專利名稱：磁頭滑塊的檢查方法以及檢查裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁頭滑塊的檢查方法以及檢查裝置，特別是涉及將磁頭滑 塊放置在長形條上的狀態(tài)下光學(xué)地檢查該磁頭滑塊的方法。
背景技術(shù)：
通常，磁頭滑塊是通過如下步驟而形成，即，首先在氧化鋁-碳化鈦復(fù)合物
(A1203 .TiC)等的陶瓷晶片上利用薄膜技術(shù)形成記錄再生元件，并把該晶片 切割成將成為介質(zhì)相對面的表面沿長度方向排列成一列的長形條，然后再從該 長形條上切出一一個(gè)磁頭滑塊。在該晶片上形成記錄再生元件時(shí)，該晶片的成 膜面上標(biāo)記各個(gè)磁頭滑塊的編號編碼，并通過該編編碼來管理磁頭滑塊及長形 條。磁頭滑塊從晶片上切出后，在置于長形條上的狀態(tài)下，將接受數(shù)次用光學(xué) 顯微鏡等設(shè)備進(jìn)行的外觀檢查。如果只是在把磁頭滑塊組裝到磁頭折片組合萬 向節(jié)組件(HGA)中的最后階段進(jìn)行檢查的話，就會出現(xiàn)不良率較高的情況， 而且不能有效地查明其原因。由于關(guān)系到掌握各個(gè)工序中的不良現(xiàn)象的發(fā)生比 例、原因查明以及改善等問題，所以，在長形條狀態(tài)下的檢查非常重要。
外觀檢查主要是對介質(zhì)相對面或者經(jīng)研磨后會成為介質(zhì)相對面的表面(簡 稱第一面)上的臟物附著情況或脫落部分的^r查，由于磁頭滑塊的編號編碼標(biāo) 記在成膜面上，所以，檢查第一面時(shí)有必要連成膜面也一并檢查。而且，就長 形條的工序管理而言，在各個(gè)工序中都需要確iU茲頭滑塊的編號編碼，因而實(shí) 際檢查時(shí)對成膜面的檢查次數(shù)反而比第一面的;f全查次數(shù)更多。另外，所述磁頭 滑塊的編碼的確認(rèn)也是通過顯微鏡來進(jìn)行的。特別指定某個(gè)磁頭滑塊時(shí)，需要 有晶片編碼和磁頭滑塊編碼，可是，晶片編碼有時(shí)會標(biāo)記在成膜面相反側(cè)的表 面(晶片背面)上，因此在這種情況下，必須用顯微鏡檢查包含第一面的總共
三個(gè)面。另外，在本說明書中，所謂磁頭滑塊的檢查不只是對第一面等的檢驗(yàn) 檢查、外觀狀態(tài)的檢查，也包含僅對磁頭滑塊編碼或晶片編碼的確認(rèn)工作。
然而，由于長形條非常的脆弱，所以，通常是放入盒子(托盤)中進(jìn)行保
管及移動(dòng)。圖7是以往使用的托盤的一個(gè)示例。該托盤121由框體構(gòu)成，能同 時(shí)收容多個(gè)長形條。托盤相對的兩邊形成有段差123,而所述長形條件將被該段 差123所支撐。如上所述，由于要多次才企查《茲頭滑塊的編碼，因此為了方l更查 看磁頭滑塊的編碼，放置長形條時(shí)將標(biāo)記有磁頭滑塊編碼的成膜面朝上放置。
進(jìn)行第一面的外觀檢查時(shí)，首先用光學(xué)顯微鏡檢查置于托盤的狀態(tài)下的磁 頭滑塊的編碼。晶片編碼標(biāo)記在晶片.的背面上時(shí)，把托盤翻過來再確認(rèn)晶片編 碼。接著，用鑷子從托盤中一個(gè)一個(gè)取出長形條，將其移到具有光學(xué)顯微鏡的 檢查臺上，并進(jìn)行第一面的檢查。但是，這種檢查的質(zhì)量以及效率與作業(yè)者的 技能(定位、檢查時(shí)間等)有很大關(guān)系，因此，由于作業(yè)者的不同而產(chǎn)生的誤 差也很大。為了使用脆弱的長形條，長形條的取出作業(yè)、以及檢查完畢后再放 入托盤中的作業(yè)都要求具有較高的熟練度，如果一旦失敗既會出現(xiàn)長形條的破 損，或者異物附著等情況，從而導(dǎo)致成品良率下降或檢查時(shí)間較長。當(dāng)發(fā)現(xiàn)第 一面上有缺陷時(shí)，為了指定對應(yīng)的磁頭滑塊，有時(shí)還把長形條傾斜90度后再次 檢查磁頭滑塊編碼，不良品越多，；險(xiǎn)查的時(shí)間就越長。而為了縮短檢查時(shí)間， 不得不增加作業(yè)者的人數(shù)。
