專利名稱：方酸染料在光數(shù)據(jù)記錄用光層中的用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及方酸染料在光數(shù)據(jù)記錄用光層中的用途，優(yōu)選用于采用高至450nm波長(zhǎng)的激光的光數(shù)據(jù)記錄。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及在光層中使用方酸染料的一次寫入多次讀出(WORM)型光記錄介質(zhì)，其能夠用藍(lán)色激光輻射記錄和復(fù)制信息。
近來，有機(jī)染料在二極管-激光光存儲(chǔ)領(lǐng)域中引起人們相當(dāng)?shù)淖⒁?。商品化的可記錄壓縮光盤(CD-R)和可記錄數(shù)字通用光盤(DVD-R)可以含有作為記錄層的基于酞菁、半花菁、花青和金屬化偶氮結(jié)構(gòu)的多種染料。這些染料適用于其相應(yīng)領(lǐng)域的激光波長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)。染料介質(zhì)的其它一般要求是強(qiáng)吸收、高反射率、高記錄靈敏度、低熱導(dǎo)率以及光和熱穩(wěn)定性、存儲(chǔ)耐久性或非毒性。
對(duì)于工業(yè)應(yīng)用而言，這些染料一定要適合于旋涂方法以制備薄膜，即它們必須能充分地溶于通常應(yīng)用于旋涂方法中的有機(jī)溶劑。
通過檢測(cè)物理變形引起的反射率變化、通過在記錄前后記錄層的光學(xué)特性以及相和磁性質(zhì)的改變，WORM(一次寫入多次讀出)型和可擦型光記錄介質(zhì)進(jìn)行信息的復(fù)制。
可記錄壓縮光盤(CD-R)是熟知的WORM型光記錄介質(zhì)。最近，具有高至4.7 GBytes增大信息存儲(chǔ)容量的數(shù)字通用光盤(DVD)已經(jīng)商品化。
DVD-R技術(shù)采用波長(zhǎng)630-670nm的紅色二極管激光器為光源。因此可以減小凹坑尺寸和軌道間距，與CD-R的情況相比，信息存儲(chǔ)容量可以提高高至6-8倍。
Blu-ray_光盤(Blu-ray_光盤是由Hitachi Ltd.、LG Electronics Inc.、Matsushita Electric Industrial Co.Ltd.、Pioneer Corporation、Royal PhilipsElectronics、Samsung Electronics Co.Ltd.、Sharp Corporation、SonyCorporation、Thomson Multimedia開發(fā)的標(biāo)準(zhǔn))將是光記錄技術(shù)的下一個(gè)里程碑。對(duì)于12cm直徑的光盤，其新的規(guī)格將每個(gè)記錄層的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)增加高至27 GBytes。通過采用波長(zhǎng)405nm的藍(lán)色二極管激光器(GaN或SHG激光二極管)可以進(jìn)一步減小凹坑尺寸和軌道間距，再次將存儲(chǔ)容量提高一個(gè)數(shù)量級(jí)。
光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)的構(gòu)造在本領(lǐng)域中是已知的。光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)通常包含襯底及記錄層亦即光層。通常采用有機(jī)聚合物材料圓盤或晶圓(waver)作為襯底。優(yōu)選襯底為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。襯底必須提供高光學(xué)品質(zhì)的平坦均勻表面。光層沉積在其上形成高光學(xué)品質(zhì)并具有確定厚度的薄均勻膜。最后，反射層(例如鋁、金或銅)沉積在光層上。
高級(jí)光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)可以包含其他層，例如保護(hù)層、粘合劑層或另外的光層。
為了提供薄且均勻的光層膜，一般通過旋涂、真空蒸發(fā)、噴涂、輥涂或浸漬進(jìn)行材料的沉積。在工業(yè)上優(yōu)選旋涂的方法以形成約70nm至250nm厚的光層。為了應(yīng)用旋涂方法，光層材料一定要能高度溶于有機(jī)溶劑.
