專利名稱：選擇性執(zhí)行功率控制最佳化的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及數(shù)據(jù)記錄，并且一種特定實施方式涉及選擇性執(zhí)行光盤記錄設(shè)備中功率控制最佳控制的方法。

背景技術(shù)：
光學(xué)盤，諸如可記錄(“DVD-R”)-數(shù)字化通用光盤(“DVD”)或可重寫DVD(“DVD-RW”)光盤，被用于存儲和再現(xiàn)高質(zhì)量音頻和視頻數(shù)據(jù)。為了確定一個對于光盤記錄設(shè)備適合的功率電平，讀取或分析光盤的功率校準區(qū)域(“PCA”)，并且分析的結(jié)果被用來確定數(shù)據(jù)記錄所需的一個最佳寫入功率。這種方法通常被稱為功率控制最佳化(“OPC”)法。


發(fā)明內(nèi)容
大體上一方面，在基礎(chǔ)速度測量光盤內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域OPC值，基于該內(nèi)部區(qū)域OPC值，與基礎(chǔ)速度和所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算預(yù)測外部區(qū)域OPC值。將該預(yù)測外部區(qū)域OPC值與一個激光功率極限比較，以確定是否在所需最大速度測量光盤外部區(qū)域的外部區(qū)域OPC值。
實施方式可以包括一種或者多種附加特征。例如，該預(yù)測外部區(qū)域OPC值可以用下面示出的等式(1)表示 在等 式(1)中，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示所測量的內(nèi)部區(qū)域OPC值，Pdessired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCouter表示預(yù)測外部區(qū)域OPC值。
可選的，該預(yù)測外部區(qū)域OPC值可以用下面示出的等式(2)表示 OPCouter＝Pdesired-Pbase+OPCinner (2) 可以至少部分地基于該預(yù)測外部區(qū)域OPC值是否超過該激光功率極限來確定是否測量在外部區(qū)域上的該外部區(qū)域OPC值。如果超過了該極限，該外部區(qū)域OPC值可以在光盤外部區(qū)域上以一個所需的最大速度測量。如果該預(yù)測外部區(qū)域OPC值沒有超過該激光功率極限，該預(yù)測外部區(qū)域OPC值可以作為已存儲的外部區(qū)域OPC值存儲。
可以將該測量的外部區(qū)域OPC值與該激光功率極限比較，和當該預(yù)測外部區(qū)域OPC值超過該激光功率極限并且該測量的外部區(qū)域OPC值未超過該激光功率極限時，作為已存儲的外部區(qū)域OPC值存儲。當該測量的外部區(qū)域OPC值超過該激光功率極限時，該激光功率極限可以作為該已存儲的外部區(qū)域OPC值被存儲。當該激光功率極限作為該已存儲外部區(qū)域OPC值被存儲時，可以基于該基礎(chǔ)速度，該內(nèi)部區(qū)域OPC值，和與該基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的該參考激光功率計算一個新的最大速度，并且該新的最大速度比該基礎(chǔ)速度快并且比所需最大速度慢。如果該激光功率極限作為該已存儲的外部區(qū)域OPC值被存儲，則可以以轉(zhuǎn)換半徑介于基礎(chǔ)速度和該新的最大速度之間的恒定角速度(“CAV”)模式和以該新的最大速度的恒定線速度(“CLV”)模式將數(shù)據(jù)記錄在光盤上。
該轉(zhuǎn)換半徑Rconvo可以用下面示出的等式(3)表示 在等式(3)中，Router表示外部半徑，Rconvo表示該轉(zhuǎn)換半徑，Sref表示該參考最大記錄速度，和Scalc表示所計算的最大記錄速度。當該預(yù)測外部區(qū)域OPC值未超過該激光功率極限或者該測量的外部區(qū)域OPC值未超過該激光功率極限時，可以以介于該基礎(chǔ)速度和所需最大速度之間的CAV模式將數(shù)據(jù)存儲在光盤上?？梢源鎯σ粋€激光功率極限和一個表格，該表格包括光盤速度和與其相關(guān)聯(lián)的參考激光功率。例如，該基礎(chǔ)速度可以為4×，而所需最大速度可以為16×。
在另外一個實施方式中，一個設(shè)備包括測量裝置，其用來在基礎(chǔ)速度測量光盤內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域OPC值。該設(shè)備還包括一個處理裝置，其用來基于該內(nèi)部區(qū)域OPC值，與該基礎(chǔ)速度和所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算一個預(yù)測的外部區(qū)域OPC值，將該預(yù)測外部區(qū)域OPC值與激光功率極限比較，來確定是否以所需最大速度測量光盤外部區(qū)域的外部區(qū)域OPC值。