為了解決上述問題， 一直以來都在努力追求》茲頭滑塊4企查方法的更加合理 化。日本特開1993-223534號公報(bào)揭示了從多個(gè)方向檢查磁頭滑塊的方法。具體 地說，把多個(gè)磁頭滑塊固定在可旋轉(zhuǎn)的支撐體的外周面上，邊旋轉(zhuǎn)該支撐體邊 改變磁頭滑塊的方向，并用固定相機(jī)進(jìn)行外觀檢查。且揭示了固定磁頭滑塊的 方法，即，預(yù)先將^f茲頭滑塊固定在帶子上，然后再將該帶子纏繞在支撐體上。
日本特開2002-048716號公報(bào)揭示了使用鏡子同時(shí)檢查磁頭滑塊多個(gè)面的 方法。具體地說，在作為檢查對象的磁頭滑塊的側(cè)面以45度角放置一鏡子。把 鏡子放置在光學(xué)顯微鏡的視野范圍內(nèi)，在光學(xué)顯微鏡的視野范圍內(nèi)，顯現(xiàn)出磁 頭滑塊的同時(shí)，還顯現(xiàn)出了映在鏡子中的磁頭滑塊側(cè)面的狀態(tài)，從而不僅能檢
查磁頭滑塊正面還能同時(shí)檢查磁頭滑塊側(cè)面的情況。
然而，記載在日本特開1993-223534號公報(bào)和日本特開2002-048716號公報(bào) 中的技術(shù)是從長形條上切下磁頭滑塊后，需要再將被切下的磁頭滑塊裝載到專 用的支撐治具上，因此作業(yè)效率較低。而且使用粘著劑把磁頭滑塊裝載到支撐 治具上時(shí)，粘著劑可能會一直附著在磁頭滑塊上，給磁頭滑塊的可靠性帶來影 響。另外，在這些方法中，不能在把磁頭滑塊放置在長形條的狀態(tài)下對其進(jìn)行 檢查。
鑒于以上問題，本發(fā)明提供一種既能抑制給磁頭滑塊帶來的影響又能高效 率地進(jìn)行磁頭滑塊的外觀檢查的檢查方法以及檢查裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及的一種磁頭滑塊的檢查方法，是在把多個(gè)矩形形狀的磁頭滑塊 沿長形條的長度方向排列成一列的狀態(tài)下檢查這些磁頭滑塊的方法。該檢查方 法包括以下步驟支撐長形條的支撐步驟，從而在分別以長形條長度方向兩側(cè) 的端面以外的》茲頭滑塊的四個(gè)面為起點(diǎn)向外側(cè)延伸的四個(gè)法線矢量中，佳^人第 一面延伸的第一法線矢量和從與第一面相鄰的第二面延伸的第二法線矢量同時(shí) 具有鉛直方向上得分量；以及，檢查步驟，從而對被支撐的長形條的磁頭滑塊， 用第一^r查單元光學(xué)地檢查其所述第一面的同時(shí)，用第二^^查單元光學(xué)地;險(xiǎn)查 其所述第二面。
這樣，長形條以兩個(gè)面同時(shí)朝上的狀態(tài)被支撐，由于該兩個(gè)面能從各自的 方向使用各自的檢查單元同時(shí)進(jìn)行檢查，所以，能夠進(jìn)行高效率的檢查。由于 檢查兩個(gè)面時(shí)無需使用鑷子等物理手段來處理長形條，且磁頭滑塊的檢查能在 收容于托盤內(nèi)的狀態(tài)下進(jìn)行，因此，對磁頭滑塊的影響也能抑制到最小。
而且，所述檢查步驟也可以包括在^r查支撐在托盤上的長形條中的其中一 個(gè)磁頭滑塊的第一面及第二面之后，沿長度方向移動(dòng)該托盤，從而檢查其他磁 頭滑塊的第一面及第二面環(huán)節(jié)。
此外，所述支撐步驟也可以包括用托盤支撐多個(gè)長形條，使各長形條的長度方向軸處于能夠相互平行移動(dòng)的位置上的環(huán)節(jié)；所述檢查步驟也可以包括檢