WO03/079339A1(Bayer AG)公開了方酸類染料(squarylium dye)作為光數(shù)據(jù)載體信息層中的光吸收化合物。詳細(xì)來說，在WO03/079339A1中公開了具有下述一般結(jié)構(gòu)的二取代方酸類化合物(squarylium compound)，其適用于DVD-R光盤中的光記錄，工作光源為紅色激光(635-660nm) JP 2001322356(Ricoh KK)公開了二取代方酸類化合物與至少一種偶氮金屬螯形化合物的混合物用于光記錄，工作波長(zhǎng)600至720nm。
JP 06184109(Mitsubishi Chem.Ind.)公開了具有下述通式的二取代方酸類化合物，其適合作為聚合物的著色材料、液晶的雙色染料和電子照相印刷機(jī)的感光材料、光盤的記錄材料、非線性光學(xué)材料以及在半導(dǎo)體激光應(yīng)用領(lǐng)域中用作近IR-截止濾光片的材料 JP 06184134(Mitsubishi Chem.Ind.)公開了具有下述通式的二取代方酸類化合物，其適用的領(lǐng)域有染料、聚合物著色材料、液晶用二色性顏料以及用于例如電子照相印刷機(jī)的電子照相感光材料，作為光盤的記錄材料，以及用于半導(dǎo)體激光應(yīng)用中，例如近紅外截止濾光片材料 DE 4040906(BASF AG)公開了具有下述通式的不對(duì)稱甘菊環(huán)方酸染料和包含所述染料的光記錄介質(zhì)。用于記錄的激光波長(zhǎng)為750-900nm。
EP 1152001 B1(Kyowa Hakko Kogyo Co.)公開了具有下述通式的具有吡唑和二氫吲哚單元的不對(duì)稱方酸類化合物以及包含所述方酸類化合物的光記錄介質(zhì)。該方酸類化合物的最大吸收波長(zhǎng)為550-600nm。
EP 1334998 A1(Kyowa Hakko Kogyo Co.)公開了具有下述通式的具有吡唑和二氫吲哚單元的不對(duì)稱方酸類金屬絡(luò)合物以及包含所述方酸類絡(luò)合物的光記錄介質(zhì)。該方酸類化合物的最大吸收波長(zhǎng)為550-600nm。
Matsui等(Dye and Pigments 58，2003，219-226)公開了3-芳基-4-羥基環(huán)丁-3-烯-1，2-二酮(即單取代方酸類化合物)作為TiO2太陽能電池的敏化劑。
1966年的DE 1670364(Chemische Werke Hüls AG)公開了1-苯基-2，3-二烷基-4-[2’-羥基-3’，4’-二氧代-環(huán)-丁烯-(1’)-基]-吡唑-5-酮(即單取代方酸類化合物)及其制備方法。
US 5,106,997(Fuji Xerox Co.)公開了用于非線性光學(xué)元件的如下通式的方酸類衍生物 其中X和Z如其說明書中所定義。
現(xiàn)已意外地發(fā)現(xiàn)，下述單取代方酸衍生物適合作為光數(shù)據(jù)記錄用光層中的染料化合物。
因此本發(fā)明涉及包含下述單取代方酸化合物的光數(shù)據(jù)記錄用光層以及所述光層用于光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)的用途。
更具體而言，本發(fā)明涉及使用藍(lán)色激光輻射(優(yōu)選405nm)能夠進(jìn)行信息記錄和復(fù)制的一次寫入多次讀出(WORM)型光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)，其在光層中使用單取代方酸染料。
本發(fā)明涉及包含至少一種式(I)染料化合物的光數(shù)據(jù)記錄用光層。
其中X代表羥基(-OH)或巰基(-SH)；OR2或SR2，R2選自苯基、芐基或C1-12烷基，其為未取代的或被羥基(-OH)、C6-12芳基、鹵素、-NR’R”取代的，R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；O-或S-，陽離子抗衡離子選自無機(jī)陽離子如堿金屬或堿土金屬陽離子，或選自有機(jī)陽離子如吡啶_或喹啉_(chinolinium)或異喹啉_(isochinolinium)或銨(-NR5R6R7R8+)，R5至R8獨(dú)立地選自氫、C1-12烷基或C6-12芳基；-NR3R4，R3和R4獨(dú)立地為氫、C1-12烷基、芐基或C6-12芳基；R1代表部分(1)至(5)之一
