專利名稱：用于發(fā)射顯示裝置內(nèi)的間隔器的涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種發(fā)射顯示裝置，本發(fā)明更具體地涉及用于所述發(fā)射顯 示裝置內(nèi)的間隔器涂層。
背景技術(shù)：
碳納米管(CNT) /場發(fā)射器件(FED)顯示裝置通常包括在其上具有 CNT發(fā)射極的陰極、金屬柵極、絕緣間隔器和熒光屏。絕緣間隔器置入陰 極與熒光屏之間。熒光屏位于顯示裝置的面板的內(nèi)表面上。金屬柵極用于 將由CNT發(fā)射極生成的電子束導(dǎo)引向顯示裝置的屏幕上的適當(dāng)?shù)陌l(fā)色熒光體。
屏幕可以是發(fā)光屏幕(luminescent screen)。發(fā)光屏幕通常包括形 成于其上的一組三個不同發(fā)色熒光體(即，綠色、藍色和紅色)。發(fā)色熒 光體中的每一個通過基體線(matrix line)相互間隔?；w線通常由全 部吸收光的惰性材料形成。
絕緣間隔器用在CNT/FED顯示裝置內(nèi)，以保持陰極與熒光屏之間的距 離在真空下恒定。然而，間隔器在顯示裝置的工作期間可以生成表面靜電 荷，這使圖片質(zhì)量受到不利影響。對于CNT/FED顯示裝置來說，差的圖像 質(zhì)量是尤其關(guān)心的事情。
因此，需要具有在工作期間減小表面靜電放電的CNT/FED顯示裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及用于碳納米管(CNT) /場發(fā)射器件(FED)顯示裝置的電 阻間隔器涂層(resistive spacer coating)。電阻間隔器涂層在保持陰 極與熒光屏之間的場電勢的同時在顯示裝置的工作期間減小間隔器的靜 電放電。電阻涂層包括一個或多個電阻材料，所述一個或多個電阻材料與 然后施加到間隔器的粘合劑結(jié)合。
以下結(jié)合附圖更加詳細地說明本發(fā)明。


圖1是CNT/FED的示意圖，示出了被絕緣間隔器分開的發(fā)光屏幕和陰極。
具體實施例方式
如圖1中所示，碳納米管(CNT) /場發(fā)射器件(FED)顯示裝置l包括 在其上具有CNT發(fā)射極12的陰極10、金屬柵極14、絕緣間隔器16和熒光屏 18。絕緣間隔器16 (圖l中僅僅示出了一個間隔器)置入陰極10與熒光屏 18之間。熒光屏18位于顯示裝置的面板20的內(nèi)表面上。金屬柵極14用于將 由CNT發(fā)射極12生成的電子束引導(dǎo)向顯示裝置1的屏幕18上的適當(dāng)?shù)陌l(fā)色 熒光體24。
屏幕18可以是發(fā)光屏幕。發(fā)光屏幕通常包括形成于其上的一組三個不 同發(fā)色熒光體(即，綠色、藍色和紅色)。發(fā)色熒光體24中的每一個通過 基體(matrix ) 26相互間隔?；w26通常由全部吸收光的惰性材料形成。
三色熒光體24可以包括ZnS:Cu，Al (綠色)熒光體，ZnS:Ag，Cl (藍色) 熒光體和Y202S:Ei/3 (紅色)熒光體。此RGB熒光體系統(tǒng)適用于在大約4-10kv 之間被操作的碳納米管(CNT) /場發(fā)射器件(FED)顯示裝置。
絕緣間隔器16用在CNT/FED顯示裝置內(nèi)，以保持陰極10與熒光屏18之 間的距離在真空下恒定。絕緣間隔器16可以由例如玻璃制成。絕緣間隔器 16在其上具有電阻涂層30。電阻涂層30應(yīng)該具有用于絕緣間隔器16的粘合 性質(zhì)。電阻涂層30可以施加到絕緣間隔器16的每一個表面的部分上。
電阻涂層30用于保持陰極10與屏幕18之間的場電勢的同時減小靜電 放電。顯示出表面電阻率的范圍在大約101()歐姆/平方到大約1015歐姆/平方 的這種涂層足以用于減小間隔器表面的靜電放電。
電阻涂層30可以包括混合有至少一種硅酸玻璃的金屬氧化物。分散劑 可以優(yōu)選地添加到電阻涂層。電阻涂層內(nèi)的金屬氧化物的量用于控制電阻 涂層的電阻率。
合適的金屬氧化物其中可以包括例如氧化鉻。合適的硅酸玻璃其中可以包括例如硅酸鉀、硅酸鈉、硼硅酸鉛鋅玻璃(lead-zinc-borosilicate glass)禾口不透明玻璃(devitrifying glass)。