查完一個(gè)長形條之后，沿與長度方向垂直的方向移動(dòng)托盤，從而檢查其他長形 條的環(huán)節(jié)。
此外，所述檢查步驟也可以包括檢查長形條的其中 一個(gè)磁頭滑塊的第 一面 及第二面之后，沿長度方向上移動(dòng)第一檢查單元及第二檢查單元，從而檢查其 他磁頭滑塊的第 一面及第二面的環(huán)節(jié)。
此外，所述支撐步驟包括支撐多個(gè)長形條而使各長形條的長度方向軸處于
能夠相互平行移動(dòng)的位置上的環(huán)節(jié)；所述檢查步驟也可以包括檢查完一個(gè)長形 條之后，沿與長度方向垂直的方向移動(dòng)第一檢查單元及第二檢查單元，從而檢 查其他的長形條的環(huán)節(jié)。
還有，所述第一4全查單元最好設(shè)置在第一法線矢量的所在的直線上，所述 第二檢查單元最好設(shè)置在第二法線矢量所在的直線上。
本發(fā)明涉及的一種磁頭滑塊的檢查裝置，是在把多個(gè)磁頭滑塊在長形條的 長度方向上排列成一列的狀態(tài)下檢查這些磁頭滑塊的裝置。該磁頭滑塊的檢查 裝置包括托盤、第一檢查單元以及第二檢查單元。其中，該托盤用來支撐長形 條，從而在分別以長形條長度方向兩側(cè)的端面以外的磁頭滑塊的四個(gè)面為起點(diǎn) 向外側(cè)延伸的四個(gè)法線矢量中，使從第一面延伸的第一法線矢量和從與第一面 相鄰的第二面延伸的第二法線矢量同時(shí)具有鉛直方向上分量；該第一檢查單元 設(shè)置在第一法線矢量所在的直線上；該第二4全查單元設(shè)置在第二法線矢量所在 的直線上。
通過使用本檢查裝置能夠較好地實(shí)施上述磁頭滑塊的檢查方法。 如上所述，本發(fā)明提供一種既能夠抑制對磁頭滑塊的影響，又能高效率地 進(jìn)行磁頭滑塊外觀檢查的檢查方法以及檢查裝置。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例所述的磁頭滑塊檢查裝置的整體結(jié)構(gòu)圖。 圖2是沿圖1中的2-2線的磁頭滑塊檢查裝置的剖視圖。 圖3是圖2中A部的局分放大圖。
圖4是沿圖1中的4-4線觀察的磁頭滑塊檢查裝置的俯視圖。 圖5是本發(fā)明磁頭滑塊檢查方法的流程圖。 ， 圖6是顯示在圖像顯示裝置上的各相機(jī)的拍攝圖像的概念圖。 圖7是以往使用的一種托盤的立體圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖將對本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
首先，參照

本發(fā)明第一實(shí)施例的磁頭滑塊的檢查裝置。圖l是本 發(fā)明磁頭滑塊檢查裝置的整體結(jié)構(gòu)圖。圖2是沿圖1中的2-2線的磁頭滑塊檢查 裝置的剖視圖。圖3是圖2中A部的局部放大圖。圖4是沿著圖1中的4-4線 觀察的磁頭滑塊檢查裝置的俯視圖。各圖所示出的均是收容有長形條的狀態(tài)。
請參閱圖1 ，托盤16由內(nèi)側(cè)設(shè)有開口的框體組成，該框體的相對的兩邊設(shè) 置有多個(gè)段差17。為防止靜電破壞磁頭滑塊，該框體由含碳的塑料制成。為確 保長形條B的收容空間，可以在托盤16上設(shè)置底板(圖未示)。如圖2所示， 該段差17具有一表面相對于水平方向傾斜e角的接觸面1&該長形條B則通過 其兩側(cè)的端部El、 E2搭載在該接觸面18上而被支撐在托盤16上。該接觸面 18的角度e可選擇30度至60度中的任意角度。以免，該段差17的深度設(shè)計(jì)成 可避免相機(jī)11、 12 (后面敘述)接觸托盤16,并且，在把形條B設(shè)置在托盤16 上時(shí)該長形條B的上端部突出于該托盤16的深度。該托盤16也可以具有用真 空卡盤來固定長形條B的功能。