其中R33和R34相互獨(dú)立地代表氫、C1-12烷基、芐基或C6-12芳基，或者NR33R34代表吡咯烷基、哌啶基或嗎啉基(morpholyl)；R9至R13、R15至R18以及R22至R26相互獨(dú)立地代表氫、C1-12烷氧基、C1-12烷基(未取代的或被如下所取代的羥基(-OH)、C6-12芳基、鹵素、-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基)、羥基(-OH)、鹵素、CX3(X為氯或氟)；硝基(-NO2)、氰基(CN)、C6-12芳基或-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；R14和R19至R21相互獨(dú)立地代表氫或C1-12烷基；R27至R28相互獨(dú)立地代表氫、芐基、C6-12芳基或C1-12烷基，其未取代或被羥基、C6-12芳基、鹵素或-NR’R”取代，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基。
本發(fā)明優(yōu)選的方面涉及包含至少一種式(I)染料化合物的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中
X代表羥基(-OH)、OR2(R2選自芐基或C1-12烷基)或NR3R4(R3和R4獨(dú)立地為氫或C1-12烷基)；R1代表部分(1)，其中R26代表氫、C1-12烷氧基、C1-12烷基、羥基(-OH)、鹵素、CX3，X為氟；硝基(-NO2)、氰基(CN)、C6-12芳基或-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；R27和R28相互獨(dú)立地代表氫、芐基、C6-12芳基或C1-12烷基。
本發(fā)明更優(yōu)選的方面涉及包含至少一種式(I)染料化合物的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中X代表羥基(-OH)，R1代表部分(1)，其中R26代表氫或C1-12烷基；R27和R28相互獨(dú)立地代表C6-12芳基或C1-12烷基。
在最優(yōu)選的實(shí)施方案中，本發(fā)明涉及包含至少一種式(I)染料化合物的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中X代表羥基(-OH)，R1代表部分(1)，其中R26和R27代表甲基，R28代表苯基。
本發(fā)明的光數(shù)據(jù)記錄用光層也可以包含兩種或多種(優(yōu)選兩種)如上所定義的式(I)染料化合物的混合物。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及制備光數(shù)據(jù)記錄用光層的方法，所述方法包括下列步驟(a)提供襯底(b)將式(I)染料化合物在有機(jī)溶劑中溶解以形成溶液，(c)在襯底(a)上涂覆溶液(b)；(d)使溶劑蒸發(fā)以形成染料層(光層)。
優(yōu)選襯底為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
有機(jī)溶劑選自C1-8醇、鹵素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、鹵素取代的C1-4烷烴或酰胺。
優(yōu)選的C1-8醇或鹵素取代的C1-8醇為例如甲醇、乙醇、異丙醇、二丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇。
優(yōu)選的C1-8酮為例如丙酮、甲基異丁基酮、甲基乙基酮或3-羥基-3-甲基-2-丁酮。
優(yōu)選的鹵素取代的C1-4烷烴為例如氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷。
優(yōu)選的酰胺為例如二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
得到的光層(染料層)優(yōu)選具有70至250nm的厚度。
本發(fā)明優(yōu)選的方面提供在350-450nm的激光波長(zhǎng)(優(yōu)選大約405nm)適合于高密度記錄材料(例如WORM光盤格式)的光數(shù)據(jù)記錄用光層。