根據(jù)以下的說明，包括附圖和權(quán)利要求書，本發(fā)明的其它特征將變得易懂。
圖1A到1C和2A到2B為說明優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄過程的框圖和線狀圖。
圖3為說明優(yōu)選光盤記錄裝置的框圖。
圖4和5為說明優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄方法的流程圖。
圖6A到6C和7A到7C為另外的說明優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄步驟的框圖和線狀圖。
圖8為說明優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄方法的流程圖。
全文中，相同的附圖標記表示相應(yīng)的部件。

具體實施例方式 圖1A到1C說明了優(yōu)選的數(shù)據(jù)記錄過程，其中所請求記錄速度為16×。特別地，圖1A為光盤100的框圖，其中該最左邊區(qū)域相當于該光盤100的內(nèi)部圓周，該最右邊區(qū)域相當于該光盤100的外部圓周。該光盤100包括內(nèi)部PCA101，記錄管理區(qū)域(“RMA”)102，導(dǎo)入?yún)^(qū)(“LIA”)103，數(shù)據(jù)區(qū)104，導(dǎo)出區(qū)(“LOA”)105，和外部PCA106。
圖1B為繪制了與位置相對應(yīng)的記錄速度的線狀圖120，用于在光盤100的數(shù)據(jù)區(qū)域104記錄。該線狀圖120最左邊區(qū)域與數(shù)據(jù)區(qū)域104的內(nèi)部圓周121對齊，該線狀圖120的最右邊區(qū)域與數(shù)據(jù)區(qū)域104的外部圓周122對齊。
圖1C為繪制了與記錄速度相對應(yīng)的光功率的線狀圖130，其中線狀圖130與線狀圖120對齊。例如，附圖標記131的記錄位置在線狀圖120和線狀圖130中都相當于記錄速度8×。類似地，附圖標記132和133的記錄位置分別相當于在線狀圖120和線狀圖130中的記錄速度12×和16×。
在一個例子中，所請求記錄速度為4×。光盤記錄裝置傳輸光盤數(shù)據(jù)的速率被規(guī)范為與音樂光盤(“CD”)相關(guān)的一個速度因數(shù)，或者1×，相當于在普通數(shù)據(jù)格式下每秒150千字節(jié)的數(shù)據(jù)傳輸速率。例如，4×的記錄速度，相當于1×記錄裝置速度的四倍，或者每秒600千字節(jié)。在4×記錄速度下，光盤記錄裝置訪問該內(nèi)部PCA101，并且通過在4×記錄速度執(zhí)行該OPC步驟，檢測用于該4×記錄速度的光學(xué)功率值。
如果所請求速度為16×，則該光盤記錄裝置檢測用于該光盤內(nèi)部和外部PCA101和106的內(nèi)部和外部功率值。特別地，以4×記錄速度在該內(nèi)部PCA101中執(zhí)行OPC步驟，并且以16×記錄速度在外部PCA106中執(zhí)行該OPC步驟。
該光盤記錄裝置通過在OPC過程中在內(nèi)部PCA101和外部PCA106中檢測到的4×光學(xué)功率值和16×光學(xué)功率值，來計算記錄速度下的光學(xué)功率值，然后通過應(yīng)用所計算的光學(xué)功率值來實施數(shù)據(jù)記錄過程。由于該數(shù)據(jù)區(qū)域的內(nèi)部圓周121和外部圓周122的半徑比率相差約2.4倍，當光盤以CAV旋轉(zhuǎn)時，外部圓周122的線速度或記錄速度大約比內(nèi)部圓周的線速度快2.4倍。
可以通過很多方法確定光盤記錄裝置的最大記錄速度，例如通過確定主軸馬達的旋轉(zhuǎn)速度，致動器的傳輸函數(shù)，光學(xué)二級管的輸出功率，或者相應(yīng)于外部圓周122記錄速度的最大記錄速度。在光盤記錄設(shè)備中，在內(nèi)部圓周121的最大記錄速度為光盤記錄設(shè)備最大記錄速度如外部圓周122的最大記錄速度的約1/2.4倍。例如，當設(shè)備的最大記錄速度為16×，在內(nèi)部圓周的最大記錄速度為16×/2.4或6.7×。
如果光盤以CAV旋轉(zhuǎn)的同時，在光盤上從數(shù)據(jù)區(qū)內(nèi)部圓周121到外部圓周122的方向記錄數(shù)據(jù)，該數(shù)據(jù)記錄速度根據(jù)為記錄速度所計算的光學(xué)功率值逐漸地從6.7×增加到16×。例如，如線狀圖120和130所示，在6.7×(在內(nèi)部圓周121)時光學(xué)功率值可以調(diào)整為46.8mW，在8×(在標記131)時為50mW，在12×(在標記132)為60mW，并且在16×(在外部圓周122)為70mW。