所述托盤16能夠支撐多個(gè)以互相平行移動(dòng)的位置關(guān)系放置的長形條B。而 且，要適當(dāng)?shù)卦O(shè)定該長形條B之間的間隔，以免相機(jī)ll、 12誤接觸到相鄰的長 形條B。
所述托盤16也具有保管長形條B的功能。該托盤16在磁頭滑塊制程的多 個(gè)工序中單獨(dú)使用，只有在需要檢查磁頭滑塊的外觀時(shí)，才被組裝到磁頭滑塊 的檢查裝置1上。
所述托盤16通過移動(dòng)單元(圖未示)可以在長形條B的長度方向x,長形 條B的排列方向y以及鉛直方向z上移動(dòng)。
長形條B是多個(gè)矩形形狀的磁頭滑塊S可在長度方向x上排列成一列的橫 桿。而且，各磁頭滑塊S處于除了其與相鄰的磁頭滑塊S接觸的兩個(gè)面以外的 其他四個(gè)面M1 M4均能從外部視覺確認(rèn)的狀態(tài)。該長形條B的長度方向x的 兩側(cè)端面由段差17支撐，磁頭滑塊S的四個(gè)面M1 M4以從外部能夠視覺確認(rèn) 的狀態(tài)被支撐在托盤16的中空部上。如圖3所示，第一面Ml是磁頭滑塊介質(zhì) 相對面或者是將成為介質(zhì)相對面的表面(進(jìn)行研磨之前的表面)。第二面M2 是晶片的成膜面。第三面M3是介質(zhì)相對面的背面，第四面M4是晶片成膜面的 背面。
如圖3所示，分別以這四個(gè)面M1 M4為起點(diǎn)，引出了向^茲頭滑塊S的外側(cè) 延伸的四個(gè)法線矢量V1 V4。第一法線矢量VI是從第一面Ml延伸的矢量，第 二法線矢量V2是>^人第二面M2延伸的矢量，該第二法線矢量V2相對于水平面 傾斜e角。第三法線矢量V3是從第三面M3延伸的矢量。第四法線矢量V4是 從第四面M4延伸的矢量。由于長形條B以圖3所示的方向支撐在托盤16上， 所以，第一法線矢量VI和第二法線矢量V2在鉛直方向上同時(shí)具有分量，因此， 如下面所述，在長形條B收容于托盤16的狀態(tài)下，能夠同時(shí)觀察到磁頭滑塊S
的介質(zhì)相對面和成膜面。
在第一法線矢量VI所在的直線上設(shè)置有第一相機(jī)11,該第一相機(jī)11能夠 拍攝磁頭滑塊S的第一面Ml (介質(zhì)相對面)。該第一相機(jī)11能夠切換200倍 和500倍的兩個(gè)倍率，以實(shí)現(xiàn)分別以適當(dāng)?shù)谋堵蕶z查一個(gè)磁頭滑塊S的第一面 Ml的整體部分和元件(石茲極(pole))的周邊部分。
在第二法線矢量V2所在的直線上設(shè)置有第二相機(jī)12,該第二相機(jī)12能夠 拍攝磁頭滑塊S的第二面M2 (成膜面)。該第二相機(jī)12能夠以200倍的倍率 進(jìn)行檢查，以實(shí)現(xiàn)檢查一個(gè)磁頭滑塊S的成膜面的整體。
該第一相機(jī)11及第二相機(jī)12可以使用搭載了如CCD(Charge-Coupled Device)的數(shù)碼相機(jī)，但不限于此，也可以使用顯微鏡等的其他任意一種光學(xué)檢
查單元。該第一相機(jī)11也并不一定要設(shè)置在第一法線矢量VI所在的直線上， 也可以設(shè)置在稍微偏離該第一法線矢量VI的位置上，只要能適當(dāng)?shù)嘏臄z到第一
面M1即可。當(dāng)然，第二個(gè)相機(jī)12也是一樣的。而且倍率也不限于此，可以是 可變倍率。該第一相機(jī)11和第二相機(jī)12通過移動(dòng)單元(圖未示)可以在長形 條B的長度方向x，相4幾的光軸方向y '以及與該兩個(gè)方向垂直的方向z '上移 動(dòng)。相機(jī)在光軸方向y '上的移動(dòng)可以用于調(diào)整相機(jī)的焦點(diǎn)。另外，根據(jù)相機(jī) 11、 12的不同，坐標(biāo)軸x-y '-z'的配置"fc不同，即，對于相才幾12來i兌其光軸 方向y '與方向y形成角度e，而對于相機(jī)11來說其光軸方向y '與方向z形成
