬制造的透明導(dǎo)電膜具有良好的面內(nèi)均勻性和緊密性，使所述金屬的使用效率得以提高。此外，能夠從使用過的金屬(M2)離子水溶液中容易地進(jìn)行回收，從而對解決銦枯竭的問題作出很大貢獻(xiàn)。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述金屬(M2)離子水溶液包含堿金屬和/或堿土金屬的離子。堿金屬和/或堿土金屬，其離子化傾向非常高。因此，通過使金屬(M2)離子水溶液中包含堿金屬和/或堿土金屬的離子，能夠在金屬固定步驟中進(jìn)一步促進(jìn)金屬(Ml)離子與金屬(M2)離子之間的離子交換。本發(fā)明所涉及的制造方法中，優(yōu)選所述金屬(M2)離子水溶液含有多元醇6(polyol)。通常情況下，因為金屬(M2)離子的比重大，所以特別是在高濃度時，即使與溶劑具有互溶性，仍然容易出現(xiàn)沉淀。而采用所述方案，則因為例如甘油等的多元醇的粘性高，所以通過將其包含在金屬(M2)離子水溶液中，金屬(M2)離子變得不容易發(fā)生沉淀。因此，在金屬固定步驟中，能夠更加高效率地進(jìn)行離子交換。本發(fā)明所涉及的制造方法中，在所述還原步驟中，優(yōu)選使用選自(1)(2)(3)中的1種以上的還原劑，和/或采用選自(4)中的l種以上的還原方法來進(jìn)行所述金屬(M2)離子的還原(1)抗壞血酸、抗壞血酸鈉、硼氫化鈉、二甲胺硼烷、三甲胺硼烷、檸檬酸、檸檬酸鈉、鞣酸、二硼烷、肼、甲醛、氫化鋁鋰，(2)(1)中的化合物的衍生物，(3)亞硫酸鹽、次磷酸鹽，(4)紫外線、熱、等離子體、氫。采用所述方案，能夠通過所述還原劑和紫外線等將金屬(M2)離子還原，所以使得金屬(M2)離子的金屬原子在有機膜表面析出。因此，能夠形成所要的有機膜。本發(fā)明所涉及的制造方法中，使用選自所述(1)(2)(3)中的l種以上的還原劑時，優(yōu)選在堿金屬和/或堿土金屬的存在下對所述金屬(M2)離子進(jìn)行還原。與本發(fā)明中所用的金屬(M2)相比，堿金屬和/或堿土金屬離子化傾向很大。因此，采用所述方案，能夠防止在金屬固定步驟中固定在有機膜上的金屬(M2)發(fā)生離子化并且溶解。因此，能夠更加高效率地制造金屬膜，并且能夠制造具有良好導(dǎo)電性的金屬膜。本發(fā)明所涉及的制造方法中，在所述還原步驟中，優(yōu)選與所述還原劑一起，使用醇和/或表面活性劑。在還原步驟中使用還原劑時，優(yōu)選通過使還原劑到達(dá)底層組合物的盡可能深的內(nèi)部，從而高效率地進(jìn)行還原反應(yīng)。而例如抗壞血酸等的水溶性還原劑，因為其具有水溶性，難于到達(dá)金屬膜以及底層組合物的內(nèi)部。采用所述方案，在還原步驟中，與所述還原劑一起使用醇和/或表面活性劑。源于醇和/或表面活性劑的親油性，能夠使水溶性還原劑與底層組合物容易發(fā)生親和，從而使底層組合物的內(nèi)部也能夠充分進(jìn)行還原。因此，能夠更加高效率地制造金屬膜。本發(fā)明所涉及的金屬膜的制造方法，是在所述有機膜的形成步驟中，優(yōu)選通過印刷或納米壓印法(nano-imprint)賦予形狀。采用本發(fā)明的方法，將所述底層組合物通過噴墨印刷(inkjet)或絲網(wǎng)印刷(screenprinting)等方法涂布到任意的基板上，能夠簡單地使之發(fā)生硬化，因此能夠通過印刷或者納米壓印法等的簡單的方法賦予有機膜形狀。因此，能夠不使用需要高價的設(shè)備的光刻法而形成金屬布線，高生產(chǎn)能力、低成本、并且簡單地實現(xiàn)金屬布線。本發(fā)明所涉及的金屬膜，是采用本發(fā)明的金屬膜的制造方法所制造的。所述制造方法，如上所述，能夠在任意的基板上高效率地形成金屬膜。因此本發(fā)明所涉及的金屬膜，是在任意的基板上形成的，具有良好的面內(nèi)均勻性和高度緊密型，其電阻值從低電阻到比較高的電阻，是能夠控制的。因此，作為電氣設(shè)備、電子設(shè)備、電子元件、傳感器等的組成材料，特別是透明導(dǎo)電膜的組成材料是非常有用的。本發(fā)明所涉及的電氣設(shè)備和電子設(shè)備，具備由本發(fā)明的金屬膜制造方法所制造的金屬膜。所述的金屬膜，能夠均勻并且緊密地形成于任意的基板上，膜厚為數(shù)十納米數(shù)百7納米，其電阻值從低電阻到比較高的電阻，是能夠控制的，特別是具有作為透明導(dǎo)電膜的優(yōu)良性能。因此，本發(fā)明所涉及的電氣設(shè)備和電子設(shè)備，例如觸摸面板、開關(guān)以及太陽能電池板等，可以適用于比通常的透明導(dǎo)電膜更要求具有高電阻的模擬式觸摸面板中。結(jié)合以下的敘述，能夠充分地理解本發(fā)明的其他目的、特點、以及優(yōu)點。此外，通過參照附圖進(jìn)行的下述說明，能夠更加明確本發(fā)明的優(yōu)勢。圖1是固定了金屬膜的載玻片的外觀照片，其中，圖l(a)顯示了進(jìn)行氧化步驟之前的外觀，圖l(b)顯示了氧化步驟之后的外觀。具體實施例方式以下對本發(fā)明的具體實施方式進(jìn)行說明，但本發(fā)明不受這些實施方式的限制。[本發(fā)明所涉及的金屬膜的制造方法]在一個實施方式中，本發(fā)明所涉及的金屬膜的制造方法，包括以下步驟將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基材或薄膜上，進(jìn)行聚合而形成有機膜的有機膜形成步驟；使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽的金屬鹽生成步驟；通過使用金屬(M2)離子水溶液，對所述通過含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的有機膜進(jìn)行處理，將所述酸性基團的金屬(Ml)鹽轉(zhuǎn)化為金屬(M2)鹽的金屬固定步驟，所述金屬(M2)離子水溶液含有離子化傾向比所述金屬(Ml)離子低的金屬(M2)離子；將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜的還原步驟；將所述金屬膜進(jìn)行氧化的氧化步驟。以下對所述各步驟進(jìn)行說明。(1-1.有機膜形成步驟)有機膜形成步驟，是將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基材或薄膜上，進(jìn)行聚合而形成有機膜的步驟。所述底層組合物，可以含有具有堿性基團的加成聚合性化合物。所述底層組合物，是用來形成底層(樹脂膜)的，在后文的金屬固定步驟中導(dǎo)入的金屬(M2)離子在所述底層表面析出，而形成所需要的金屬膜。所述包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有堿性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物，在1個分子里面有1個以上的聚合性不飽和鍵，特別是聚合性雙鍵。此外，在本說明書中"加成聚合性化合物"，指的是能夠通過UV、等離子體、EB等的活性能進(jìn)行加成聚合的化合物，可以是單體，也可以是寡聚物或多聚物。所述"具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物"，是用于對所述底層組合物賦予蓬松結(jié)構(gòu)的。通過使所述底層組合物呈現(xiàn)蓬松結(jié)構(gòu)，與聚酰亞胺相比，有機膜具有起因于該化合物的大體積的三維結(jié)構(gòu)(蓬松結(jié)構(gòu))，在后文的金屬固定步驟中，能夠在有機膜中固定更多個金屬(M2)離子，同時使得膜中的該金屬(M2)離子處于容易與還原劑和紫外線相接觸的狀態(tài)下。所述"反應(yīng)基團"，指的是能夠進(jìn)行自由基聚合、陽離子聚合等加成聚合的加成聚合性反應(yīng)基團。作為所述反應(yīng)基團，沒有特殊限制，能夠使用例如丙烯?；⒓谆；?、丙烯酰胺基、乙烯基、烯丙基等。其中，特別優(yōu)選使用容易構(gòu)成蓬松結(jié)構(gòu)的官能團即丙烯酰基、甲基丙烯?；?，所述具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物的反應(yīng)基團，優(yōu)選包含丙烯?；?或甲基丙烯?；４送?，基于所述加成聚合性化合物的多個反應(yīng)基團所形成的分枝結(jié)構(gòu)，能夠?qū)λ黾映删酆闲曰衔镔x予蓬松結(jié)構(gòu)，因此所述反應(yīng)基團的個數(shù)只要在3個以上即可，沒有特殊限制。