專利名稱：產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)的方法與光學(xué)儲(chǔ)存裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)儲(chǔ)存裝置，特別是涉及一種可補(bǔ)償光學(xué)讀寫頭的Y方向錯(cuò)位(Y-ratio misalignment)的光學(xué)儲(chǔ)存裝置。
背景技術(shù)：
圖1為已知光學(xué)儲(chǔ)存裝置中光學(xué)讀寫頭102的Y方向錯(cuò)位(Y-ratiomisalignment)Yerror的示意圖。圖1中，光學(xué)讀寫頭102沿著X軸移動(dòng)并發(fā)光以在一光學(xué)介質(zhì)100上形成一主要光點(diǎn)(primary spot)Pspot以及第一、第二參考光點(diǎn)(subordinate spot)Espot、Fspot。在理想狀況下，當(dāng)光學(xué)讀寫頭102橫跨光學(xué)介質(zhì)100時(shí)，主要光點(diǎn)Pspot會(huì)隨著光學(xué)讀寫頭102沿著X軸移動(dòng)，然而因?yàn)闄C(jī)構(gòu)的公差(tolerance)最多只能做到大約±0.15微米(micro-meter)的準(zhǔn)確度，所以在光學(xué)儲(chǔ)存裝置中常發(fā)生Y方向錯(cuò)位Yerror。
圖2為已知技術(shù)中主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在光學(xué)介質(zhì)100中一軌跡槽(track groove)200上的理想位置示意圖。如圖2所示，光學(xué)讀寫頭102將第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot打在軌跡槽200的不同側(cè)，并且在光學(xué)介質(zhì)100上主要光點(diǎn)Pspot與參考光點(diǎn)Espot、Fspot大致上是位于同一直線202上。由于沒有Y方向錯(cuò)位Yerror，主要光點(diǎn)Pspot會(huì)直接位于X軸并沿著X軸移動(dòng)，在跟蹤操作時(shí)，若三個(gè)點(diǎn)(主要光點(diǎn)與第一、第二參考光點(diǎn))皆位于軌跡槽200上，對(duì)應(yīng)于第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot的輔助光檢測(cè)器(未繪出)會(huì)接收等量的光，因?yàn)榈谝?、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot皆有一半對(duì)應(yīng)著平坦(land)部分，第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot會(huì)較亮，然而，因?yàn)檐壽E槽200上具有表示數(shù)據(jù)的平坦部分與坑洞(pit)部分，所以主要光點(diǎn)Pspot的亮度則會(huì)減小。若光學(xué)讀寫頭102偏離軌道(off track)，主要光點(diǎn)Pspot的光檢測(cè)器會(huì)因?yàn)橛休^少的坑洞部分偏離軌道而接收到較多的光，而參考光點(diǎn)的光檢測(cè)器所接收到的光量則會(huì)不平衡，為了執(zhí)行跟蹤的動(dòng)作，一跟蹤誤差訊號(hào)(tracking error signal)便定義為TE＝E-F，其中E對(duì)應(yīng)于第一參考光點(diǎn)Espot的光檢測(cè)器所接收的光量，而F對(duì)應(yīng)于第二參考光點(diǎn)Fspot的光檢測(cè)器所接收的光量。請(qǐng)同時(shí)參考圖2與圖3，圖3為于圖2所示狀態(tài)下所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。舉例來說，假設(shè)光學(xué)讀寫頭102沿著X軸增加的方向(increasing x-axis direction)橫跨光學(xué)介質(zhì)100，此時(shí)第二參考光點(diǎn)Fspot會(huì)先一步進(jìn)入下一個(gè)軌跡槽，接著是主要光點(diǎn)Pspot，最后進(jìn)入下一個(gè)軌跡槽的則是第一參考光點(diǎn)Espot，于跨越軌跡槽200時(shí)，若第二參考光點(diǎn)Fspot有一半脫離軌跡槽200，則第一參考光點(diǎn)Espot有一半正要進(jìn)入軌跡槽200，因此，跟蹤誤差訊號(hào)TE便根據(jù)方程式TE＝E-F而產(chǎn)生。更詳細(xì)的說，如圖3所示，每次當(dāng)一軌跡槽200被跨越時(shí)，跟蹤誤差訊號(hào)TE便會(huì)經(jīng)過一周期。
圖4為已知技術(shù)中存在正Y方向錯(cuò)位Yerror時(shí)主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在一軌跡槽200上的位置示意圖。如圖4所示，因?yàn)檎齓方向錯(cuò)位的關(guān)系，主要光點(diǎn)Pspot不再直接位于X軸上，而軌跡槽200則向右偏移一小角度，由于這個(gè)緣故，當(dāng)進(jìn)行跟蹤操作時(shí)，第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot皆會(huì)大部分位于軌跡槽200內(nèi)。圖5為圖4中因?yàn)檎齓方向錯(cuò)位Yerror所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。再次假設(shè)光學(xué)讀寫頭102沿著X軸增加的方向橫跨光學(xué)介質(zhì)100，因?yàn)槌霈F(xiàn)正Y方向錯(cuò)位Yerror的關(guān)系，雖然光點(diǎn)(主要光點(diǎn)和第一、第二參考光點(diǎn))進(jìn)入每一個(gè)軌跡槽的順序仍然和上述一樣，然而當(dāng)跨越軌跡槽200時(shí)，第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot兩者的大部分皆位于軌跡槽200內(nèi)的時(shí)間增加了，所以，雖然跟蹤誤差訊號(hào)TE的每一周期繼續(xù)對(duì)應(yīng)于跨越一軌跡槽的時(shí)間，但是跟蹤誤差訊號(hào)TE的振幅則縮小了。