式(I)染料化合物具備所需的光學(xué)特性(例如高吸收性、高記錄靈敏度)、在有機(jī)溶劑中極好的溶解度、優(yōu)異的光穩(wěn)定性以及200-350℃的分解溫度。
高密度光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)的制備高密度光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)/高密度光盤的制備通常包括下列步驟(a)提供第一襯底(b)將染料在有機(jī)溶劑中溶解以形成溶液，(c)在第一襯底上涂覆第一溶液；(d)將溶液干燥以形成染料層(e)在染料層上布置反射層(f)在反射層上布置第二襯底在步驟(f)中，優(yōu)選第二襯底與第一襯底粘結(jié)以形成高密度光盤記錄介質(zhì)。用于粘結(jié)的常規(guī)技術(shù)是印刷、膠合或熔融。
本發(fā)明方酸染料的制備通過反應(yīng)化合物(B-1)、(B-2)、(B-3)(B-4)或(B-5)與化合物(A)以1∶1的比例在有機(jī)溶劑中縮合得到式(I)方酸染料化合物(具體地R1為部分(2)至(5)的那些)，可能還需酸性或堿性助劑。
如果X或Y不代表羥基，可以接著進(jìn)行在質(zhì)子極性溶劑中的水解步驟。
其中X和Y相互獨(dú)立地為羥基、氯、溴、甲氧基、乙氧基、1-丙氧基、2-丙氧基、1-丁氧基、2-丁氧基，R33、R34和R9至R28為如上定義。
實(shí)施例實(shí)施例1
用Dean-Stark分水器(Dean-Stark trap)將30份1苯基-2，3-二甲基吡唑-5-酮和18份3，4-二羥基-3-環(huán)丁烯-1，2-二酮在400份丁醇和150份甲苯的混合物中回流16小時(shí)。將產(chǎn)物過濾并用丁醇洗滌。
產(chǎn)率67％；分解點(diǎn)(TGA)259℃；UV-Vis(EtOH)λmax343nm；ε(λmax24700 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)285(M+1)實(shí)施例2a)在75℃下將200份3，4-二羥基-3-環(huán)丁烯-1，2-二酮與455份亞硫酰氯和7份二甲基甲酰胺一起攪拌8小時(shí)。將粗產(chǎn)物從己烷中重結(jié)晶并干燥，得到182份3，4-二氯-環(huán)丁-3-烯-1，2-二酮。
b)將9.8份N，N-二乙基苯胺在80份二氯甲烷中的混合物逐滴加入到10份之前得到的化合物在160份二氯甲烷中的溶液中，在室溫下攪拌4小時(shí)。通過蒸餾去除溶劑，殘留物在160份乙酸和40份水的混合物中回流4小時(shí)。蒸餾掉150份溶劑，通過加入含水氫氧化鈉中和剩余溶液。過濾反應(yīng)混合物，將濾餅從丙酮中重結(jié)晶，得到6份3-(4-二乙基氨基苯基)-4-羥基-環(huán)丁-3-烯-1，2-二酮。
產(chǎn)率39％；分解點(diǎn)(TGA)326℃；UV-Vis(DMSO)λmax381nm；ε(λmax)39000；MS(正模式)246(M+1)
實(shí)施例3根據(jù)在實(shí)施例2中敘述的方法合成該染料，但使用N-芐基-N-乙基-苯胺代替N，N-二乙基苯胺。
產(chǎn)率30％；分解點(diǎn)(TGA)199℃；UV-Vis(CHCl3)λmax401nm；ε(λmax42000 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)308(M+1)實(shí)施例4根據(jù)在實(shí)施例2中敘述的方法合成該染料，但使用N，N-二苯基甲基胺代替N，N-二乙基苯胺。
產(chǎn)率57％；分解點(diǎn)(TGA)238℃；UV-Vis(DMSO)λmax387nm；ε(λmax)19900 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)280(M+1)實(shí)施例5將36份3，4-二氯-環(huán)丁-3-烯-1，2-二酮和49份2，6-二叔丁基苯酚在650份二氯甲烷中的混合物逐滴加入到32份氯化鋁(III)在650份二氯甲烷的混合物中。將得到的混合物在回流溫度下攪拌2小時(shí)。過量的氯化鋁(III)用500份冰水解。將有機(jī)層分離并蒸發(fā)，得到的殘留物在600份乙酸和200份水中回流4小時(shí)。然后，通過加入含水氫氧化鈉中和該溶液，過濾并干燥產(chǎn)物。