所述具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物，1分子中具有3個以上所述加成聚合性反應(yīng)基團即可，其結(jié)構(gòu)沒有特殊限制，例如可以舉例為以下通式(1)所表示的化合物。(Rl-R2)n-R3...............通式(1)(通式(1)中，n為3以上，Rl是選自丙烯酰基、甲基丙烯?；?、丙烯酰胺基、乙烯基、烯丙基中的加成聚合性反応基團，R2是例如酯基、烷基、酰胺基、環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基等的任意結(jié)構(gòu)，R3是C、烷基或C-0H。)所述具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物，具體來講，可以舉例為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropanetriacrylate)(作為出售中的試劑，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的TMP-A)，三丙烯酸季戊四醇酯(pentaerythritoltriacrylate)(作為出售中的試劑，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的PE-3A)，季戊四醇四丙烯酸酯(pentaerythritoltetraacrylate)(作為出售中的試劑，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的PE-4A)，二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)(作為出售中的試劑，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的DPE-6A)，三丙烯酸季戊四醇酯異佛樂酮二異氰酸酉旨尿焼予頁聚物(pentaerythritoltriacrylateisophoronediisocyanateurethanepr印olymer)(作為出售中的試劑，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的UA306I)，二季戊四醇五丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯尿烷預(yù)聚物(dipentaerythritolpentaacrylatehexamethylenediisocyanateurethanepr印olymer)(作為出售中的試齊U，例如有共榮社化學(xué)株式會社制造的UA-510H)等。此外，所述"具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物"，可以只使用一種，也可以將2種以上組合使用。在底層組合物中，所述"具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物"的含量沒有特殊限制，優(yōu)選相對于底層組合物的總量，為1重量％以上且60重量％以下，特別優(yōu)選為5重量％以上且50重量％以下。若增加所述加成聚合性化合物的含量，由于所述加成聚合性化合物具有蓬松結(jié)構(gòu)，因此底層組合物中對金屬(M2)離子的固定效果，以及金屬(M2)離子的還原效果增強，但在底層組合物中，具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有堿性基團的加成聚合性化合物、以及具有親水性官能團的加成聚合性化合物所占的比例減少，從而使得這些化合物的效果減弱。因此，底層組合物中所述"具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物"的含量，優(yōu)選在所述范圍內(nèi)。9所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"中的酸性基團，能夠以鹽的狀態(tài)負(fù)載金屬離子即可，沒有特殊限制。例如，可以舉例為酚基、苯甲酸基、苯磺酸基、羧基、磺酸基、羥基、鄰苯二甲酸基、水楊酸基、乙酰水楊酸基等。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，具有強酸性的酸性基團在對金屬離子的負(fù)載性上表現(xiàn)特別出色，在金屬膜的制造中是非常有效的。因此，所述酸性基團優(yōu)選為具有強酸性的酸性基團。作為這樣的具有強酸性的酸性基團，因為對金屬離子的負(fù)載性好，所以特別優(yōu)選為含有選自羧基、磺酸基、酚基、苯甲酸基、鄰苯二甲酸基、水楊酸基、乙酰水楊酸基以及苯磺酸基中的1個以上的官能團。所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"的酸性基團中，其中至少1個需要位于分子末端。所述"分子末端"，可以是主鏈的末端，也可以是側(cè)鏈的末端。在本發(fā)明的金屬鹽生成步驟中，金屬(Ml)離子需要被位于所述化合物分子末端的自由酸性基團捕獲，因此所述酸性基團中至少一個需要位于分子的末端。位于分子末端的酸性基團，在加成聚合反應(yīng)后也作為酸性基團存在于分子中，在后述的金屬鹽生成步驟中，通過使用含有金屬(Ml)離子的水溶液進(jìn)行處理，會形成金屬(Ml)的鹽。位于分子末端以外位置的酸性基，可以具有酯的形式。也就是說，"具有酸性基團的加成聚合性化合物"，只要在分子末端之外，可以具有所述酸性基團的酯基。作為構(gòu)成所述酯基的基團，酯鍵能夠被加水分解即可，沒有特殊限制。例如，可以舉例為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基等直鏈或具有支鏈的烷基，苯基等的1價芳香族烴基，異冰片基、金剛烷基等的1價脂環(huán)族烴基，全氟甲基、全氟乙基、全氟正丙基、全氟異丙基、全氟正丁基、全氟異丁基、全氟仲丁基、全氟叔丁基等直鏈或具有支鏈的全氟烷基，環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基等的醚基等。此外，"具有酸性基團的加成聚合性化合物"分子中，所述酸性基團或酯基的個數(shù)沒有特殊限制。作為所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"，可以舉例為以下通式(2)或(3)所示的化合物。R1-R2-R3-C00H..................通式(2)R1-R2-R3_S03H..................通式(3)(在所述通式(2)(3)中，R1為選自丙烯?；⒓谆；⒈０坊?、乙烯基、烯丙基中的加成聚合性反応基團，R2為例如酯基、烷基、酰胺基、環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基等的任意結(jié)構(gòu)，R3為例如苯基或環(huán)己基等的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的官能團，或烷基等的直鏈結(jié)構(gòu)或亞烴基等的具有支鏈結(jié)構(gòu)的官能團。)更加具體地講，可以舉例為(間)丙烯酸、乙烯基苯羧酸、乙烯基乙酸、乙烯基磺酸、乙烯基苯磺酸、馬來酸、富馬酸、所述這些酸的酯、具有苯二甲酸基的丙烯酸酯、具有水楊酸基的丙烯酸酯、具有乙酰水楊酸基的丙烯酸酯、乙烯基苯酚等。此外，所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"，可以單獨使用1種，也可以2種以上組合使用。底層組合物中所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"的含量沒有特殊限制，優(yōu)選相對于底層組合物的總量，在10重量％以上且90重量％以下，特別優(yōu)選為在20重量％以上且80重量％以下。若增加所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"的含量，底層組合物對于金屬離子的負(fù)載性提高，但具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有堿性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物的含量減少，其效果降低。因此，所述"具有酸性基團的加成聚合性化合物"的含量，優(yōu)選在所述范圍內(nèi)。"具有堿性基團的加成聚合性化合物"，指的是在1個分子中具有1個以上的堿性基團的加成聚合性化合物。