寫入數(shù)據(jù)時的該光學(xué)功率值消耗取決于不同的因素。通常，隨著記錄速度和環(huán)境溫度的增加，光學(xué)功率需求也會增加。因此，隨著記錄速度和環(huán)境溫度的增加，所需寫入數(shù)據(jù)的光學(xué)功率可能會超過激光的最大可用功率值。
圖2A和2B說明了線狀圖，其中該光學(xué)功率需求由于環(huán)境溫度的增加而增加。如圖2B所示，在標記202處所需求的光學(xué)功率，相應(yīng)為4×，高于圖1C的線狀圖130中相同速度時的光學(xué)功率，而且在6.7×，8×，和12×處，光學(xué)功率也增加。該典型功率曲線203增加直到標記204，在該光學(xué)功率達到最大可用光學(xué)功率70mW。因此，由于在標記204處達到16×之前就達到最大功率輸出，可能在相應(yīng)于誤差區(qū)域201的數(shù)據(jù)區(qū)域內(nèi)發(fā)生記錄誤差(如圖2A所示)。
如果已經(jīng)確定用于所需求記錄速度的光學(xué)功率不足，則該光盤記錄設(shè)備可能降低記錄速度。該光盤記錄設(shè)備還測量該環(huán)境溫度和使用所測量的環(huán)境溫度作為降低記錄速度的一個依據(jù)。特別地，當所測量的環(huán)境溫度高于特定值時，該記錄速度可能被降低。為了確定用于光盤記錄設(shè)備的適當功率水平，可以使用該OPC步驟讀取或分析該光盤的PCA。
圖3為說明了優(yōu)選光盤記錄設(shè)備300的框圖，其中包括光學(xué)拾取器301，主軸馬達302，滑塊馬達303，驅(qū)動單元304，光學(xué)驅(qū)動單元305，信道比特(“CB”)編碼器306，數(shù)字信號處理器(“DSP”)307，射頻(“RF”)單元308，伺服單元309，存儲器310，和微處理器311。該存儲器310為非易失存儲器，例如EEPROM，閃存，或者其它類型的存儲器，其中包括與用于各種記錄速度的參考光學(xué)功率值和光學(xué)拾取器301內(nèi)的激光二極管產(chǎn)生的最大激光功率相關(guān)的信息。
當實施該數(shù)據(jù)記錄過程時，該微處理器311訪問一個內(nèi)部區(qū)域，例如，該光盤315的內(nèi)部PCA，然后以一個記錄速度執(zhí)行OPC步驟。該OPC步驟能夠檢測適合于記錄速度的光學(xué)功率值。通過控制伺服單元309和光學(xué)驅(qū)動單元305來設(shè)置光學(xué)功率值。
該微處理器311通過比較所檢測的光學(xué)功率值和存儲器310中管理的該參考光學(xué)功率值來預(yù)測一個適用于記錄速度的光學(xué)功率值。特別地，該微處理器311預(yù)測該光學(xué)功率值而不需要執(zhí)行在外部PCA上的該OPC步驟。該微處理器311可以根據(jù)該光盤記錄設(shè)備是否支持該預(yù)測光學(xué)功率值來選擇性的執(zhí)行在外部PCA上的OPC步驟。
圖4和5是說明了用于光盤記錄裝置的優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄方法的流程圖。當方法400開始(S400)時，OPC以基礎(chǔ)速度(S401)執(zhí)行。雖然，在這個例子中，該基礎(chǔ)速度描述為4×，而最大速度描述為16×，還可以使用其它的速度。
在一個例子中，該微處理器311訪問光盤315的內(nèi)部PCA并在4×的記錄速度執(zhí)行OPC步驟。該OPC步驟通過控制伺服系統(tǒng)309和光學(xué)驅(qū)動單元305來檢測適用于4×的光學(xué)功率值。該微處理器311計算用于所需求記錄速度(S402)的預(yù)測光學(xué)功率值。該計算可以包括使用成比例關(guān)系，偏移關(guān)系或者其他關(guān)系的合并了所測量值和參考值的表達式。特別地，該預(yù)測最優(yōu)功率值可以通過各種包括所測量的最優(yōu)功率值的數(shù)學(xué)關(guān)系計算。
在另一個例子中，該預(yù)測光學(xué)功率值是使用了所測量的光學(xué)功率值，存儲器31O中管理的某個記錄速度的參考光學(xué)功率值，及存儲器310中管理的參考光學(xué)功率值按照比例表達式計算得出。特別地，根據(jù)該所需記錄速度的參考光學(xué)功率值，使用該比例表達式計算用于各自記錄速度的該預(yù)測光學(xué)功率值。
該適用于4×的所測量的光學(xué)功率值低于參考光學(xué)功率值。例如，在圖6A到6C中，在標記601處測量該光學(xué)功率值為38mW，該值比存儲器310中管理的該4×參考光學(xué)功率值40mW低2mW。