圖6為已知技術(shù)中存在負(fù)Y方向錯(cuò)位Yerror時(shí)主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在一軌跡槽200上的位置示意圖。如圖6所示，因?yàn)樨?fù)Y方向錯(cuò)位的關(guān)系，主要光點(diǎn)Pspot不再直接位于X軸上，而軌跡槽200則向左偏移一小角度，由于這個(gè)緣故，當(dāng)進(jìn)行跟蹤操作時(shí)，第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot皆會(huì)大部分位于軌跡槽200外。圖7為圖6中因?yàn)樨?fù)Y方向錯(cuò)位Yerror所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。再次假設(shè)光學(xué)讀寫頭102沿著X軸增加的方向橫跨光學(xué)介質(zhì)100，因?yàn)槌霈F(xiàn)負(fù)Y方向錯(cuò)位Yerror的關(guān)系，雖然光點(diǎn)(主要光點(diǎn)和第一、第二參考光點(diǎn))進(jìn)入每一個(gè)軌跡槽的順序仍然和上述一樣，然而當(dāng)跨越軌跡槽200時(shí)，第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot兩者的大部分皆位于軌跡槽200外的時(shí)間增加了，所以，雖然跟蹤誤差訊號(hào)TE的每一周期繼續(xù)對(duì)應(yīng)于跨越一軌跡槽的時(shí)間，但是跟蹤誤差訊號(hào)TE的振幅則再次縮小了。正Y方向錯(cuò)位與負(fù)Y方向錯(cuò)位所造成的效應(yīng)皆會(huì)減小跟蹤誤差訊號(hào)TE的振幅，這會(huì)降低光學(xué)儲(chǔ)存裝置的跟蹤操作速度與準(zhǔn)確度。
根據(jù)已知技術(shù)，每一光學(xué)儲(chǔ)存裝置制造完成后都會(huì)做機(jī)構(gòu)調(diào)整或校正來減少Y方向錯(cuò)位Yerror，這種方法可以補(bǔ)償由內(nèi)部光學(xué)讀寫頭，光驅(qū)量測(cè)誤差以及其它機(jī)械結(jié)構(gòu)變動(dòng)所產(chǎn)生的Yerror，然而，這種需要大量人工的機(jī)構(gòu)調(diào)整或校正會(huì)增加制造成本，另外，在一般操作時(shí)，Y方向錯(cuò)位Yerror實(shí)際上會(huì)隨著時(shí)間改變，舉例來說，光學(xué)儲(chǔ)存裝置進(jìn)入一般操作后輕微的震動(dòng)或撞擊會(huì)造成或影響Y方向錯(cuò)位Yerror。

發(fā)明內(nèi)容
所以本發(fā)明的目的之一在于提供一種產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)(tracking errorsignal)來補(bǔ)償Y方向錯(cuò)位(Y-ratio misalignment)的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，以解決上述問題。
根據(jù)本發(fā)明的一較佳實(shí)施例，其披露了一種光學(xué)儲(chǔ)存裝置，該光學(xué)儲(chǔ)存裝置包含有一光學(xué)讀寫頭(pickup head)，用來產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)(optical medium)上形成一第一參考光點(diǎn)(subordinate spot)與一第二參考光點(diǎn)，并檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第一參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)(tracking signal)以及檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第二參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)；一相位延遲單元，耦接于該光學(xué)讀寫頭，用來延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)(compensatedtracking signal)；以及一跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器(tracking error signal generator)，耦接于該相位延遲單元，用來根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)。
根據(jù)本發(fā)明的一較佳實(shí)施例，其披露了一種在一光學(xué)儲(chǔ)存裝置中產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)的方法，該方法包含有產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)上形成一第一參考光點(diǎn)與一第二參考光點(diǎn)；檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第一參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)；檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第二參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)；延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)；以及根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)。


圖1為已知光學(xué)儲(chǔ)存裝置中光學(xué)讀寫頭的Y方向錯(cuò)位Yerror的示意圖。