如下述實施例所示，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了通過向所述底層組合物中混合"具有堿性基團的加成聚合性化合物"，能夠使由本發(fā)明的制造方法所制造的金屬膜的導(dǎo)電性得以顯著提高。由此，所述"具有堿性基團的加成聚合性化合物"，被認(rèn)為具有提高有機膜對于金屬(Ml)離子的負(fù)載性的效果，通過使底層組合物和含有金屬(Ml)離子的水溶液的親和性增強，促進(jìn)底層組合物表面與所述水溶液發(fā)生反應(yīng)，從而使得對于金屬(Ml)離子的負(fù)載性增強。因此，通過將所述"具有堿性基團的加成聚合性化合物"加入到底層組合物中，能夠按照金屬膜所需要的導(dǎo)電性，控制所制造的金屬膜的電阻值。作為所述堿性基團沒有特殊限制，能夠使酸性基團對金屬(Ml)離子的負(fù)載性增強的堿性基團即可。例如，可以舉例為13級氨基、季銨堿、卩比啶基、嗎啉基、苯胺基、咪唑基、季吡啶堿(quaternarypyridiniumbase)等。在此之中，因不阻礙加成聚合性，優(yōu)選所述堿性基團是選自氨基、吡啶基、嗎啉基、苯胺基中的1個以上的官能團。所述"具有堿性基團的加成聚合性化合物"，例如可以舉例為以下通式(4)所示的化合物。Rl-R2-R3...........................通式(4)(通式(4)中R1為選自丙烯?；?、甲基丙烯?；⒈０坊?、乙烯基、烯丙基中的加成聚合性反応基，R2為例如酯基、烷基、酰胺基、環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基等的任意結(jié)構(gòu)，R3為堿性基團。)作為所述"具有堿性基團的加成聚合性化合物"，具體來講，可以舉例為甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯(dimethylaminoethylmethacrylate)、甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯(diethylaminoethylmethacrylate)、N_丙烯酉先基嗎啉(N_acryloylmorpholine)、N，N-二甲基丙烯酰胺(N，N-dimethylacrylamide)、N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺(N_(3-dimethyl咖inopropyl)methacryl咖ide)。底層組合物中所述"具有堿性基團的加成聚合性化合物"的含量沒有特殊限制，優(yōu)選相對于底層組合物的總量，在1重量％以上且80重量％以下，特別優(yōu)選為在1重量％以上且50重量％以下。所述"親水性官能團"，指的是易于與水溶液親和的官能團。作為所述"親水性官能團"，可以使用環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、縮醛基、羧基、酯基等。在此之中，因為提高有機膜親水性的能力強，所以特別優(yōu)選使用環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基。所述親水性官能團，優(yōu)選包含環(huán)氧乙烷基和/或環(huán)氧丙烷基。作為所述"具有親水性官能團的加成聚合性化合物"，例如可以舉例為以下通式(5)所示的化合物。R1-R2-R1........................通式(5)(通式(5)中R1是選自丙烯?；⒓谆；⒈０坊?、乙烯基、烯丙基中的11加成聚合性反応基，R2為選自環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、縮醛基、羧基、酯基中的親水性官能團。)具體來講，可以舉例為聚乙二醇二丙烯酸酯(polyethyleneglycoldiacrylate)、聚丙二醇二丙烯酸酯(polypropyleneglycoldiacrylate)、甘油二丙烯酸酯(glycerinediacrylate)、聚1，4-丁二酉享二丙烯酸酉旨(polytetr咖ethyleneglycoldiacrylate)、丙烯酸2-羥基丙酯(2-hydroxypropylacrylate)等。此外，所述"具有親水性官能團的加成聚合性化合物"，可以只使用1種，也可以2種以上組合使用。底層組合物中所述"具有親水性官能團的加成聚合性化合物"的含量沒有特殊限制，優(yōu)選相對于底層組合物的總量，在1重量％以上且80重量％以下，特別優(yōu)選為在5重量％以上且50重量％以下。若增加所述"具有親水性官能團的加成聚合性化合物"的含量，提高有機膜親水性的效果增強，但具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、以及具有堿性基團的加成聚合性化合物的含量減少，其效果減弱。因此，底層組合物中所述"具有親水性官能團的加成聚合性化合物"的含量優(yōu)選為在所述范圍內(nèi)。因此，所述底層組合物中至少含有具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物。優(yōu)選為含有具有堿性基團的加成聚合性化合物。因此，與濺鍍法不同，能夠進(jìn)行濕法處理，即在電鍍槽中處理金屬(M2)，對金屬(M2)離子的負(fù)載性高。由上，除了從銦、鋅、錫中所選的l種以上的金屬之外，還能將金、銀、銅、鎳、鉬、鈷、鐵等的金屬膜均勻且緊密地進(jìn)行固定，因此適用于電極、精密布線電路、反應(yīng)膜、保護(hù)膜等的金屬膜以及各種金屬布線圖案。本發(fā)明廣泛適用于以觸摸面板、開關(guān)、以及太陽能電池面板等中使用的透明導(dǎo)電膜為首的，半導(dǎo)體、液晶顯示器、以高頻用途為代表的各種電子元件、天線、以及傳感器領(lǐng)域中。此外，能夠高效率地將枯竭問題受到重視的銦進(jìn)行固定，并且容易回收，能夠使銦的利用效率得以提高，從而對資源的有效利用做出貢獻(xiàn)。所述底層組合物，至少含有具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物即可，可以將這些化合物用現(xiàn)有公知的方法適宜混合而進(jìn)行調(diào)制。此外，根據(jù)需要，可以將具有堿性基團的加成聚合性化合物適宜混合而進(jìn)行調(diào)制。所述底層組合物，除了所述化合物之外，優(yōu)選為含有聚合引發(fā)劑。作為聚合引發(fā)劑，能夠使底層組合物聚合即可，沒有特殊限制。例如可以舉例為光聚合引發(fā)劑和熱聚合引發(fā)劑等的自由基聚合引發(fā)劑、陽離子聚合引發(fā)劑和陰離子聚合引發(fā)劑等的離子聚合引發(fā)劑等。其中，優(yōu)選使用自由基聚合引發(fā)劑，從不使用熱，能夠適用于耐熱性低的基板的觀點來看，特別優(yōu)選使用光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑，沒有特殊限制。例如可以舉例為2-羥基-2-甲基-1-苯基_丙烯_1_酮(2_hydroxy_2_methyl_l_phenyl_propene_l_one)、2-甲基_1_[4_(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烯-1-酮(2-methyl+[4-(methylthio)phenyl]-2_morpholinopropene-l-one)、2，4，6-三甲基苯甲酰-二苯基-氧化膦(2，4，6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide)、三氟甲橫酸三苯基酉旨(triphenylsulfonyl12triflate)等。作為熱聚合引發(fā)劑，沒有特殊限制。例如可以舉例為氫過氧化枯烯(cumenehydroperoxide)、氫過氧化叔丁基(t-butylhydroperoxide)、過氧化苯甲?；?、DBU、乙二胺(ethylenediamine)、N，N-二甲基苯甲基胺(N，N-dimethylbenzylamine)等。此外，這些聚合弓I發(fā)劑可以單獨使用，也可以適宜組合使用。聚合引發(fā)劑的含量，相對于底層組合物的總量為0.0510重量％，優(yōu)選為0.18重量％。所述底層組合物，還可以含有除如上所述的具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有堿性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物之外的加成聚合性化合物(以下稱為"其他加成聚合性化合物")。