下面的等式(1)用來計算該預(yù)測外部區(qū)域最優(yōu)功率值 在等式(1)中，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner代表所測量的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率值，Pdesired代表與該所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCouter表示該預(yù)測外部區(qū)域最優(yōu)功率值。例如，當該4×參考光學(xué)功率值和該測量光學(xué)功率值分別為40mW和38mW時，而相關(guān)聯(lián)的16×的需求速度的參考光學(xué)功率值為70mW，該微處理器311計算16×的預(yù)測光學(xué)功率值(OPCouter)為66.5mW。
通過核對存儲器310中管理的該最大光學(xué)功率值，該微處理器311確定該激光二極管是否支持該預(yù)測光學(xué)功率值(S403)。例如，當該16×預(yù)測外部區(qū)域最優(yōu)功率值為66.5mW和該核對最大光學(xué)功率值為70mW時，該微處理器311確定該計算的預(yù)測光學(xué)功率值可以被輸出。
在該計算的預(yù)測光學(xué)功率值可以被輸出的情況下，接著該微處理器311通過控制該伺服單元309和光學(xué)驅(qū)動單元305，來執(zhí)行該光學(xué)功率控制步驟以完成16×的數(shù)據(jù)記錄步驟(S404)，接下來，方法400結(jié)束(S405)。當光盤315以相應(yīng)于16×的CAV旋轉(zhuǎn)時，該數(shù)據(jù)以從該內(nèi)部圓周到外部圓周的方向被記錄在光盤315的數(shù)據(jù)區(qū)域上。
隨著從內(nèi)部圓周到外部圓周進行數(shù)據(jù)記錄，該記錄速度逐漸從6.7×增加到16×。應(yīng)用于數(shù)據(jù)記錄的該光學(xué)功率值基于所計算的記錄速度的預(yù)測光學(xué)功率值與增加的記錄速度成比例增加(S402)。
隨著光盤記錄裝置溫度的增加，用于4×的所測量的光學(xué)功率值可能檢測出比存儲器311中管理的速度參考光學(xué)功率值高。例如，在圖7A到7C中，通過在內(nèi)部PCA標記701處實施的該OPC步驟測量的該光學(xué)功率值為45mW(S401)。此處測量的光學(xué)功率值比在存儲器311中管理的40mW4×參考光學(xué)功率值高5mW。在該4×參考光學(xué)功率值和所測量的光學(xué)功率值分別為40mW和45mW時，以及該16×請求速度參考光學(xué)功率值為70mW的情況下，使用比例關(guān)系(S402)計算用于16×的預(yù)測光學(xué)功率值為78.7mW。
其它要素可能對記錄速度和光學(xué)功率的斜率具有可忽略不計的作用。同樣地，用于高速的預(yù)測光學(xué)功率值可以通過將低速時該參考或預(yù)測最大功率值之間的差增加到高速時的該預(yù)測或參考值來計算。因而，用于16×的預(yù)測最優(yōu)功率值可以通過第二優(yōu)選等式來計算，該第二個優(yōu)選等式使用了表示一個恒定斜率的偏移函數(shù)。特別地，在存儲器310內(nèi)管理的該參考光學(xué)功率值與用于各種記錄速度的所測量的光學(xué)功率值之間的關(guān)系可以為一個恒定變化量，等式(2)可以用于計算該預(yù)測最優(yōu)功率值 OPCouter＝Pdesired-Pbase+OPCinner (2) 在等式(2)中，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示該測量的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率值，Pdesired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的該參考激光功率，和OPCouter表示該預(yù)測外部區(qū)域最優(yōu)功率值。
在上述的例子中，該4×參考光學(xué)功率值和所測量的光學(xué)功率值分別為40mW和45mW，該16×請求速度參考光學(xué)功率值為70mW?？梢酝ㄟ^將該參考光學(xué)功率值70mW增加5mW來計算在16×請求速度的該預(yù)測最優(yōu)光學(xué)功率值為75mW，其中5mW為該測量光學(xué)功率值和在4×的參考光學(xué)功率值之間的差值。
該微處理器311可以核對存儲器310(S403)管理的該最大光學(xué)功率值來確定該激光二激光是否支持該預(yù)測光學(xué)功率值。例如，當該16×預(yù)測光學(xué)功率值為78.75mW，而該檢測的最大光學(xué)功率值為70mW時，微處理器311確定不支持該預(yù)測光學(xué)功率值。如果該微處理器311確定該光盤裝置不支持該預(yù)測光學(xué)功率值，則微處理器311可以通過訪問該外部PCA，以該請求速度(例如，以16×)執(zhí)行該OPC步驟來檢測所測量的光學(xué)功率值540。
參考圖5，該微處理器311確定在請求速度的一個外部PCA的OPC過程結(jié)果是否為一個得到支持的功率值(S501)。特別地，在上述例子中，該微處理器311確定在該外部PCA的OPC過程功率值是否高于70mW的最大功率值。