圖2為已知技術(shù)中主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在光學(xué)介質(zhì)中一軌跡槽上的理想位置示意圖。
圖3為圖2的狀態(tài)下產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。
圖4為已知技術(shù)中存在正Y方向錯(cuò)位時(shí)主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在一軌跡槽上的位置示意圖。
圖5為圖4中因?yàn)檎齓方向錯(cuò)位所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。
圖6為已知技術(shù)中存在負(fù)Y方向錯(cuò)位時(shí)主要光點(diǎn)Pspot和第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot在一軌跡槽上的位置示意圖。
圖7為圖6中因?yàn)樨?fù)Y方向錯(cuò)位所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE的示意圖。
圖8為根據(jù)本發(fā)明一較佳實(shí)施例的光學(xué)儲(chǔ)存裝置的方塊圖。
圖9為本發(fā)明實(shí)施例中存在負(fù)Y方向錯(cuò)位時(shí)第一跟蹤訊號(hào)T1、第二跟蹤訊號(hào)T2、補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2以及所形成的跟蹤誤差訊號(hào)TE2的示意圖。
圖10為本發(fā)明一較佳實(shí)施例中產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)方法的流程圖。
附圖符號(hào)說明

具體實(shí)施方式
圖8為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的光學(xué)儲(chǔ)存裝置800的方塊圖。光學(xué)儲(chǔ)存裝置800包含有一光學(xué)讀寫頭(pickup head)802、一轉(zhuǎn)軸馬達(dá)804、一相位延遲單元806、一跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器808、一電壓最大電平比較器810以及一非易失性(non-volatile)存儲(chǔ)器(例如一電可以擦除只讀存儲(chǔ)器(EEPROM)812)。轉(zhuǎn)軸馬達(dá)804在控制單元(未繪出)的控制下以正確的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)一光學(xué)介質(zhì)818，光學(xué)讀寫頭802包含有一激光二極管814，用來產(chǎn)生光束以在光學(xué)介質(zhì)818上形成一第一參考光點(diǎn)Espot與一第二參考光點(diǎn)Fspot，光學(xué)讀寫頭802將第一參考光點(diǎn)Espot與第二參考光點(diǎn)Fspot打于一軌跡槽(trackgroove)200的不同側(cè)，并且第一、第二參考光點(diǎn)Espot、Fspot大致上與光學(xué)介質(zhì)818上的一主要光點(diǎn)形成一直線。如圖8所示，光學(xué)讀寫頭802還包含有一光檢測(cè)器816，用來檢測(cè)從光學(xué)介質(zhì)818上對(duì)應(yīng)第一參考光點(diǎn)Esoot和第二參考光點(diǎn)Fspot的反射光，其中光檢測(cè)器816接收第一參考光點(diǎn)Espot的反射光并輸出對(duì)應(yīng)于該反射光量的一第一跟蹤訊號(hào)T1，另外接收第二參考光點(diǎn)Fspot的反射光并輸出對(duì)應(yīng)于該反射光量的一第二跟蹤訊號(hào)T2。第一與第二跟蹤訊號(hào)T1、T2被傳送至相位延遲單元806，且第一與第二跟蹤訊號(hào)T1、T2中至少一訊號(hào)會(huì)被延遲(delay)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)(compensated trackingsignal)。例如在本實(shí)施例中，相位延遲單元806延遲第二跟蹤訊號(hào)T2以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2，但是相位延遲單元806不延遲第一跟蹤訊號(hào)T1而讓第一跟蹤訊號(hào)T1直接通過相位延遲單元806以產(chǎn)生訊號(hào)E2，跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器808接著根據(jù)方程式TE2＝E2-F2來產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)TE2。電壓最大電平比較器810將跟蹤誤差訊號(hào)TE2的最大電平與儲(chǔ)存在電可擦除式只讀存儲(chǔ)器812內(nèi)的一預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0做比較，并產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于跟蹤誤差訊號(hào)TE2最大電平與預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0間差量的一差量訊號(hào)Sdiff，其中預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0的大小在光學(xué)儲(chǔ)存裝置800被制造完成時(shí)即被決定，并對(duì)應(yīng)于無Y方向錯(cuò)位Yerror下跟蹤誤差訊號(hào)TE2的最大振幅。以圖3為例，預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0對(duì)應(yīng)于跟蹤誤差訊號(hào)TE的最大值，而跟蹤誤差訊號(hào)TE的最大值則是由相位差相差180度的兩跟蹤訊號(hào)E和F決定，也就是說，在圖3中，當(dāng)跟蹤訊號(hào)E和F的相位差相差180度時(shí)，跟蹤誤差訊號(hào)TE具有最大的振幅。在圖8所示的實(shí)施例中，相位延遲單元806根據(jù)差量訊號(hào)Sdiff將第二跟蹤訊號(hào)T2延遲一相位P，若跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器808所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE2的最大電平小于預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0，則相位延遲單元806會(huì)根據(jù)該比較結(jié)果來增加(在其它實(shí)施例中亦可能為減少)延遲相位P。