所述其他加成聚合性化合物，是不具有酸性基團或者其酯基，并且在1個分子中具有1個聚合不飽和鍵特別是聚合性雙鍵的化合物。例如可以舉例為苯乙烯、乙烯基環(huán)己烷等。所述其他加成聚合性化合物的含量，優(yōu)選相對于底層組合物的總量，為50重量％以下，更優(yōu)選為30重量％以下。所述底層組合物，還可以含有有機溶劑。通過使其含有有機溶劑，能夠改善對于基板或薄膜的涂布性。作為有機溶劑沒有特殊限制，可以使用丙二醇單甲醚乙酸酯(propyleneglycolmonomethyletheracetate)、丙二酉享單甲鵬(propyleneglycolmonomethylether)、環(huán)己酮(cyclohexanone)、乙酸丁酯等。有機溶劑的含量，優(yōu)選相對于底層組合物總量，為80重量％以下，更優(yōu)選為30重量％以下。作為基板或薄膜可以使用任意的材料。作為所述基板或薄膜，可以使用由丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)氧樹脂等制造的基板或薄膜，例如可以舉例為玻璃基板、石英、鈮酸鋰、鉭酸鋰、硼硅酸鹽玻璃、PZT、PLZT等。作為將所述底層組合物涂布在基材或者薄膜上的方法，沒有特殊限制，可以使用任意的涂布方法。例如可以舉例為噴墨印刷(inkjet)、絲網(wǎng)印刷(screenprinting)、旋涂法(spincoat)、噴涂法(spraycoat)、浸泡等方法。作為底層組合物的涂布厚度，沒有特殊限制，例如，使聚合后的有機膜的厚度在后述的范圍內(nèi)，就是適當(dāng)?shù)姆秶＞酆?，可以通過使用例如聚合引發(fā)劑，或放射線、電子線、紫外線、電磁線等的活化能線等來進(jìn)行。例如，使用光聚合引發(fā)劑時，對基板或薄膜的涂布面一側(cè)照射下述波長的光，例如紫外線即可，所述波長的光能夠被所述光聚合引發(fā)劑吸收，從而生成自由基。此外，例如使用熱聚合引發(fā)劑時，加熱到下述溫度，例如5015(TC即可，所述溫度能夠使該熱聚合引發(fā)劑分解，從而生成自由基。經(jīng)過所述聚合，在基板或薄膜上形成有機膜。所得到的有機膜的厚度，只要達(dá)到本發(fā)明的目的即可，沒有特殊限制，例如0.11000iim，特別是10500iim是合適的。本發(fā)明所涉及的制造方法中，使用所述底層組合物，因此能夠進(jìn)行濕法處理，能夠在電鍍槽中固定金屬(M2)。由此，在有機膜型成步驟中，不使用光刻法就能夠在有機膜上直接形成金屬布線圖案。因此，能夠非常簡單地在有機膜上直接形成金屬布線圖案，非常低成本地實現(xiàn)金屬布線?！矫?，使用濺鍍法進(jìn)行金屬膜的成膜時，需要使用光刻法來實現(xiàn)金屬膜的圖案成形。但光刻法需要高價的設(shè)備，因此不能夠低成本地實現(xiàn)金屬布線。光刻法，指的是在晶圓(wafer)表面涂布感光性樹脂(photoresist)，覆蓋具有線路圖案的掩模后用光進(jìn)行照射，將線路圖轉(zhuǎn)印后，進(jìn)行顯影而形成圖案的方法。不使用光刻法而對有機膜賦予金屬布線圖案等的方法，沒有特殊限制。例如，可以舉例為噴墨印刷、絲網(wǎng)印刷、納米壓印法等。在這里，納米壓印法，指的是將雕刻有數(shù)十nm數(shù)百ym的凹凸形狀的模具，壓接在涂布于基板上的樹脂材料上，來進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印的方法。在本發(fā)明中，在有機膜形成步驟中通過印刷以及納米壓印法等的方法，不使用光刻法就可以向所述底層組合物上轉(zhuǎn)印所需要的圖案，然后使該底層組合物聚合，從而在有機膜上形成所需要的圖案。之后，通過金屬鹽生成步驟、金屬固定步驟、還原步驟等，得到具有所希望的圖案的金屬膜。此外，通過光刻法得到具有所希望的圖案的金屬膜也當(dāng)然是可能的。例如，使用掩模通過紫外線照射使所述底層組合物發(fā)生聚合，之后除去未發(fā)生反應(yīng)的單體區(qū)域，能夠得到具有與掩模相對應(yīng)的圖案形狀的有機膜。并且，通過對形成的有機膜進(jìn)行后續(xù)步驟，能夠形成具有三維圖案形狀的金屬膜。此外，未反應(yīng)的單體區(qū)域，可以使用鹽酸、硝酸、硫酸等的強酸來去除。(1-2.金屬鹽生成步驟)金屬鹽生成步驟，指的是使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽的步驟。所述處理，通過例如將形成了有機膜的基板或薄膜浸泡在含有金屬(Ml)離子的水溶液中，或?qū)⒑薪饘?Ml)離子的水溶液中涂布于形成了有機膜的基板或薄膜上等方法，可以容易地進(jìn)行。金屬(Ml)離子，是在后述的金屬固定步驟中，與用于形成金屬膜的金屬(M2)離子能夠進(jìn)行陽離子交換的金屬離子。也就是說，金屬(Ml)離子是比金屬(M2)離子的離子化傾向更高的金屬離子。金屬(Ml)離子，只要是能夠與金屬(M2)離子進(jìn)行陽離子交換的金屬離子即可，沒有特殊限制。例如，可以舉例為堿金屬離子和堿土金屬離子。其中，從容易進(jìn)行所述陽離子交換的觀點來看，金屬(Ml)離子優(yōu)選為堿金屬離子，更優(yōu)選為鉀離子或者鈉離子。在本說明書中，"離子化傾向"，指的是金屬與水接觸時容易轉(zhuǎn)化為金屬離子(陽離子)的傾向，金屬離子的離子化傾向的大小，取決于由金屬轉(zhuǎn)化為該金屬離子的傾向的大小。作為含有金屬(Ml)離子的水溶液，例如可以舉例為氫氧化鉀、氫氧化鈉等的水溶液。這樣的水溶液中金屬(Ml)離子的濃度，只要能夠生成酸性基團的金屬鹽即可，沒有特殊限制，在本發(fā)明中為0.1IOM，優(yōu)選為在18M這樣的較低濃度下也能夠高效率地生成酸性基團的金屬鹽。此外，本發(fā)明并不排斥使用2種以上的金屬(Ml)離子，使用2種以上的金屬(Ml)離子時合計濃度優(yōu)選為在所述范圍內(nèi)。使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，有機膜中的酸性基團的氫離子被金屬(Ml)離子所置換。具體來講，有機膜中含有的，例如-C00H或-S03H等的酸性基團的氫離子被直接置換為金屬(Ml)離子，生成例如-C00Ml或-S03Ml等的酸性基團的金屬鹽。此外，M1指的是金屬(Ml)離子的金屬原子(在下文中是相同的)。只要能夠生成酸性基團的金屬鹽，處理條件沒有特殊限制，處理溫度通常為080°C，優(yōu)選為2050°C。處理時間(浸泡時間)通常為130分鐘，優(yōu)選為220分鐘。當(dāng)所述具有酸性基團的加成聚合性化合物含有酯基時，與所述情況相同，通過使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，能夠?qū)⑺鏊嵝曰鶊F轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽。此外，也可以使用酸性水溶液處理有機膜，使得酯鍵加水分解而生成酸性基團，再使用含有金屬(Ml)離子的水溶液進(jìn)行處理，將所述酸性基團轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘?Ml)鹽。所述"酸性水溶液"，可以使用例如鹽酸、硫酸、硝酸或乙酸等的水溶液，酸性水溶液的處理是很容易實施的，例如可以將形成了有機膜的基板或薄膜浸泡在酸性水溶液中。酸的濃度例如為0.1IOM，優(yōu)選為0.55M。處理溫度例如為08(TC，優(yōu)選為2050°C。在酸性水溶液中的處理時間(浸泡時間)例如為130分鐘，優(yōu)選為520分鐘。此外，使用含有所述酸性基團的金屬(Ml)離子的水溶液對所述酸性基團的處理可以容易地實施，例如，將生成了酸性基團的基板或薄膜浸泡在該水溶液中，或?qū)⒃撍芤褐苯油坎荚谏闪怂嵝曰鶊F的基板或薄膜上。處理溫度例如為08(TC，優(yōu)選為2050°C。處理時間(浸泡時間)通常為130分鐘，優(yōu)選為520分鐘。如上所述，在金屬鹽生成步驟中，酸性基團的氫離子被置換為金屬(Ml)離子，作為有機膜的組成成分，含有所述具有堿性基團的加成聚合性化合物時，能夠進(jìn)一步提高有機膜對于金屬(Ml)離子的負(fù)載性。該現(xiàn)象的原因，被認(rèn)為是因為所述加成聚合性化合物使得底層組合物的表面與含有金屬(Ml)離子的水溶液的親和性提高，使得底層組合物與所述水溶液之間的反應(yīng)性提高。(1-3.金屬固定步驟)金屬固定步驟，指的是將用所述含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的有機膜，用含有離子化傾向比所述金屬(Ml)離子低的金屬(M2)離子的金屬(M2)離子水溶液進(jìn)行處理，由此將所述酸性基團的金屬(Ml)鹽轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘?M2)鹽的步驟。