如果該確定的功率水平得到支持，那么微處理器311將該請求16×與一個最大可用記錄速度相關(guān)聯(lián)(S502)。該微處理器311可以使用4×和16×的該測量光學(xué)功率值重新計算用于不同記錄速度的各個預(yù)測光學(xué)功率值(S503)。該重新計算的功率值可以存儲起來用于以后作為參考或者預(yù)測光學(xué)功率值來使用。
該微處理器311通過控制伺服單元309和該光學(xué)驅(qū)動單元305來執(zhí)行該OPC步驟以實現(xiàn)在16×的數(shù)據(jù)記錄(S504)，接下來，方法500結(jié)束(S507)。當光盤315相應(yīng)于16×以CAV旋轉(zhuǎn)時，該數(shù)據(jù)可以以從該內(nèi)部圓周到該外部圓周的方向被記錄在光盤315的數(shù)據(jù)區(qū)。
隨著從該內(nèi)部圓周到該外部圓周進行數(shù)據(jù)記錄，該記錄速度逐漸從6.7×增加到16×。該重新計算的光學(xué)功率值應(yīng)用于數(shù)據(jù)記錄。特別地，該光學(xué)功率值基于所重新計算的預(yù)測光學(xué)功率值與增加的記錄速度成比例逐漸地增加(S503)。
如果不支持該確定的功率水平，則該微處理器311將記錄速度降低到低于16×，這樣該降低的速度就與一個被支持的功率水平相適應(yīng)。為了確定一個新的最大的可被支持的記錄速度和與其相適應(yīng)的光學(xué)功率值(S505)，該微處理器311將該最大光學(xué)功率值設(shè)置為該測量的光學(xué)功率值。特別地，在上述的例子中，該測量的光學(xué)功率值被設(shè)置為70mW的該最大可支持值。該設(shè)置的測量的光學(xué)功率值和所檢測的4×測量的光學(xué)功率值被用于計算該新的最大可支持速度。該計算可以使用上述比例或者偏移關(guān)系來實現(xiàn)。
在一個例子中，該處理器311使用等式(1)根據(jù)設(shè)置為所測量的光學(xué)功率值的該最大可支持功率值來確定一個參考光學(xué)功率值P。特別地，在等式(1)中，該參考光學(xué)功率值P是基于該成比例表達式40/45＝P/70。等式(4)用于計算與該已獲得的參考光學(xué)功率值相適應(yīng)的該記錄速度 在等式(4)中，P為參考光學(xué)功率值，X為記錄速度，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示該測量的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率值，Pdesired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的該參考激光功率，OPCouter表示該預(yù)測外部區(qū)域最優(yōu)功率值。因此，在上述的例子中，62.2等于2.5*X+30，該最大記錄速度X為12.9，適合于大約13×的記錄速度。該13×的記錄速度適合于該最大速度，以及圖7中相等的記錄位置702。
當70mW的最大光學(xué)功率值被設(shè)置為該測量的光學(xué)功率值時，該相應(yīng)的記錄速度可以用各種其它的計算獲得。例如，微處理器311使用等式(5)來使用一個第二線性函數(shù) 在等式(5)中，P為參考光學(xué)功率值，X為記錄速度，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示該測量的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率值，Pdesired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的該參考激光功率，OPCouter表示該預(yù)測外部區(qū)或最優(yōu)功率值。等式(5)為一個在該記錄速度和該預(yù)測(或測量)光學(xué)功率值之間的線性函數(shù)，該預(yù)測(或測量)光學(xué)功率值使用P＝2.5*X+30的第一線性函數(shù)和該檢測的4×測量光學(xué)功率值。當該參考光學(xué)功率值為70mW時，該最大記錄速度為14×。
當相應(yīng)于該最大光學(xué)功率值的該記錄速度被降低時，該微處理器311執(zhí)行光盤305上的數(shù)據(jù)記錄(S506)，接下來，方法500結(jié)束(S507)。如圖6A和6C中所示，通過應(yīng)用計算出的記錄速度(S403)的預(yù)測光學(xué)功率值和該需求的最大記錄速度(S505)來執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄。