角度e。
各相機(jī)11、 12均連接到圖像顯示裝置15上。該圖像顯示裝置15通過分割 一個(gè)畫面等的方式能夠同時(shí)顯示出相機(jī)11和相機(jī)12所拍攝到的數(shù)據(jù)。該相機(jī) 11、相機(jī)12以及圖像顯示裝置15也可以連接到圖像處理以及圖像顯示用的計(jì) 算機(jī)上(圖未示)。
下面，參照圖5所示的流程圖來說明使用上述檢查裝置檢查磁頭滑塊的方 法。該磁頭滑塊的檢查方法其進(jìn)行步驟如下所述。
即，步驟S1:首先，如圖3所示，將從晶片切下的多個(gè)長形條B放置在托 盤16中，并將其第一面M1及第二面M2朝上;^文置。如上所述，長形條B是多 個(gè)磁頭滑塊S在長度方向x上排列成一列的磁頭滑塊的集合體。磁頭滑塊大致 呈長方體形狀， 一側(cè)的表面形成為第一面Ml，而該第一面Ml是介質(zhì)相對面或 者經(jīng)研磨預(yù)成為介質(zhì)相對面的表面。多個(gè)長形條B由托盤16支撐著，并位于各 個(gè)長形條B的長度方向軸(沿方向x延伸的長形條B的中心軸)能夠相互平行 移動(dòng)的位置上。
步驟S2:在上述狀態(tài)下，通過移動(dòng)單元向上提高托盤16,并在該托盤16 達(dá)到第一相機(jī)11能夠拍攝第一面Ml的位置、第二相機(jī)12能夠拍攝第二面M2 的位置上時(shí)停止上升。待該托盤16停止后，在光軸方向y'上移動(dòng)該第一相機(jī) 11或第二相機(jī)12進(jìn)行調(diào)焦。另外，也可以在方向x、 z一上移動(dòng)第一相機(jī)ll或 第二相機(jī)12進(jìn)行攝像位置的微調(diào)。 步驟S3:用第一相機(jī)11和第二相機(jī)12光學(xué)地檢查作為檢查對象的磁頭滑 塊S的第一面M1、第二面M2。通過自動(dòng)操作或者手動(dòng)操作切換第一相機(jī)11 的倍率，取得第一面Ml的整體圖像和磁極(pole)附近的放大圖像。通過觀察 整體圖像，能夠檢查第一面M1上的劃傷及異物的存在與否。磁極附近是對磁頭 滑塊在功能方面特別重要的部位，也是有必要用高倍率檢查的部位。通過以切 換倍率的方式拍攝適當(dāng)?shù)姆秶?，能夠提高檢查精度。用第一相機(jī)ll進(jìn)行拍攝的 同時(shí)，也用第二相機(jī)12進(jìn)行拍t聶而取得第二面M2的整體圖像。該第二面M2 是標(biāo)記有》茲頭滑塊編碼的成膜面。該成膜面上還形成有焊點(diǎn)(圖未示)，而且 洗凈后的異物和碎屑(chipping)很容易產(chǎn)生問題，因此檢查的必要性較大。這 個(gè)面上有時(shí)也標(biāo)記有晶片編碼。另外，所謂同時(shí)取得圖像，或者同時(shí)進(jìn)行檢查 的意思并不是嚴(yán)格意義上的同一時(shí)刻，多多少少有些時(shí)間差也是可以的。
圖6是顯示在圖像顯示裝置上的各相機(jī)的拍攝圖像的概念圖。圖像顯示裝 置15的顯示器畫面被分成三個(gè)區(qū)域,在各個(gè)區(qū)域上同時(shí)顯示上述第一面Ml的 整體圖像(右下)、磁極附近(圖中A部)的放大圖(右上)以及第二面M2 的整體圖像(左)。因?yàn)橥瑫r(shí)顯示碎屑等的缺陷部C1、 C2,磁頭滑塊編碼N1 也被同時(shí)顯示出來，所以，容易進(jìn)行缺陷存在與否的判斷、及對具有缺陷的長 形條或者磁頭滑塊的特別指定。當(dāng)然，并不限于三幅圖像同時(shí)顯示，也可以把 一幅幅圖像依次顯示在整個(gè)顯示器畫面上，又或者可以只選擇其中兩幅圖像來 同時(shí)顯示。