金屬固定步驟可以容易地實施，例如，將用所述含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的形成了有機膜的基板或薄膜，浸泡在含有金屬(M2)離子的金屬(M2)離子水溶液中，或?qū)⒑薪饘?M2)離子的金屬(M2)離子水溶液，涂布在用所述含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的形成了有機膜的基板或薄膜上。金屬(M2)離子與金屬(Ml)離子相比，離子化傾向低，有機膜中的酸性基團的金屬(Ml)鹽，很容易地與金屬(M2)離子進(jìn)行陽離子交換反應(yīng)，從而在有機膜上導(dǎo)入并且固定金屬(M2)離子。作為金屬(M2)，沒有特殊限制，能夠進(jìn)行所述陽離子交換的金屬即可，本發(fā)明所涉及的方法，適合作為代替濺鍍法進(jìn)行金屬膜成膜的方法使用。但是，并不局限于這些，金、銀、銅、鈀、錫、鎳、鉬、鈷、鐵等，也可以作為金屬(M2)使用。金屬(M2)離子水溶液，沒有特殊限制，例如可以舉例為氯化銦、硝酸銦、乙酸銦、硫酸銦、氯化錫(n)、氯化錫(IV)、乙酸錫、硫酸錫、錫酸鈉、氯化鋅、硝酸鋅、硫酸鋅、乙酸鋅、碳酸鋅、氯化金(ni)、氯化金a)、氯化金酸、乙酸金、硝酸銀、乙酸銀、碳酸銀、氯化銀、硝酸銅、硫酸銅、乙酸銅、碳酸銅、氯化銅、氯化鈀、硝酸鈀、乙酸鈀、硫酸鈀、反式-二胺二氯化鉑(trans-diaminedichloroplati皿m)、氯化鈷、硝酸鈷、硫酸鈷、乙酸鈷、氯化鐵(11)、15氯化鐵(III)、硝酸鐵(III)、硫酸鐵(II)、硫酸鐵(III)、氯化鎳、硝酸鎳、硫酸鎳、乙酸鎳等的水溶液。所述水溶液中金屬(M2)離子的濃度，只要能夠進(jìn)行陽離子交換即可，沒有特殊限制。例如優(yōu)選為5500mM，特別優(yōu)選為30250mM。處理溫度，只要能夠進(jìn)行陽離子交換即可，沒有特殊限制。例如為08(TC，優(yōu)選為205(TC。處理時間(浸泡時間)只要能夠進(jìn)行陽離子交換即可，沒有特殊限制。例如為130分鐘，優(yōu)選為520分鐘。此外，本發(fā)明并不排斥使用2種以上的金屬(M2)離子，使用2種以上的金屬(M2)離子時合計濃度在所述范圍內(nèi)即可。在一個實施方式中，所述金屬(M2)離子水溶液，優(yōu)選為含有堿金屬和/或堿土金屬的離子。如上所述，利用金屬(M2)離子和金屬(Ml)離子之間的離子化傾向的差異，能夠促進(jìn)金屬(M2)離子固定在有機膜上。因為堿金屬和/或堿土金屬具有非常高的離子性傾向，在本步驟中，通過使所述金屬(M2)離子水溶液含有堿金屬和/或堿土金屬的離子，能夠利用金屬(M2)離子水溶液中，與金屬(M2)離子之間的離子化傾向的差異，進(jìn)一步促進(jìn)離子交換，從而能夠更加高效率地使金屬(M2)固定在有機膜上。特別是，選自銦、鋅、錫中的l種以上的金屬，在濺鍍法中要均勻地成膜是很困難的，本發(fā)明所涉及的制造方法中，可以推測是因為通過使具有高離子傾向的堿金屬和/或堿土金屬的離子與金屬(Ml)離子并存，使得銦等以離子狀態(tài)存在的比例降低，從而能夠促進(jìn)其固定在有機膜上。所述堿金屬或堿土金屬，可以分別單獨使用，也可以兩者并用，離子化傾向越高越為優(yōu)選，更優(yōu)選為單獨使用堿金屬。堿金屬、堿土金屬的種類沒有特殊限制。從離子化傾向高，低成本并且容易使用的觀點來看，更優(yōu)選為鈉、鉀。所述堿金屬和/或堿土金屬的使用量，只要和所述金屬(M2)離子水溶液具有互溶性即可，沒有特殊限制。例如，使用銦作為金屬(M2)、使用鈉作為堿金屬和/或堿土金屬時，優(yōu)選為相對于銦離子水溶液，鈉以單體計，銦與鈉的摩而比為1:1。所述堿金屬和/或堿土金屬，也可以以在水溶液中能夠電解的鹽形式，添加到所述金屬(M2)離子的水溶液中。例如，可以使用乙酸鈉、碳酸鈉等。此外，還可以以例如氫氧化鉀、氫氧化鈉等，含有堿金屬和/或堿土金屬的水溶液形式添加。在本實施方式中，所述金屬(M2)離子水溶液，優(yōu)選為含有多元醇。為了效率化地成膜，優(yōu)選為將金屬(M2)離子水溶液中的金屬(M2)離子濃度盡量提高，但金屬(M2)離子的比重大時，高濃度時容易發(fā)生沉淀。但是，通過添加多元醇，如上所述，金屬(M2)離子不容易沉淀，金屬(M2)離子和金屬(Ml)離子之間能夠更順利地進(jìn)行陽離子交換，能夠促進(jìn)金屬(M2)離子固定在有機膜上。此外，通常情況下，在金屬(M2)離子與溶劑之間具有互溶性而金屬(M2)發(fā)生沉淀時，為了高效率地進(jìn)行陽離子交換，優(yōu)選為攪拌溶液。但是，通過在金屬(M2)離子水溶液中含有多元醇，不攪拌也能夠高效率地進(jìn)行陽離子交換。因此，從改善操作效率的觀點來看，也是非常有用的。所述多元醇中含有的醇性羥基的個數(shù)，沒有特殊限制，在l分子中有2個以上即可。作為所述多元醇，例如可以使用甘油、聚乙二醇、山梨糖醇等。在此之中，特別優(yōu)選使用甘油，因為其具有良好的增粘性，防止金屬(M2)離子發(fā)生沉淀的效果顯著，促進(jìn)金屬離子在有機膜上固定的效果好。作為所述多元醇的使用量，出于與金屬離子水溶液的互溶性的原因，優(yōu)選相對于所述金屬(M2)離子水溶液為1080重量％，將其混合在所述金屬(M2)離子水溶液中，使其達(dá)到該濃度即可。(1-4.還原步驟)還原步驟，指的是將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜的步驟。也就是說，是通過還原在金屬固定步驟中導(dǎo)入有機膜的金屬(M2)離子，使該離子的金屬原子在有機膜表面上析出，形成所希望的金屬膜的步驟。作為還原方法，例如可以使用選自(1)(2)(3)中的l種以上的還原劑，和/或采用選自(4)中的l種以上的還原方法來進(jìn)行。(1)抗壞血酸、抗壞血酸鈉、硼氫化鈉、二甲胺硼烷、三甲胺硼烷、檸檬酸、檸檬酸鈉、鞣酸、二硼烷、肼、甲醛、氫化鋁鋰，(2)(1)中的化合物的衍生物，(3)亞硫酸鹽、次磷酸鹽，(4)紫外線、熱、等離子體、氫。作為所述衍生物，沒有特殊限制。此外，作為所述(3)的亞硫酸鹽、次磷酸鹽，沒有特殊限制。例如在使用還原劑的方法中，通過使有機膜表面與還原劑接觸，能夠?qū)⑺鼋饘?M2)離子還原。還原劑通常以水溶液的方式使用，通過將形成了有機膜的基板或薄膜浸泡在還原劑水溶液中，可以容易地實現(xiàn)還原。還原劑水溶液中還原劑的濃度沒有特殊限制。但還原劑的濃度過低時，存在還原反應(yīng)的速度過于緩慢的傾向，還原劑的濃度過高時，有時析出的金屬發(fā)生脫落，因此不為優(yōu)選。因此，還原劑的濃度優(yōu)選為1500mM，更優(yōu)選為5100mM。對于還原時的處理溫度沒有特殊限制。例如，還原劑的水溶液的溫度優(yōu)選為080°C，更優(yōu)選為2050°C。此外，對于處理時間(浸泡時間)沒有特殊限制。例如，優(yōu)選為130分鐘，更優(yōu)選為520分鐘。此外，在一個實施方式中，所述還原步驟中，優(yōu)選為與所述還原劑一起使用醇和/或表面活性劑。由此，能夠使水溶性的還原劑與底層組合物容易親和，從而更加高效率地進(jìn)行還原。作為所述醇，需要具有能夠溶解在還原劑的水溶液中，并且與用于形成金屬膜和金屬布線圖案的底層組合物容易親和的性質(zhì)，因此必須是兩親性的。只要是兩親性即可，鏈?zhǔn)酱肌⒅h(huán)醇、芳香族醇均可。例如，可以使用乙醇、甲醇、丙醇、丁醇等的1元鏈?zhǔn)酱迹叶嫉鹊亩嘣?，苯甲基醇等的芳香族醇等。此外，作為表面活性劑，可以是陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、兩性表面活性劑、非離子性表面活性劑。作為陽離子表面活性劑，例如可以使用烷基胺鹽、酰胺鍵合胺鹽、酯鍵合胺鹽等的胺鹽；烷基銨鹽、酰胺鍵合銨鹽、酯鍵合銨鹽、醚鍵合銨鹽等的季銨鹽；烷基吡啶鹽、酰胺鍵合吡啶鹽、醚鍵合吡啶鹽等的吡啶鹽等。17作為陰離子表面活性劑，例如可以使用皂、硫酸化油、烷基硫酸鹽、烷基磺酸鹽、烷基烯丙基磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽等。此外，作為非離子性表面活性劑，可以使用烷基烯丙基醚型、烷基醚型、烷基胺型等環(huán)氧乙烷類表面活性劑；甘油脂肪酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚乙二醇脂肪酸酯等多元醇脂肪酸酯類表面活性劑；聚環(huán)乙亞胺類表面活性劑；脂肪酸烷醇酰胺類表面活性劑等。