產(chǎn)率25％；分解點(diǎn)(TGA)318℃；UV-Vis(H2O)λmax340nm；ε(λmax25600 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)303(M+1)實(shí)施例6a)將10份3，4-二羥基-3-環(huán)丁烯-1，2-二酮在250份乙醇中回流。3小時(shí)之后，通過蒸餾去除溶劑，代之以新部分的乙醇并回流一小時(shí)。將該步驟再重復(fù)兩次。蒸餾溶劑之后，殘留物用己烷萃取。從己烷相中通過蒸發(fā)得到6份3，4-二乙氧基-3-環(huán)丁烯-1，2-二酮。
b)將33份三乙基胺和55份之前得到的化合物在600份乙醇中的混合物加入到58份2-亞甲基-1，3，3-三甲基吲哚滿在500份乙醇中的溶液中。在室溫下攪拌2小時(shí)之后，蒸餾掉溶劑，殘留物在包含40份飽和氫氧化鈉水溶液的500份乙醇中回流5分鐘。將混合物用稀鹽酸中和并蒸發(fā)至產(chǎn)物沉淀。過濾并干燥產(chǎn)物。
產(chǎn)率56％；分解點(diǎn)(TGA)286℃；UV-Vis(EtOH)λmax418nm；ε(λmax)18600 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)270(M+1)實(shí)施例7
根據(jù)在實(shí)施例1中敘述的方法合成該染料，但用N-(3-甲氧基苯基)-N-二甲基胺代替N，N-二乙基苯胺。
產(chǎn)率43％；分解點(diǎn)(TGA)243℃；UV-Vis(CH2Cl2)λmax396nm；ελmax38600 1.mol-1.cm-1；MS(正模式)248(M+1)實(shí)施例8根據(jù)在實(shí)施例1中敘述的方法合成該染料，但用N-苯基嗎啉代替N，N-二乙基苯胺。
產(chǎn)率18％；分解點(diǎn)(TGA)254℃；UV-Vis(CH2Cl2)λmax372nm；ε(λmax)381001.mol-1.cm-1；MS(正模式)260(M+1)應(yīng)用實(shí)施例研究了單取代方酸染料化合物的光學(xué)和熱性能。該染料在期望的波長(zhǎng)處顯示高吸收。另外，對(duì)于光盤反射率和形成清潔標(biāo)記邊緣而言依然關(guān)鍵的吸收光譜的形狀由一個(gè)主譜帶組成，該主譜帶為350至500nm，優(yōu)選350至400nm。
更確切來說，評(píng)價(jià)的折光率n值為1.7至2.7。發(fā)現(xiàn)其光穩(wěn)定性可比得上通常在光數(shù)據(jù)記錄中應(yīng)用猝滅劑穩(wěn)定化的商品染料。
在所需溫度范圍熱分解的明顯閾值表征新的單取代方酸染料，其適合用于光數(shù)據(jù)記錄用光層。
總之，單取代方酸染料化合物符合主要在工業(yè)上光數(shù)據(jù)記錄使用的染料所需的規(guī)格，特別是在藍(lán)色激光范圍的下一代光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)(Blu-ray_光盤)。
權(quán)利要求
1.一種光數(shù)據(jù)記錄用光層，所述光層包含至少一種式(I)染料化合物
其中X代表羥基(-OH)或巰基(-SH)；OR2或SR2，R2選自苯基、芐基或C1-12烷基，其為未取代的或被羥基(-OH)、C6-12芳基、鹵素、-NR’R”取代，R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；O-或S-，陽離子抗衡離子選自無機(jī)陽離子如堿金屬或堿土金屬陽離子，或選自有機(jī)陽離子如吡啶_或喹啉_或異喹啉_或銨(-NR5R6R7R8+)，R5至R8獨(dú)立地選自氫、C1-12烷基或C6-12芳基；-NR3R4，R3和R4獨(dú)立地為氫、C1-12烷基、芐基或C6-12芳基；R1代表部分(1)至(5)之一