步驟S4:對一個(gè)磁頭滑塊S的第一面M1及第二面M2的檢查結(jié)束后，在 長度方向x上移動(dòng)托盤16，檢查其他磁頭滑塊S的第一面Ml及第二面M2。檢 查方法和步驟S3 —樣。
步驟S5:對一個(gè)長形條B的檢查結(jié)束后，在方向y上移動(dòng)托盤16,檢查其 他的長形條B。具體地說，就是重復(fù)進(jìn)行步驟S3和S4。
步驟S6:對所有長形條B的檢查結(jié)束后，將托盤降落到初始位置上。
在上述的檢查方法中，作為檢查對象的磁頭滑塊的更換主要是通過移動(dòng)托 盤16來進(jìn)行的，當(dāng)然，也可以通過移動(dòng)相機(jī)11和相機(jī)12來進(jìn)行。即，檢查完
長形條B中的一個(gè)石茲頭滑塊S的第一面Ml及第二面M2之后，沿長度方向x 移動(dòng)第一相機(jī)11及第二相機(jī)12，以此檢查其他磁頭滑塊S的第一面Ml及第二 面M2。同樣，作為檢查對象的長形條的更換也可以通過移動(dòng)相機(jī)11及相機(jī)12 來進(jìn)行。即，檢查完一個(gè)長形條B之后，沿方向y移動(dòng)第一相機(jī)11及第二相機(jī) 12,以此檢查其他的長形條B。此時(shí)，在方向y上的移動(dòng)可以是結(jié)合在方向y ' 的移動(dòng)和在方向z'上的移動(dòng)來實(shí)現(xiàn)。
在上述;f企查方法中，說明了同時(shí)觀察介質(zhì)相對面和成膜面的方法，當(dāng)然， 其他的表面也能同時(shí)觀察。例如，第三面M3是晶片背面?zhèn)鹊谋砻?成膜面的背 面)，該面上有時(shí)也標(biāo)記有晶片編碼。這種情況下的^r查方法有以下兩種。
第一種方法是把托盤上下翻轉(zhuǎn)。即把圖1所示狀態(tài)的托盤上下翻轉(zhuǎn)。此時(shí)， 希望有個(gè)措施能使長形條不從托盤上掉落下來。具體地說，當(dāng)把長形條放置在 托盤上之后，希望在長形條的上方設(shè)置一個(gè)用于防止長形條掉落的蓋體。或者 用上述真空吸附等適當(dāng)?shù)姆椒ò验L形條B牢牢地固定在段差17內(nèi)。
第二種方法是在托盤的下方也設(shè)置相機(jī)。具體地說，如圖3中的虛線所示， 在從第三面M3延伸的第三法線矢量V3所在的直線上設(shè)置第三相機(jī)U用該第 三相機(jī)13檢查第三面M3。用三臺相機(jī)能夠同時(shí)檢查磁頭滑塊S的第一面至第 三面M1 M3。再者，在乂人第四面M4延伸的第四法線矢量V4所在的直線上設(shè) 置第四相機(jī)14,從而能夠檢查磁頭滑塊S的第四面M4。其結(jié)果，可以用四臺 相機(jī)同時(shí)檢查磁頭滑塊S的第一面至第四面M1 M4。當(dāng)然，第三相機(jī)13、第四 相機(jī)14并不一定要設(shè)置在該第三法線矢量V3、第四法線矢量V4所在的直線 上，也可以設(shè)置在多少偏離第三法線矢量V3、第四法線矢量V4的位置上，只 要能夠適當(dāng)?shù)嘏臄z到第三面M3、第四面M4即可。此時(shí)，才艮據(jù)需要，在圖像顯 示裝置15上也能同時(shí)顯示第三面M3、第四面M4的圖像信息。另外，采用第 二種方法時(shí)，托盤16上不能設(shè)置底面。
如上所述，根據(jù)本實(shí)施例所述的磁頭滑塊的檢查裝置及檢查方法，可以用 高效率且高可靠性的方法同時(shí)檢查置于長形條上的磁頭滑塊的多個(gè)面。即，由 于長形條是傾斜地收容在托盤內(nèi)，從而能同時(shí)檢查兩個(gè)面。因此，降低了檢查