作為兩性表面活性劑，可以使用陽離子表面活性劑和陰離子表面活性劑組和而得的兩性表面活性劑，也可以使用將陽離子表面活性劑或陰離子表面活性劑與非離子性表面活性劑組和而得的兩性表面活性劑。醇和表面活性劑，可以單獨使用，也可以將二者組合使用。此外，所用的醇的種類、表面活性劑的種類，可以是1種，也可以是2種以上。醇和/或表面活性劑，可以在浸泡基板或薄膜之前，添加到還原劑水溶液中。醇和/或表面活性劑的添加量，出于與金屬離子水溶液的相溶性的理由，優(yōu)選為1060重量％。此外，所述醇和/或表面活性劑，可以與底層樹脂組合物一起涂布在基板或薄膜上。此時，所述醇和/或表面活性劑的使用量，出于與金屬離子水溶液的相溶性的理由，優(yōu)選為0.0110重量％。此外，使用紫外線進(jìn)行還原的方法中，對有機膜表面照射紫外線即可。例如，當(dāng)使用SEN特殊光源株式會社制造的UV照射裝置PL16-110時，照射時間優(yōu)選為10150分鐘，特別優(yōu)選為6090分鐘。采用這樣的方法進(jìn)行還原時，通過使用掩模進(jìn)行紫外線照射，能夠形成具有與掩模對應(yīng)的圖案形狀的金屬膜。因此，即使是比較復(fù)雜的金屬圖案，也能夠簡單地形成。圖案部以外的區(qū)域，例如可以通過浸泡于1%硝酸水溶液等中來去除。在使用熱(加溫)的還原方法中，使用電熱板(hotplate)、烘箱等可加熱的裝置對金屬(M2)離子進(jìn)行還原即可。優(yōu)選為加溫溫度15030(TC，加熱時間560分鐘。在所述還原步驟中，也可以并用還原劑于選自紫外線、熱、等離子體、氫中的l種以上的還原方法來進(jìn)行還原。在一個實施方式中，在所述還原步驟中使用選自所述(1)(2)(3)中的1種以上的還原劑時，優(yōu)選為在堿金屬和/或堿土金屬的存在下對所述金屬(M2)離子進(jìn)行還原。堿金屬和/或堿土金屬，與本發(fā)明中所用的金屬(M2)相比，離子化傾向大，因此在堿金屬和/或堿土金屬的存在下進(jìn)行還原，能夠防止在金屬固定步驟中固定在有機膜上的金屬(M2)發(fā)生離子化，從而防止其溶解。也就是說，在金屬固定步驟中使用的堿金屬和/或堿土金屬，起到了促進(jìn)金屬(M2)固定在有機膜上的作用，在還原步驟中所用的堿金屬和/或堿土金屬，起到了防止固定在有機膜上的金屬(M2)發(fā)生溶解，從而更加切實地進(jìn)行還原的作用。所述堿金屬與堿土金屬，可以分別單獨使用，也可以兩者并用，離子化傾向越高越為優(yōu)選，因此更加優(yōu)選為單獨使用堿金屬。堿金屬、堿土金屬的種類沒有特殊限制，從離子化傾向高，成本低，容易使用的觀點來看，進(jìn)一步優(yōu)選為鈉、鉀。所述堿金屬和/或堿土金屬的使用量，只要與所述金屬(M2)離子水溶液具有互溶性即可，沒有特殊限制。例如，使用金作為金屬(M2)、使用鈉作為堿金屬和/或堿土金屬，優(yōu)選相對于銦離子水溶液，鈉以單體計，銦和鈉的摩爾比為1:l左右。所述堿金屬和/或堿土金屬，可以以在水溶液中能夠電解的鹽的形式，添加到所18述還原劑的水溶液中。例如，可以使用乙酸鈉、碳酸鈉等。此外，還可以以例如氫氧化鉀、氫氧化鈉等這樣的含有堿金屬和/或堿土金屬的水溶液的形式，添加到所述還原劑的水溶液中。此外，使用選自紫外線、熱、等離子體、氫中的l種以上的還原方法進(jìn)行還原時，調(diào)制堿金屬和/或堿土金屬的鹽的水溶液、或含有堿金屬和/或堿土金屬的水溶液，再將形成有固定了金屬(M2)的有機膜的基板或薄膜浸泡在該水溶液，然后進(jìn)行紫外線照射等的處理即可。在還原結(jié)束后，將基板或薄膜用通常的方法進(jìn)行清洗，并干燥。清洗可以是水洗，但為了切實地去除多余的金屬離子，優(yōu)選為使用硫酸水溶液進(jìn)行清洗。干燥可以通過在室溫中放置而實現(xiàn)，從防止所得的金屬膜發(fā)生氧化的觀點來看，優(yōu)選為在氮氣環(huán)境下進(jìn)行干燥。此外，在本發(fā)明中，優(yōu)選為在所述各步驟中或各步驟的處理之間，對于基板或薄膜進(jìn)行水洗。經(jīng)過以上步驟，由本發(fā)明的制造方法所制造的金屬膜的厚度，沒有特殊限制，例如可以在10500nm，特別是20200nm范圍內(nèi)，是能夠控制的。并且，金屬膜的厚度，除了可以通過改變例如KOH濃度、溫度、處理時間之外，改變金屬離子濃度、溫度、處理時間，以及改變還原劑濃度、溫度、處理時間也可以進(jìn)行控制。金屬膜的厚度可以通過截面觀察，例如使用TEM(株式會社日立高科技(HitachiHighTechnologies)制造)來進(jìn)行測定。(1-4.氧化步驟)氧化步驟，是將經(jīng)還原步驟而形成了的金屬膜進(jìn)行氧化的步驟。通過該步驟，能夠賦予金屬膜透明性。在本發(fā)明中，所述金屬膜是粒子狀的膜。由此，能夠在比較低的溫度下對金屬膜進(jìn)行高效率的氧化，使制造過程簡單化。例如，在后述的實施例中，是將金屬膜加溫到14(TC來進(jìn)行氧化的。使用濺鍍法進(jìn)行成膜時，需要在高溫條件下(15050(TC程度)進(jìn)行處理。由此，從能夠進(jìn)行低溫氧化的觀點來看，與濺鍍法相比較本發(fā)明是非常有優(yōu)勢的。進(jìn)行氧化的方法，沒有特殊限制，但是優(yōu)選為使用紫外線、等離子體、或紅外線照射金屬膜，或?qū)饘倌ぜ訙貋磉M(jìn)行氧化。使用紫外線照射進(jìn)行氧化，優(yōu)選為在有氧條件下并且高照度條件下進(jìn)行，使用等離子體照射進(jìn)行氧化，優(yōu)選為在有氧條件下進(jìn)行，使用紅外線照射進(jìn)行氧化，優(yōu)選為在有氧條件下進(jìn)行。此外，通過加溫進(jìn)行氧化，優(yōu)選為在有氧條件下進(jìn)行。通過所述氧化，形成金屬氧化物，使得金屬膜的透明性得到了改善。由此，所制造的金屬膜，特別適用于在觸摸面板中使用的透明電極等。本發(fā)明所涉及的制造方法，其底層組合物具有蓬松結(jié)構(gòu)和良好的離子負(fù)載性、金屬(Ml)離子與金屬(M2)離子之間具有良好的陽離子交換性、能夠防止已固定的金屬(M2)離子發(fā)生溶解。因此對于選自銦、鋅、錫中的1種以上的金屬等的多種金屬，能夠?qū)⒔饘匐x子充分地固定在有機膜上，其結(jié)果能夠簡單地制造面內(nèi)均勻性良好，并且與基板具有充分緊密性的金屬膜。由本發(fā)明的制造方法所制造的金屬膜，能夠應(yīng)用在觸摸面板、開關(guān)、太陽能電池用透明電極、半導(dǎo)體、液晶顯示器、以高頻用途為代表的電氣設(shè)備、電子設(shè)備、各種電子元件中。此外，用于形成在天線以及傳感器等領(lǐng)域中使用的電極、精密布線電路、反應(yīng)膜、保護(hù)膜等的金屬膜以及金屬布線圖案，是很有用的。此外，應(yīng)用本發(fā)明能夠制造SPR或SAW傳感器用的金屬膜。所述電氣設(shè)備、電子設(shè)備、電子元件、傳感器、電極、精密布線電路、反應(yīng)膜、保護(hù)膜等，可以使用現(xiàn)有公知的方法進(jìn)行制造，也可以使用印刷或納米壓印法等，一邊賦予其精密形狀一邊進(jìn)行制造。并且，本發(fā)明不受以上說明的各方案的限制，在權(quán)利要求書所示的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更，通過適當(dāng)組合不同的實施方式中分別公開的技術(shù)而得到的實施方式，也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。(實施例)(底層組合物的調(diào)制和有機膜的形成)混合表l中所示的化合物，使其合計為100重量比％，調(diào)制了作為底層組合物的試劑。采用旋涂法將該試劑液涂布在載玻片上。接下來，使用紫外線照射裝置(SEN特殊光源株式會社制造的UV照射裝置PL16-110)，對所述載玻片照射紫外線20分鐘，在載玻片上形成了有機膜A1。作為具有3個以上的反應(yīng)基團的加成聚合性化合物，使用了三丙烯酸季戊四醇酯(pentaerythritoltriacrylate)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名PE-3A)。作為具有酸性基團的加成聚合性化合物，使用了酞酸2-丙烯酰氧基乙酯(2-acryloyloxyethylphthalicacid)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名H0A-MPL)，六氫酞酸2-丙烯酰氧基乙酯(2-acryloyloxyethylhexahydrophthalicacid)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名H0A-HH)，或琥珀酸2-丙烯酰氧基乙酯(2-acryloyloxyethylsuccinicacid)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名H0A-MS)。