圖9是本發(fā)明實(shí)施例中存在負(fù)Y方向錯(cuò)位時(shí)第一跟蹤訊號(hào)T1、第二跟蹤訊號(hào)T2、補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2以及所形成的跟蹤誤差訊號(hào)TE2的示意圖。當(dāng)光學(xué)讀寫頭802進(jìn)行跟蹤操作而沿著X軸增加的方向(increasing x-axisdirection)橫跨光學(xué)介質(zhì)812時(shí)，因?yàn)樨?fù)Y方向錯(cuò)位的關(guān)系，第二跟蹤訊號(hào)T2會(huì)落后第一跟蹤訊號(hào)T1。一開始時(shí)，相位延遲單元806不做任何延遲的動(dòng)作，所以訊號(hào)E2及F2會(huì)分別與輸入的第一跟蹤訊號(hào)T1及第二跟蹤訊號(hào)T2相等，亦即，跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器808一開始所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)TE2與圖5中的跟蹤誤差訊號(hào)TE很相似，而如圖5所示，跟蹤誤差訊號(hào)TE2的起始最大值A(chǔ)1小于儲(chǔ)存在電可擦除只讀存儲(chǔ)器812內(nèi)的預(yù)設(shè)最大值A(chǔ)0，所以電壓最大電平比較器810輸出一差量訊號(hào)Sdiff至相位延遲單元806，相位延遲單元806則增加延遲相位P來延遲第二跟蹤訊號(hào)T2以產(chǎn)生補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2。如圖9所示，當(dāng)補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2與訊號(hào)E2(在本實(shí)施例中直接等于第一跟蹤訊號(hào)T1)間的相位差大致等于180度時(shí)，跟蹤誤差訊號(hào)TE2的最大電平會(huì)增至A0，此時(shí)電壓最大電平比較器810檢測(cè)到跟蹤誤差訊號(hào)TE2最大電平會(huì)等于最大默認(rèn)值A(chǔ)0，于是停止輸出差量訊號(hào)Sdiff，因此相位延遲單元806便保持延遲相位P的數(shù)值不變，使得跟蹤誤差訊號(hào)TE2具有最大可能的訊號(hào)振幅以藉此補(bǔ)償Y方向錯(cuò)位所造成的效應(yīng)。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員讀了以上描述后便能了解，上述相位延遲單元806的操作與控制只是本發(fā)明實(shí)施方式之一，亦即本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例的做法，舉例來說，在另一實(shí)施例中為了增加相位延遲單元806執(zhí)行補(bǔ)償?shù)乃俣?，電壓最大電平比較器810可直接輸出對(duì)應(yīng)于所需延遲相位P的差量訊號(hào)Sdiff，延遲相位P會(huì)滿足以下方程式 方程式(1)在本實(shí)施例中，相位延遲單元806延遲第二跟蹤訊號(hào)T2一延遲相位P，其中延遲相位P滿足上述方程式(1)，方程式(1)中所表示的關(guān)系可確保相位延遲單元806在加了延遲相位P后會(huì)使得跟蹤誤差訊號(hào)TE2的振幅增加至預(yù)設(shè)最大電平A0。請(qǐng)注意，本發(fā)明還有其它實(shí)施例，舉例來說，相位延遲單元806可以一并延遲第一、第二跟蹤訊號(hào)T1、T2，以藉此分別產(chǎn)生兩補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)E2與F2。在另一實(shí)施例中，相位延遲單元806可以直接分析第一、第二跟蹤訊號(hào)T1、T2來決定適當(dāng)?shù)难舆t相位P以確保訊號(hào)E2與F2之間有180度的相位差。
圖10為本發(fā)明一較佳實(shí)施例中產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)方法的流程圖。請(qǐng)同時(shí)參考圖8與圖10，本發(fā)明產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)的方法包含有下列步驟步驟1000產(chǎn)生光束以在一光學(xué)介質(zhì)818上形成一第一參考光點(diǎn)Espot與一第二參考光點(diǎn)Fspot；步驟1002檢測(cè)從光學(xué)介質(zhì)818上第一參考光點(diǎn)Espot所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)T1，檢測(cè)從光學(xué)介質(zhì)818上第二參考光點(diǎn)Fspot所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)T2；步驟1004延遲第一跟蹤訊號(hào)T1或第二跟蹤訊號(hào)T2以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)。