時(shí)由于鑷子等的接觸而對介質(zhì)相對面產(chǎn)生損傷的可能性。由于各個(gè)面的檢查結(jié) 果能同時(shí)顯示在圖像顯示裝置上，因此很容易確定不良的磁頭滑塊，從而提高 了作業(yè)效率。通常，碎屑或異物的不良在檢查的各個(gè)面上具有相關(guān)性，因而， 同時(shí)顯示各個(gè)面的檢查信息、或者解析、原因查明均變得比較容易。而且，作 業(yè)效率也有所提高，并減少了設(shè)置多個(gè)使用光學(xué)顯微鏡的檢查裝置的必要性， 還削減了作業(yè)空間。
另夕卜，在本實(shí)施例中，可以以》茲頭滑塊的介質(zhì)相對面幾乎朝上放置的狀態(tài) 保管長形條。因?yàn)閷⒋蓬^滑塊的介質(zhì)相對面朝上放置時(shí)的工序比較多，所以， 采用這種樣的長形條的保管方法有其優(yōu)點(diǎn)?，F(xiàn)有技術(shù)中，由于需要頻繁的確認(rèn) 磁頭滑塊的編碼，因而往往優(yōu)先采用成膜面朝上放置的方法。然而在本實(shí)施例 中，由于標(biāo)記在成膜面上的磁頭滑塊的編碼很容易識別，因此成膜面朝上保管 的必要性很小，從而通常是把工序上較有利的笫 一 面朝上放置。
可以理解，本發(fā)明不只適用于長形條的狀態(tài)，其他的狀態(tài)下也能實(shí)施。例 如，可以對單體狀態(tài)下的一個(gè)個(gè)磁頭滑塊、或者以橫桿狀排列在支撐物上的狀 態(tài)下的多個(gè)磁頭滑塊實(shí)施本發(fā)明。
權(quán)利要求
1.一種磁頭滑塊的檢查方法，是在多個(gè)矩形形狀的磁頭滑塊沿長形條的長度方向排列成一列的狀態(tài)下檢查這些磁頭滑塊的方法，其包括以下步驟支撐所述長形條的步驟，從而在分別以長形條的長度方向兩側(cè)的端面以外的所述磁頭滑塊的四個(gè)面為起點(diǎn)向外側(cè)延伸的四個(gè)法線矢量中，使從第一面延伸的第一法線矢量和從與第一面相鄰的第二面延伸的第二法線矢量同時(shí)具有鉛直方向上的分量；檢查步驟，從而對被支撐的所述長形條中的磁頭滑塊，用第一檢查單元光學(xué)地檢查其所述第一面的同時(shí)，用第二檢查單元光學(xué)地檢查其所述第二面。
2. 如權(quán)利要求1所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查步驟包括 檢查完支撐在托盤上的所述長形條其中的一個(gè)磁頭滑塊的第一面及第二面之 后，沿所述長度方向移動(dòng)所述托盤，并檢查其他磁頭滑塊的第一面和第二面的 環(huán)節(jié)。
3. 如權(quán)利要求1所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述支撐步驟包括 用托盤支撐多個(gè)所述長形條的環(huán)節(jié)，使得各長形條的長度方向軸處于能夠相互 平行移動(dòng)的位置上；所述檢查步驟包括檢查完其中一個(gè)長形條之后，沿與長度 方向垂直的方向移動(dòng)所述托盤，并檢查其他長形條的環(huán)節(jié)。
4. 如權(quán)利要求1所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查步驟包括 檢查長形條其中一個(gè)^f茲頭滑塊的第一面及第二面之后，沿所述長度方向移動(dòng)所 述第一檢查單元及所述第二檢查單元，并檢查其他磁頭滑塊的第一面及第二面 的環(huán)節(jié)。