作為具有堿性基團的加成聚合性化合物，使用了甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯(dimethylaminoethylmethacrylate)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名DM)，N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺(N-(3-dimethylaminopropyl)methacrylamide)(和光純藥工業(yè)制)，或者N-丙烯?；鶈徇?N-acryloylmorpholine)(和光純藥工業(yè)制)。作為具有親水性官能團的加成聚合性化合物，使用了二甲基丙烯酸二甘醇酯(diethyleneglycoldimethacrylate)(共榮社化學(xué)株式會社制，商品名2EG)。作為聚合反應(yīng)引發(fā)劑，使用了IRGACURE1173(ChibaSpecialtyChemicals株式會社制)。20<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>對于形成了有機膜AI的載玻片實施以下步驟，得到了金屬膜。(1)浸泡在40°C，5M的氫氧化鉀水溶液中，保持10分鐘。(2)在蒸餾水中充分清洗。(3)浸泡在表1中記載的金屬離子水溶液中(室溫條件下)，保持15分鐘。表1中記載的金屬離子水溶液中，"InCl/，是將lOOmM氯化銦水溶液與lOOmM乙酸鈉水溶液按體積比1:1混合而成的，"lnCl^SnCl/，是將lOOmM氯化銦水溶液和lOOmMSnCl2水溶液按體積比9:l進(jìn)行混合而成的。(4)在蒸餾水中充分清洗。(5)浸泡在30°C，lOOmM的硼氫化鈉水溶液中，保持5分鐘，將金屬離子還原。(6)在蒸餾水中充分清洗。(7)在氮氣環(huán)境下進(jìn)行干燥。由此，得到了顯示出金屬光澤的金屬膜(膜厚100nm左右)。(8)將形成有該金屬膜的載波片，在烘箱中14(TC條件下保持5小時。由此，得到了透明的氧化金屬膜。表1中的"氧化后透光率(％)A600nm"，指的是形成有金屬膜的載玻片在波長600nm條件下的透光率，是使用測角光度計GC5000(GoniophotometerGC5000)(日本電色工業(yè)制造)進(jìn)行測定的。圖1是顯示固定了銦膜的載波片的外觀照片，(a)是在進(jìn)行氧化步驟之前，(b)是在進(jìn)行氧化步驟之后的外觀。此外，在本實施例使用中載波片作為基板，但可以使用的基板不局限于載玻片。此外，在使用紫外線進(jìn)行還原時，在步驟(5)使用紫外線照射裝置，照射紫外線30分鐘即可。進(jìn)行熱還原時，優(yōu)選為使用耐熱性高的基板，例如使用玻璃基板時，在形成有機膜之前預(yù)先用例如KBM5103(信越化學(xué)工業(yè)株式會社制造)等的硅烷偶合劑對玻璃基板表面進(jìn)行改性，然后形成有機膜。并且，在步驟(5)，放入保持在20(TC的烘箱中，保持10分鐘即可。是否具有導(dǎo)電性，是使用電阻率計(三菱化學(xué)制造，L0RESTAGP)來測定薄膜電阻率的，將lkQ/口以上100kQ/口以下評為(D，將100kQ/口以上500kQ/口以下評為O，將500kQ/口以上1MQ/口以下評為A，將1MQ/口以上評為X。如表l中比較例13所示，作為底層組合物只使用丙烯酸(acrylicacid)時，只使用酞酸2-丙烯酰氧基乙酯(2-acryloyloxyethylphthalicacid)時，使用甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯(dimethylaminoethylmethacrylate)、三丙烯酸季戊四醇酉旨(pentaerythritoltriacrylate)、以及二甲基丙;l;希酸二甘醇酉旨(diethyleneglycoldimethacrylate)時，成膜后氧化后均未見導(dǎo)電性。如實施例1所示，作為底層組合物使用酞酸2-丙烯酰氧基乙酉旨(2—acryloyloxyethylphthalicacid)、三丙；l:希酸季戊四醇酉旨(pentaerythritoltriacrylate)、以及二甲基丙烯酸二甘醇酯(diethyleneglycoldimethacrylate)時，氧化后的金屬膜表現(xiàn)出充分的導(dǎo)電性，變得透明。這被認(rèn)為是三丙烯酸季戊四醇酯(pentaerythritoltriacrylate)的蓬松結(jié)構(gòu)和二甲基丙烯酸二甘醇酯(diethyleneglycoldimethacrylate)的親水效果，使得銦與底層組合物之的反應(yīng)性得以改善的結(jié)果。如實施例2、3所示，將酞酸2-丙烯酰氧基乙酯(2-acryloyloxyethylphthalicacid)的一部分，置換成具有堿性基團的加成聚合性化合物，可見與實施例1相比較，金屬膜的導(dǎo)電性有增大的傾向。實施例47，顯示了改變具有酸性基團的加成聚合性化合物或者具有堿性基團的加成聚合性化合物的種類時，金屬膜也顯示出導(dǎo)電性，并且金屬膜變得透明。(實施例8)將實施例2，以及3中所用的底層組合物涂布在玻璃板上，使用紫外線照射裝置(SEN特殊光源株式會社制造的UV照射裝置PL16-110)，以20mW/cm照射紫外線2400秒，實現(xiàn)了所述底層組合物的硬化。接下來，將所述玻璃基板在8M的KOH中4(TC條件下保持10分鐘，用水清洗后，在25t:條件下在lOOmM的ZnCl2水溶液中保持15分鐘，之后用蒸餾水清洗所述基板。接下來，將所述基板在將25mMNa2C03和25mMNaHC03按體積比6:4進(jìn)行混合的5(TC水溶液中保持15分鐘。其結(jié)果，得到了5MQ/□，透光率40%的乳白色氧化鋅膜(膜厚lOOnm左右)。(實施例9)使用實施例2中所用的有機膜B，對金屬鹽生成步驟的條件進(jìn)行討論。對形成有有機膜B的載玻片實施以下步驟，得到了金屬膜。(1)如表2所示，分成浸泡于40°C，5M氫氧化鉀水溶液中保持10分鐘的實驗區(qū)，浸泡于40°C，5M氫氧化鉀水溶液中保持5分鐘的實驗區(qū)，浸泡于40°C，5M氫氧化鉀水溶液中保持2分鐘的實驗區(qū)，浸泡于3(TC，5M氫氧化鉀水溶液中保持10分鐘的實驗區(qū)。(2)在(1)所述的時間結(jié)束后，在蒸餾水中充分清洗。(3)浸泡在25。C的lOOmMInCl3水溶液中，保持15分鐘。(4)在蒸餾水中充分清洗。(5)浸泡在30°C的50mM硼氫化鈉水溶液中，保持5分鐘，進(jìn)行銦離子的還原。(6)在蒸餾水中充分清洗。(7)在氮氣環(huán)境下進(jìn)行干燥。(8)將形成有該金屬膜的載波片，在14(TC烘箱中保持5小時。結(jié)果如表2所示。是否具有導(dǎo)電性，是使用電阻率計(三菱化學(xué)制造，LORESTAGP)來測定薄膜電阻率的，將lkQ/□以上lOOkQ/□以下評為，將lOOkQ/□以上500kQ/口以下評為O，將500kQ/口以上1MQ/口以下評為A，將1MQ/口以上評為X。(表2)<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>從表2中可以看出，改變K0H的處理溫度以及處理時間，會引起導(dǎo)電性以及膜厚的變化。也就是說，本發(fā)明的方法中，通過調(diào)整金屬鹽生成步驟中的処理條件，導(dǎo)電性是可以調(diào)節(jié)的，能夠容易地在低電阻到高電阻之間將金屬膜的電阻值進(jìn)行調(diào)節(jié)。使用濺鍍法進(jìn)行成膜的方法中，無法這樣進(jìn)行電阻值的調(diào)節(jié)。從這個結(jié)果可以看出，本發(fā)明的方法，不只是適用于制作具有高導(dǎo)電性的膜，也適用于制造在模擬式觸摸面板等中所需求的具有高電阻的透明導(dǎo)電膜。此外，如上所述，通過使用具有堿性基團的加成聚合性化合物，使得導(dǎo)電性變得可以調(diào)節(jié)。如上所述，采用本發(fā)明的方法，按照用途不同，能夠容易地控制金屬膜的電阻值。