示例性電阻涂層可以在大約30%重量比的去離子水中包括37°/。重量比 的氧化鉻粉，2%重量比的分散劑，11%重量比的硅酸鈉和20%重量比的硅酸 鉀。在球磨機內(nèi)碾磨電阻涂層混合物，以得到適合于施加到絕緣間隔器16 上的均勻混合物。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，例如，通過噴射(或噴涂)將電阻涂層混 合物施加到絕緣間隔器16。電阻涂層30的厚度優(yōu)選地為大約為0. 05到大約 0. 09mm (2-3. 5密耳)。
在室溫下干燥在其上具有電阻涂層30的絕緣間隔器16。干燥之后，通 過在爐內(nèi)加熱絕緣間隔器16而使絕緣間隔器16上的電阻涂層30變硬(固 化)。將間隔器16加熱超過大約30分鐘到大約30(TC的溫度，并在300。C處 保持大約20分鐘。然后，20分鐘之后，爐內(nèi)的溫度達到大約460。C，并將 此溫度保持兩個小時，以熔化和結(jié)晶涂層并在絕緣間隔器16上形成電阻 層。電阻涂層30在燒制之后通常不再熔化。
雖然已經(jīng)示出并詳細說明了用于并入本發(fā)明的教導(dǎo)的碳納米管(CNT) /場發(fā)射顯示裝置(FED)的示例性發(fā)光屏幕。但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以 容易地設(shè)計人就并入這些教導(dǎo)的許多其它各種各樣的實施例。
權(quán)利要求
1. 一種顯示裝置，包括屏幕，其與具有多個間隔器的陰極間隔開；其中，所述多個間隔器中的一個或多個在其上具有電阻涂層，所述電阻涂層包括金屬氧化物和至少一種硅酸鹽。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的顯示裝置，其中，所述金屬氧化物是氧化鉻。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的顯示裝置，其中，所述至少一種硅酸鹽從包 括硅酸鉀、硅酸鈉、硼硅酸鉛鋅玻璃和不透明玻璃的組中選擇。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的顯示裝置，其中，所述電阻涂層的厚度為大 約O. 05 mm到大約O. 09mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的顯示裝置，其中，所述電阻涂層的表面電阻 率的范圍為大約l(T歐姆/平方到大約10'5歐姆/平方。
6. —種碳納米管/場發(fā)射顯示裝置，包括 屏幕，其與具有多個間隔器的陰極間隔開；其中，所述多個間隔器中的一個或多個在其上具有電阻涂層，所述電 阻涂層包括金屬氧化物和至少一種硅酸鹽。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的碳納米管/場發(fā)射顯示裝置，其中，所述金屬氧化物是氧化鉻。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的碳納米管/場發(fā)射顯示裝置，其中，所述至少一種硅酸鹽從包括硅酸鉀、硅酸鈉、硼硅酸鉛鋅玻璃和不透明玻璃的組 中選擇。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的碳納米管/場發(fā)射顯示裝置，其中，所述電 阻涂層的厚度為大約0.05 mm到大約0.09醒。
10. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的碳納米管/場發(fā)射顯示裝置，其中，所述電 阻涂層的表面電阻率的范圍為大約l(T歐姆/平方到大約10'5歐姆/平方。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于碳納米管(CNT)/場發(fā)射器件(FED)顯示裝置的電阻間隔器涂層。電阻間隔器涂層在保持陰極與熒光屏之間的場電勢的同時在顯示裝置的工作期間減小間隔器的靜電放電。電阻涂層包括一個或多個電阻材料，所述一個或多個電阻材料與然后施加到間隔器的粘合劑結(jié)合。
文檔編號H01L51/50GK101513125SQ200680055171
公開日2009年8月19日 申請日期2006年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月28日
發(fā)明者皮特·邁克爾·銳特, 詹姆·弗朗西斯·愛德華茲 申請人:湯姆森許可貿(mào)易公司