舉例來說，如圖9所示，延遲第二跟蹤訊號(hào)T2一延遲相位P以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)F2，并直接通過第一跟蹤訊號(hào)T1來形成訊號(hào)E2；另一實(shí)施例中則選擇延遲第一跟蹤訊號(hào)T1一延遲相位P以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)E2，并直接通過第二跟蹤訊號(hào)T2來形成訊號(hào)F2；在另一實(shí)施例中，則一并延遲第一與第二跟蹤訊號(hào)T1、T2，以藉此分別產(chǎn)生兩補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)E2與F2；以及步驟1006根據(jù)步驟1004所產(chǎn)生的補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)，例如上述實(shí)施例中，步驟1004最后產(chǎn)生兩訊號(hào)E2與F2，兩訊號(hào)E2與F2中至少有一個(gè)訊號(hào)的相位被延遲以作為補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)，在本實(shí)施例中跟蹤誤差訊號(hào)是根據(jù)方程式TE2＝E2-F2來產(chǎn)生，其中跟蹤誤差訊號(hào)TE2即為步驟1006的結(jié)果。
本發(fā)明提供一種產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)來補(bǔ)償Y方向錯(cuò)位的光學(xué)儲(chǔ)存裝置。光學(xué)讀寫頭產(chǎn)生光束以在光學(xué)介質(zhì)上形成第一參考光點(diǎn)與第二參考光點(diǎn)，并檢測(cè)從光學(xué)介質(zhì)上第一與第二參考光點(diǎn)反射回來的光束來產(chǎn)生第一與第二跟蹤訊號(hào)，相位延遲單元耦接于光學(xué)讀寫頭以及控制芯片，用來延遲第一跟蹤訊號(hào)或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)，最后，耦接于相位延遲單元的跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器便利用補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)來產(chǎn)生跟蹤誤差訊號(hào)。根據(jù)本發(fā)明，最后所產(chǎn)生的跟蹤誤差訊號(hào)的最大振幅會(huì)增至預(yù)設(shè)的最大電平，因此增加了光學(xué)儲(chǔ)存裝置的跟蹤操作速度與準(zhǔn)確度。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明的權(quán)利要求所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其包含有一光學(xué)讀寫頭，用來產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)上形成一第一參考光點(diǎn)與一第二參考光點(diǎn)，并檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第一參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)以及檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第二參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)；一相位延遲單元，耦接于該光學(xué)讀寫頭，用來延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)；以及一跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器，耦接于該相位延遲單元，用來根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器將該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)與該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)相減來產(chǎn)生該跟蹤誤差訊號(hào)。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該相位延遲單元延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以使得該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)與該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)間的相位差大致上為180度。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其還包含有一電壓最大電平比較器，耦接于該相位延遲單元與該跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器，用來比較該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平與一預(yù)設(shè)最大值，并產(chǎn)生與該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平與該預(yù)設(shè)最大值間差量相對(duì)應(yīng)的一差量訊號(hào)；其中該相位延遲單元根據(jù)該差量訊號(hào)來延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該相位延遲單元將該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)延遲一相位P以大致上滿足下述方程式
6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該相位延遲單元延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以使得該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平能大致與該預(yù)設(shè)最大值相等。