如上所述，本發(fā)明的金屬膜的制造方法，是包括以下步驟的方案將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基材或薄膜上，進(jìn)行聚合，形成有機膜的有機膜形成步驟；使用含有金屬(Ml)離子的水溶液處理所述有機膜，將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(Ml)鹽的金屬鹽生成步驟；通過使用金屬(M2)離子水溶液，對所述通過含有金屬(Ml)離子的水溶液處理過的有機膜進(jìn)行處理，將所述酸性基團的金屬(Ml)鹽轉(zhuǎn)化為金屬(M2)鹽的金屬固定步驟，所述金屬(M2)離子水溶液含有離子化傾向比所述金屬(Ml)離子低的金屬(M2)離子；將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜的還原步驟；將所述金屬膜進(jìn)行氧化的氧化步驟。由此，所能夠得到的效果是能夠在基板上均勻地形成金屬(M2)的膜，能夠容易地實現(xiàn)透明導(dǎo)電膜的大口徑化，與濺鍍法相比金屬(M2)的使用效率得以大幅度提高。在發(fā)明的詳細(xì)說明事項中說明的具體的實施方式或?qū)嵤├?，僅用于明確本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容，不應(yīng)被狹義理解為本發(fā)明僅限于所述具體例，在本發(fā)明的精神以及權(quán)利要求書的范圍內(nèi)，本發(fā)明可以加以各種變更來進(jìn)行實施。(產(chǎn)業(yè)上的可利用性)本發(fā)明所涉及的金屬膜的制造方法，能夠高效率地在有機膜上固定并且還原多種金屬，不使用催化劑，就能夠低成本地提供膜厚數(shù)十nm數(shù)百nm的，具有良好導(dǎo)電性、良好面內(nèi)均勻性、以及緊密性的透明金屬膜(金屬薄膜)。此外，通過調(diào)節(jié)金屬鹽生成步驟的條件和使用具有堿性基團的加成聚合性化合物，能夠控制金屬膜的電阻值。因此，能夠廣泛應(yīng)用于觸摸面板、開關(guān)、太陽能電池用透明電極、半導(dǎo)體、液晶顯示器、具有高頻用途的電氣設(shè)備、電子設(shè)備、各種電子元件等中，在各種電子產(chǎn)業(yè)中具有廣泛用途。權(quán)利要求一種金屬膜制造方法，其特征在于包括以下步驟有機膜形成步驟，將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、和具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基板或薄膜上，并進(jìn)行聚合而形成有機膜；金屬鹽生成步驟，用含有金屬(M1)離子的水溶液對所述有機膜進(jìn)行處理，將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(M1)鹽；金屬固定步驟，通過使用金屬(M2)離子水溶液，對所述通過含有金屬(M1)離子的水溶液處理過的有機膜進(jìn)行處理，將所述酸性基團的金屬(M1)鹽轉(zhuǎn)化為金屬(M2)鹽，所述金屬(M2)離子水溶液含有離子化傾向比所述金屬(M1)離子低的金屬(M2)離子；還原步驟，將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜；氧化步驟，將所述金屬膜進(jìn)行氧化。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述底層組合物中，還含有具有堿性基團的加成聚合性化合物。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述堿性基團是選自氨基、吡啶基、嗎啉基、苯胺基中的1個以上的官能團。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述氧化是通過使用紫外線、等離子體或紅外線照射金屬膜，或通過對金屬膜加溫而進(jìn)行的。5.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述酸性基團包含選自羧基、磺酸基、酚基、苯甲酸基、鄰苯二甲酸基、水楊酸基、乙酰水楊酸基以及苯磺酸基中的l個以上的官能團。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物的反応基包含丙烯?；?或甲基丙烯?；?。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述親水性官能團包含環(huán)氧乙烷基和/或環(huán)氧丙烷基。8.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述金屬(Ml)為鉀或鈉。9.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述金屬(M2)，為選自銦、鋅、錫中的l種以上的金屬。10.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述金屬(M2)離子水溶液，包含堿金屬和/或堿土金屬的離子。11.根據(jù)權(quán)利要求l所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述金屬(M2)離子水溶液包含多元醇。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述還原步驟中，使用選自下述(1)(2)(3)中的l種以上的還原劑，和/或采用選自下述(4)中的l種以上的還原方法來進(jìn)行所述金屬(M2)離子的還原(1)抗壞血酸、抗壞血酸鈉、硼氫化鈉、二甲胺硼烷、三甲胺硼烷、檸檬酸、檸檬酸鈉、鞣酸、二硼烷、肼、甲醛、氫化鋁鋰，(2)(1)中的化合物的衍生物，(3)亞硫酸鹽、次磷酸鹽，(4)紫外線、熱、等離子體、氫。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的金屬膜制造方法，其特征在于在所述還原步驟中，當(dāng)使用所述選自(1)(2)(3)中的1種以上的還原劑時，在堿金屬和/或堿土金屬的存在下進(jìn)行所述金屬(M2)離子的還原。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的金屬膜制造方法，其特征在于在所述還原步驟中，與所述還原劑一起使用醇和/或表面活性劑。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法，其特征在于所述有機膜形成步驟中，使用印刷或者納米壓印法對所述有機膜賦予形狀。16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的金屬膜制造方法，其特征在于在將包含具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、和具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物涂布在基板或薄膜上，并進(jìn)行聚合而形成有機膜的有機膜形成步驟中，使用印刷或者納米壓印法對所述有機膜賦予形狀。17.—種金屬膜，是采用權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法所制造的。18.—種金屬膜，是采用權(quán)利要求12所述的金屬膜制造方法所制造的。19.一種電氣設(shè)備以及電子設(shè)備，具備采用權(quán)利要求1所述的金屬膜制造方法所制造的金屬膜。20.—種電氣設(shè)備以及電子設(shè)備，具備采用權(quán)利要求12所述的金屬膜制造方法所制造的金屬膜。全文摘要本發(fā)明所涉及的金屬膜的制造方法，包括以下步驟使用含有具有3個以上反應(yīng)基團的加成聚合性化合物、具有酸性基團的加成聚合性化合物、和具有親水性官能團的加成聚合性化合物的底層組合物形成有機膜的有機膜形成步驟；將所述酸性基團轉(zhuǎn)化為金屬(M1)鹽的金屬鹽生成步驟；通過使用金屬(M2)離子水溶液進(jìn)行處理，將所述酸性基團的金屬(M1)鹽轉(zhuǎn)化為金屬(M2)鹽的金屬固定步驟，所述金屬(M2)離子水溶液含有離子化傾向比所述金屬(M1)離子低的金屬(M2)離子；將所述金屬(M2)離子還原，在所述有機膜表面形成金屬膜的還原步驟；將所述金屬膜進(jìn)行氧化的氧化步驟。由此，提供了能夠在任意的基材上低成本地形成金屬膜以及金屬圖案，能夠解決濺鍍法中存在的問題點的金屬膜的制造方法、由該方法制造的金屬膜以及其應(yīng)用。文檔編號H01B13/00GK101784696SQ20088010436公開日2010年7月21日申請日期2008年11月14日優(yōu)先權(quán)日2007年12月27日發(fā)明者中島誠二,早瀬哲生,森哲也申請人:歐姆龍株式會社