在光盤上，以從該內(nèi)部圓周到外部圓周的方向進行數(shù)據(jù)記錄。該光學(xué)盤可以以最大記錄速度，或在外部圓周上的計算出記錄速度旋轉(zhuǎn)(S505)，例如光盤以適用于該13×的角速度旋轉(zhuǎn)。貫穿該內(nèi)部圓周和該外部圓周的該記錄速度根據(jù)所計算出的最大記錄速度的減少而減少，如圖6中的起始點和結(jié)束點601和602所示，該點位于該預(yù)測光學(xué)功率曲線603之下。該光學(xué)功率值與該記錄速度一起適當?shù)恼{(diào)整。特別地，在該內(nèi)部圓周上，以所計算出的最大記錄速度的大約1/2.4的記錄速度開始該數(shù)據(jù)記錄。在該外部圓周上，以最大記錄速度記錄數(shù)據(jù)。
在其他實施方式中，當以相應(yīng)于所請求的速度或者裝置允許的最大速度的角速度旋轉(zhuǎn)光盤時，可以從光盤的內(nèi)部圓周到外部圓周的方向執(zhí)行該數(shù)據(jù)記錄。為了避免由于功率不足造成的錯誤，當旋轉(zhuǎn)光盤時，可以減少角速度來達到一個CLV。該減少可以是這樣，即該最大記錄速度從相應(yīng)于該最大記錄速度703的位置開始保持。等式(3)可以用來計算與該最大記錄速度相適應(yīng)的該位置Rconvo 在等式(3)中，Router表示該外部圓周，Rconvo表示該轉(zhuǎn)換半徑，Sref表示該參考最大記錄速度，Scale表示該計算出的最大記錄速度。等式(3)可以用來計算該轉(zhuǎn)換半徑，其中Rconvo是基于該外部圓周半徑，Sref是設(shè)備在外部圓周上所允許的最大記錄速度，而Scalc是基于計算出的最大記錄速度(S406)。相應(yīng)于該最大記錄速度702的位置可以與該最大記錄速度一起計算(S505)。
如圖6A到6C中示出的，該光盤以CAV從內(nèi)部圓周到外部圓周的方向旋轉(zhuǎn)記錄。這種記錄可以包括光盤主軸伺服上減少的載荷以及記錄時間增加之間的權(quán)衡。
如圖7A到7C中示出的，隨著從內(nèi)部圓周到外部圓周的數(shù)據(jù)記錄的進行，該光盤以一個CAV模式記錄，例如在位置701，以及一個CLV模式，例如在位置705。這種記錄技術(shù)可以包括隨著光盤從CAV到CLV的變化旋轉(zhuǎn)，主軸伺服增加的載荷以及記錄時間減少之間的權(quán)衡。
在上述的例子中，當以相應(yīng)于16×的請求速度的CAV旋轉(zhuǎn)盤305時，該微處理器311寫入數(shù)據(jù)。通過控制伺服單元309和該光學(xué)驅(qū)動單元305將數(shù)據(jù)從該內(nèi)部圓周一直寫入該計算出的位置Rconvo。該記錄速度從6.7×增加到該計算出的最大記錄速度13×。由于該CAV模式記錄速度隨著半徑增加，該光學(xué)功率根據(jù)增加的記錄速度也逐漸成比例增加。該光學(xué)功率值是基于用于記錄速度的預(yù)測光學(xué)功率值(S402)。
在達到最大記錄速度之后，該微處理器從CAV切換到CLV模式記錄。特別地，當以CLV模式旋轉(zhuǎn)光盤305的同時，微處理器311寫入數(shù)據(jù)，所以該最大記錄速度保持在該步驟S505計算的值。通過控制伺服單元309和該光學(xué)驅(qū)動單元305使記錄速度從計算出的位置Rconvo到該外部圓周保持最大。通過在CLV模式下運行，用于該計算出的最大記錄速度的該預(yù)測光學(xué)功率值持續(xù)不變。
圖8為說明了優(yōu)選數(shù)據(jù)記錄步驟800的流程圖。過程開始(S801)，測量內(nèi)部功率值(S802)。測量可以是以一個基礎(chǔ)速度測量光盤的內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域OPC值。同樣，通過基于該內(nèi)部區(qū)域OPC值，與該基礎(chǔ)速度和一個所需的最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算預(yù)測外部區(qū)域OPC值，還計算外部功率值(S803)。可以使用例如等式(1)或(2)來計算該外部功率值。
比較該預(yù)測的或計算的外部功率值與激光功率極限(S804)，做出一個是否測量外部功率值的決定(S805)，然后該步驟結(jié)束(S806)。通過使用過程800，可以防止在光盤外部圓周上的數(shù)據(jù)記錄錯誤，同時通過省略光盤外部圓周中的最優(yōu)功率計算來提高記錄速度。
已經(jīng)描述了許多的實施方式。然而，可以理解的是在不背離權(quán)利要求書的精神和范圍的條件下，可以進行各種修改。因此，其它的實施方式也落入下述權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種方法，包括
以基礎(chǔ)速度測量光盤的內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率控制(“OPC”)值；
基于該內(nèi)部區(qū)域OPC值和與該基礎(chǔ)速度和所需的最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算預(yù)測的外部區(qū)域OPC值；