5. 如權(quán)利要求1所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述支撐步驟包括 支撐多個(gè)所述長形條的環(huán)節(jié)，使得各長形條的長度方向軸處于能夠相互平行移 動(dòng)的位置上；所述檢查步驟包括檢查完其中一個(gè)長形條之后，沿與長度方向垂 直的方向移動(dòng)所述第一檢查單元及所述第二檢查單元，并檢查其他長形條的環(huán) 節(jié)。
6. 如權(quán)利要求1至5任意一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述 第一檢查單元設(shè)置在所述第一法線矢量所在的直線上，所述第二檢查單元設(shè)置 在所述第二法線矢量所在的直線上。
7. 如權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查步驟包括在檢查所述第一面及第二面的同時(shí)利用第三檢查單元檢查第三面 的環(huán)節(jié)，其中該第三檢查單元設(shè)置在從所述磁頭滑塊的第三面延伸的第三法線 矢量所在的直線上。
8. 如權(quán)利要求7所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查步驟包括在檢查第 一面、第二面以及第三面的同時(shí)利用第四檢查單元檢查第四面的環(huán)節(jié)， 其中該第四檢查單元設(shè)置在從該磁頭滑塊第四面延伸的第四法線矢量所在的直線上。
9. 如權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查步驟包括將檢查完的所述長形條的各個(gè)面的狀況同時(shí)顯示在一個(gè)圖像顯示 裝置上的環(huán)節(jié)。
10. 如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述長形條的第一面是磁頭滑塊的介質(zhì)相對面或者是將成為介質(zhì)相對面的表面。
11. 一種磁頭滑塊的檢查裝置，是在多個(gè)矩形形狀的磁頭滑塊沿長形條的長度方向排列成一列的的狀態(tài)下檢查這些磁頭滑塊的裝置，其包括托盤，該托盤用來支撐所述長形條，從而在分別以長形條長度方向兩側(cè)的 端面以外的所述磁頭滑塊的四個(gè)面為起點(diǎn)向外側(cè)延伸的該-茲頭滑塊的四個(gè)法線矢量中，使從第一面延伸的第一法線矢量和從與該第一面相鄰的第二面延伸的 第二法線矢量同時(shí)具有鉛直方向上的分量；第一檢查單元，其設(shè)置在該第一法線矢量所在的直線上；以及，第二檢查單元，其設(shè)置在該第二法線矢量所在的直線上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種既能抑制對磁頭滑塊的影響，又能高效率地進(jìn)行磁頭滑塊外觀檢查的方法。一種磁頭滑塊的檢查方法，是在多個(gè)矩形形狀的磁頭滑塊沿長形條的長度方向排列成一列的狀態(tài)下檢查磁頭滑塊的方法。該方法包括支撐長形條的支撐步驟，從而在分別以長形條長度方向兩側(cè)的端面以外的磁頭滑塊四個(gè)面為起點(diǎn)向外側(cè)延伸的四個(gè)法線矢量中，使從第一面延伸的第一法線矢量和從與第一面相鄰的第二面延伸的第二法線矢量同時(shí)具有鉛直方向上的分量；檢查步驟，從而對被支撐的所述長形條中的磁頭滑塊，用第一檢查單元光學(xué)地檢查其所述第一面，同時(shí)用第二檢查單元光學(xué)地檢查其所述第二面。另外，本發(fā)明還提供一種磁頭滑塊的檢查裝置。
文檔編號G11B5/455GK101202051SQ20071019958
公開日2008年6月18日 申請日期2007年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月12日
發(fā)明者佐藤慶一, 藤井隆司 申請人:新科實(shí)業(yè)有限公司