其中R33和R34相互獨(dú)立地代表氫、C1-12烷基、芐基或C6-12芳基，或NR33R34代表吡咯烷基、哌啶基或嗎啉基；R9至R13、R15至R18以及R22至R26相互獨(dú)立地代表氫、C1-12烷氧基、未取代的或被如下取代的C1-12烷基羥基(-OH)、C6-12芳基、鹵素、-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；羥基(-OH)、鹵素、CX3，X為氯或氟；硝基(-NO2)、氰基(CN)、C6-12芳基或-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；R14和R19至R21相互獨(dú)立地代表氫或C1-12烷基；R27至R28相互獨(dú)立地代表氫、芐基、C6-12芳基或C1-12烷基，其未取代或被羥基(-OH)、C6-12芳基、鹵素、-NR’R”取代，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基。
2.權(quán)利要求1的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中X代表羥基(-OH)、OR2，R2選自芐基或C1-12烷基，或NR3R4，R3和R4獨(dú)立地為氫或C1-12烷基；R1代表部分(1)其中R26代表氫、C1-12烷氧基、C1-12烷基、羥基(-OH)、鹵素、CX3，X為氟；硝基(-NO2)、氰基(CN)、C6-12芳基或-NR’R”，其中R’和R”獨(dú)立地為氫、C1-12烷基或C6-12芳基；R27和R28相互獨(dú)立地代表氫、芐基、C6-12芳基或C1-12烷基。
3.權(quán)利要求1的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中X代表羥基(-OH)，R1代表部分(1)，其中R26代表氫或C1-12烷基；R27至R28相互獨(dú)立地代表C6-12芳基或C1-12烷基。
4.權(quán)利要求1的光數(shù)據(jù)記錄用光層，其中X代表羥基(-OH)，R1代表部分(1)，其中R26和R27代表甲基，R28代表苯基。
5.一種制備權(quán)利要求1-4的光數(shù)據(jù)記錄用光層的方法，所述方法包括下列步驟(a)提供襯底(b)將權(quán)利要求1-4中定義的式(I)染料化合物在有機(jī)溶劑中溶解以形成溶液，(c)在襯底(a)上涂覆溶液(b)；(d)使溶劑蒸發(fā)以形成染料層，即光層。
6.權(quán)利要求5的方法，其中襯底為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
7.權(quán)利要求5的方法，其中有機(jī)溶劑選自C1-8醇、鹵素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、鹵素取代的C1-4烷烴或酰胺。
8.權(quán)利要求7的方法，其中C1-8醇或鹵素取代的C1-8醇選自甲醇、乙醇、異丙醇、二丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇；C1-8酮選自丙酮、甲基異丁基酮、甲基乙基酮或3-羥基-3-甲基-2-丁酮；鹵素取代的C1-4烷烴選自氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷；和酰胺選自二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
9.一種光記錄介質(zhì)，所述光記錄介質(zhì)包含權(quán)利要求1至4的光數(shù)據(jù)記錄用光層。
10.一種使用約405nm的藍(lán)色激光輻射能夠記錄和復(fù)制信息的光記錄介質(zhì)，所述光記錄介質(zhì)包含權(quán)利要求1至4的光數(shù)據(jù)記錄用光層。
全文摘要
本發(fā)明涉及方酸染料在光數(shù)據(jù)記錄用光層中的用途，優(yōu)選用于采用高至450nm波長(zhǎng)激光的光數(shù)據(jù)記錄。本發(fā)明進(jìn)一步涉及使用藍(lán)色激光輻射能夠記錄和復(fù)制信息的一次寫入多次讀出(WORM)型光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)，所述光數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)在光層中使用方酸基染料。
文檔編號(hào)G11B7/24GK1965362SQ200580017515
公開日2007年5月16日 申請(qǐng)日期2005年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月3日
發(fā)明者A·韋斯 申請(qǐng)人:克萊里安特財(cái)務(wù)(Bvi)有限公司