將該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值與激光功率極限進行比較；和
確定是否以該所需最大速度測量光盤外部區(qū)域上的外部區(qū)域OPC值。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值表示為
其中，Pbase表示與所述基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示所測量的內(nèi)部區(qū)域OPC值，Pdesired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCouter表示預(yù)測的外部區(qū)域OPC值。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值表示為
OPCouter＝Pdesired-Pbase+OPCinner
其中，Pbase表示與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCinner表示所測量的內(nèi)部區(qū)域OPC值，Pdesired表示與所需最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率，OPCouter表示預(yù)測的外部區(qū)域OPC值。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定是否測量外部區(qū)域上的外部區(qū)域OPC值至少部分是基于所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值超過了激光功率極限。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以所需的最大速度測量光盤外部區(qū)域上的所述外部區(qū)域OPC值。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括
基于所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否超過所述激光功率極限，將所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值作為一個存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括
將所述外部區(qū)域OPC值與激光功率極限進行比較，基于所述預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否超過所述激光功率極限以及所述外部區(qū)域OPC值是否不超過所述激光功率極限，將所述測量的外部區(qū)域OPC值作為所述存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲；和
基于所述外部區(qū)域OPC值是否超過所述激光功率極限，將所述激光功率極限作為存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括
基于所述基礎(chǔ)速度、所述內(nèi)部區(qū)域OPC值以及與所述基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的所述參考激光功率來計算新的最大速度，所述新的最大速度比所述基礎(chǔ)速度快且比所需的最大速度慢基于該激光功率極限是否被作為存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法還包括
基于所述激光功率極限是否被作為所述存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲，以轉(zhuǎn)換半徑速度介于基礎(chǔ)速度和所述新的最大速度之間的恒定角速度模式和以在所述新的最大速度以恒定線速度模式在所述光盤上記錄數(shù)據(jù)。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)換半徑表示為
其中Router表示外部半徑，Rconvo表示該轉(zhuǎn)換半徑，Sref表示該參考最大記錄速度，Scalc表示所計算的最大記錄速度。
11.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括
基于該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否超過該激光功率極限或者該外部區(qū)域OPC值是否超過激光功率極限，在光盤上以介于該基礎(chǔ)速度和該所需最大速度之間的恒定角速度模式記錄數(shù)據(jù)。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括存儲激光功率極限和表格，該表格包括光盤速度和相關(guān)聯(lián)的參考激光功率。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該基礎(chǔ)速度為4×，且該所需最大速度為16×。