7.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其還包含有一非易失性存儲(chǔ)器，耦接于該電壓比較器，用來儲(chǔ)存該預(yù)設(shè)最大值。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該預(yù)設(shè)最大值是在該光學(xué)儲(chǔ)存裝置被制造完成時(shí)即被決定。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其中該光學(xué)讀寫頭將該第一參考光點(diǎn)與該第二參考光點(diǎn)打在一軌跡槽的不同側(cè)，并且大致上與該光學(xué)介質(zhì)上的一主要光點(diǎn)形成一直線。
10.一種在一光學(xué)儲(chǔ)存裝置中產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)的方法，其包含有下列步驟產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)上形成一第一參考光點(diǎn)與一第二參考光點(diǎn)；檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第一參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)；檢測(cè)從該光學(xué)介質(zhì)上該第二參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)；延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)；以及根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)的步驟還包含有將該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)與該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)相減來產(chǎn)生該跟蹤誤差訊號(hào)。
12.如權(quán)利要求10所述的方法，其中延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)的步驟還包含有延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以使得該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)與該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)間的相位差大致上為180度。
13.如權(quán)利要求10所述的方法，其還包含有比較該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平與一預(yù)設(shè)最大值；產(chǎn)生與該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平與該預(yù)設(shè)最大值間差量相對(duì)應(yīng)的一差量訊號(hào)；以及根據(jù)該差量訊號(hào)來延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中根據(jù)該差量訊號(hào)來延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)的步驟還包含有將該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)延遲一相位P以大致上滿足下述方程式
15.如權(quán)利要求13所述的方法，其中根據(jù)該差量訊號(hào)來延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)的步驟還包含有延遲該第一跟蹤訊號(hào)或該第二跟蹤訊號(hào)以使得該跟蹤誤差訊號(hào)的最大電平能大致與該預(yù)設(shè)最大值相等。
16.如權(quán)利要求13所述的方法，其還包含有提供一非易失性存儲(chǔ)器，用來儲(chǔ)存該預(yù)設(shè)最大值。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中該預(yù)設(shè)最大值是在該光學(xué)儲(chǔ)存裝置被制造完成時(shí)即被決定。
18.如權(quán)利要求10所述的方法，其中產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)上形成一第一參考光點(diǎn)與一第二參考光點(diǎn)的步驟還包含有將該第一參考光點(diǎn)與該第二參考光點(diǎn)定位于一軌跡槽的不同側(cè)，并且大致上與該光學(xué)介質(zhì)上的一主要光點(diǎn)形成一直線。
全文摘要
一種于產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)時(shí)能補(bǔ)償Y方向錯(cuò)位的光學(xué)儲(chǔ)存裝置，其包含有一光學(xué)讀寫頭，用來產(chǎn)生一光束以在一光學(xué)介質(zhì)上形成一第一參考光點(diǎn)與一第二參考光點(diǎn)，并檢測(cè)該第一參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第一跟蹤訊號(hào)以及檢測(cè)該第二參考光點(diǎn)所反射回來的光束以產(chǎn)生一第二跟蹤訊號(hào)；一相位延遲單元，用來延遲該第一或第二跟蹤訊號(hào)以產(chǎn)生一補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)；以及一跟蹤誤差訊號(hào)產(chǎn)生器，用來根據(jù)該補(bǔ)償跟蹤訊號(hào)產(chǎn)生一跟蹤誤差訊號(hào)。因?yàn)楦櫿`差訊號(hào)的最大振幅被提升至最大電平，所以光學(xué)儲(chǔ)存裝置中跟蹤操作的準(zhǔn)確度和速度便有所改善。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1855251SQ200610074608
公開日2006年11月1日 申請(qǐng)日期2006年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月20日
發(fā)明者韋志升 申請(qǐng)人:明基電通股份有限公司