專利名稱：導(dǎo)電材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種導(dǎo)電材料，尤其是一種可節(jié)省材料的導(dǎo)電材料。
背景技術(shù)：
目前，業(yè)界用的導(dǎo)電材料如錫球或線纜，一般其整體都是由金屬材料制成，但是這種導(dǎo)電材料制造需要的金屬材料較多，整體質(zhì)量也較大，特別是如線纜等導(dǎo)電材料，質(zhì)量較大給運輸和使用都帶來極大不便。
因此，有必要設(shè)計一種新型的導(dǎo)電材料，以克服上述缺陷。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目在于提供一種新型的導(dǎo)電材料，可節(jié)有效省金屬材料，且能減小導(dǎo)電材料的整體質(zhì)量。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型一種導(dǎo)電材料，包括基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。
另外本實用新型也可實施為以下方式，一種導(dǎo)電材料，包括由非導(dǎo)電物質(zhì)形成的基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型導(dǎo)電材料，在基材上通過物理鍍膜鍍上導(dǎo)電層，其基材可以不是金屬材料，故可節(jié)省金屬材料，且能減小導(dǎo)電材料的整體質(zhì)量。

圖1是本實用新型導(dǎo)電材料的立體圖。
圖2是圖1所示導(dǎo)電材料沿A-A方向剖視圖。
圖3是圖1所示導(dǎo)電材料第二實施方式沿A-A方向剖視圖。
圖4是圖1所示導(dǎo)電材料第三實施方式沿A-A方向剖視圖。
圖5是圖1所示導(dǎo)電材料第四實施方式沿A-A方向剖視圖。
圖6是本實用新型導(dǎo)電材料第二實施例的示意圖。
圖7是圖6所示導(dǎo)電材料沿B-B方向剖視圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例，對本實用新型導(dǎo)電材料作進一步說明。
在說明之前先解釋兩個名詞一、真空蒸鍍，是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝；二、真空濺鍍，是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，當高能粒子(電場加速的正離子)打在固體待鍍材料的表面時，與表面的原子、分子交換能量，從而使這些原子、分子飛濺出來并在被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
請參照圖1、圖2所示，本實用新型導(dǎo)電材料(在本實施例中為錫球1)，該錫球1包括基材10，基材10為非導(dǎo)電物質(zhì)所形成，在基材10的外表面上設(shè)有導(dǎo)電層11，該導(dǎo)電層11是通過物理鍍膜鍍在基材10外一層膜層11，該膜層11為錫，物理鍍膜方法可為真空濺鍍或真空蒸鍍，故膜層11是通過真空濺鍍或真空蒸鍍鍍在基材10外。為了使導(dǎo)電層11更好的鍍在基材10上，可如圖3(為圖1所示錫球的第二實施方式)所示，先在基材10表面設(shè)有一層介質(zhì)12，后再將導(dǎo)電層11鍍在介質(zhì)12的外表面上。請同時參照圖4所示，為圖1所示錫球的第三實施方，與第一實施方式不同之處在于在膜層11外進一步設(shè)有第二導(dǎo)電層13，該第二導(dǎo)電層13是通過電鍍的方式形成在膜層11的外表面，且所述第二導(dǎo)電層13與所述膜層11為不同的材料，膜層為銅材，第二導(dǎo)電層為錫。再請同時參照圖5所示，為圖1所示錫球的第四實施方，與第一實施方式不同之處在于在該非導(dǎo)電物質(zhì)10為空心的，其能更有效的減小錫球的質(zhì)量。
因本實用新型導(dǎo)電材料，在其外表面鍍上導(dǎo)電層，故可節(jié)省金屬材料，其基材不是金屬材料，而是非導(dǎo)電物質(zhì)，故也能減小導(dǎo)電材料的整體質(zhì)量。
請參照圖6圖7所示，為本實用新型導(dǎo)電材料的第二實施例，在該實施例中的導(dǎo)電材料為線纜2，線纜2包括由非導(dǎo)電物質(zhì)形成的基材20，在基材2外表面設(shè)置有一層介質(zhì)21，在介質(zhì)21外表面通過物理鍍膜鍍在基材20外一層膜層22，該膜層22為銅，物理鍍膜方法可為真空濺鍍或真空蒸鍍，因介質(zhì)21的設(shè)置使得膜層22可更好的鍍在基材20外，在膜層22外用電鍍的方式鍍上第二導(dǎo)電層23，該第二導(dǎo)電層23也為銅，其實際是加厚膜層22，這樣即可初步形成一可導(dǎo)電的線纜，為了適應(yīng)在不同場合的應(yīng)用，在該初步形成的線纜外設(shè)置絕緣體24，絕緣體24外設(shè)有遮蔽層25，該遮蔽層25是通過真空濺鍍或真空蒸鍍等物理鍍膜的方法鍍在絕緣體外表面的一層銅，遮蔽層25的設(shè)置可有效的避免外部電磁干擾影響線纜的信號傳輸。在遮蔽層外設(shè)有第二絕緣體26，該第二絕緣體26可保護遮蔽層25。該線纜2在實施過程中也可達到上述實施例所述目的。
權(quán)利要求1.一種導(dǎo)電材料，包括基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，其特征在于所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層是通過真空濺鍍或真空蒸鍍鍍在基材外。
3.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電材料，其特征在于在所述基材與膜層間設(shè)有一層介質(zhì)。
4.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層外進一步設(shè)有第二導(dǎo)電層。
5.如權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述第二導(dǎo)電層是通過電鍍形成的。
6.如權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述第二導(dǎo)電層與所述膜層為不同的材料。
7.如權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述第二導(dǎo)電層為錫。
8.如權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層為銅。
9.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述導(dǎo)電材料為錫球。
10.一種導(dǎo)電材料，包括由非導(dǎo)電物質(zhì)形成的基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，其特征在于所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。
11.如權(quán)利要求10所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層是通過真空濺鍍或真空蒸鍍鍍在基材外。
12.如權(quán)利要求10所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層為銅。
13.如權(quán)利要求10所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述膜層外進一步設(shè)有第二導(dǎo)電層。
14.如權(quán)利要求13所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述第二導(dǎo)電層是通過電鍍形成的。
15.如權(quán)利要求10所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述第二導(dǎo)電層為銅。
16.如權(quán)利要求10所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述導(dǎo)電材料為線纜。
17.如權(quán)利要求16所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述線纜外設(shè)有絕緣體。
18.如權(quán)利要求17所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述絕緣體外表面設(shè)有遮蔽層。
19.如權(quán)利要求18所述的導(dǎo)電材料，其特征在于所述遮蔽層是通過物理鍍膜的方式鍍在絕緣體外的銅。
20.如權(quán)利要求18所述的導(dǎo)電材料，其特征在于在所述遮蔽層外設(shè)有第二絕緣體。
專利摘要本實用新型一種導(dǎo)電材料，包括基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。另外本實用新型也可實施為以下方式，一種導(dǎo)電材料，包括由非導(dǎo)電物質(zhì)形成的基材，及設(shè)置在基材外的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層是通過物理鍍膜鍍在基材外一層膜層。本實用新型導(dǎo)電材料，在基材上通過物理鍍膜鍍上導(dǎo)電層，其基材可以不是金屬材料，故可節(jié)省金屬材料，且能減小導(dǎo)電材料的整體質(zhì)量。
文檔編號H01B7/17GK2904213SQ20062005827
公開日2007年5月23日 申請日期2006年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月27日
發(fā)明者朱德祥 申請人:番禺得意精密電子工業(yè)有限公司