14.一種設(shè)備，包括
測量裝置，用于以基礎(chǔ)速度測量光盤內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率控制(“OPC”)值；和
處理裝置，用于
基于該內(nèi)部區(qū)域OPC值以及與該基礎(chǔ)速度和所需的最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算預(yù)測的外部區(qū)域OPC值；
將該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值與激光功率極限進行比較；和
確定是否以該所需最大速度測量光盤外部區(qū)域上的外部區(qū)域OPC值。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于至少部分地基于該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值超過激光功率極限，來確定是否測量外部區(qū)域上的外部區(qū)域OPC值。
16.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述處理裝置還用于以所需的最大速度測量光盤的外部區(qū)域上的該外部區(qū)域OPC值。
17.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于基于該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否超過該激光功率極限，來存儲該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值以作為一個存儲的外部區(qū)域OPC值。
18.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于
將該外部區(qū)域OPC值與該激光功率極限進行比較，基于該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否超過該激光功率極限以及該外部區(qū)域OPC值是否不超過該激光功率極限，來存儲該測量的外部區(qū)域OPC值以作為一個存儲的外部區(qū)域OPC值；和
基于該外部區(qū)域OPC值是否超過該激光功率極限，來存儲該激光功率極限以作為存儲的外部區(qū)域OPC值。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于基于該基礎(chǔ)速度、該內(nèi)部區(qū)域OPC值以及與基礎(chǔ)速度相關(guān)聯(lián)的該參考激光功率，來計算新的最大速度，所述新的最大速度比該基礎(chǔ)速度快且比所需的最大速度慢基于該激光功率極限是否被作為存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于基于該激光功率極限是否被作為該存儲的外部區(qū)域OPC值進行存儲，以轉(zhuǎn)換半徑速度介于基礎(chǔ)速度和所述新的最大速度之間的恒定角速度模式以及在該新的最大速度以恒定線速度模式在光盤上記錄數(shù)據(jù)。
21.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，該處理裝置還用于基于該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值是否不超過該激光功率極限或者該外部區(qū)域OPC值是否不超過激光功率極限，在光盤上以介于該基礎(chǔ)速度和該所需最大速度之間的恒定角速度模式記錄數(shù)據(jù)。
全文摘要
一種功率控制過程，其中選擇性地執(zhí)行基于基礎(chǔ)速度測量光盤內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)部區(qū)域最優(yōu)功率控制(“OPC”)值?；趦?nèi)部區(qū)域OPC值，與基礎(chǔ)速度和一個所需的最大速度相關(guān)聯(lián)的參考激光功率來計算預(yù)測外部區(qū)域OPC值。比較該預(yù)測的外部區(qū)域OPC值和激光功率極限，確定是否以所需的最大速度測量光盤外部區(qū)域上的外部區(qū)域OPC值。
文檔編號G11B7/125GK101101762SQ20071013887
公開日2008年1月9日 申請日期2007年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月19日
發(fā)明者崔禎允 申請人:Lg電子株式會社