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用于指紋接觸的面板的制作方法

文檔序號(hào):6432365閱讀:243來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:用于指紋接觸的面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種面板,特別涉及一種用于指紋接觸的面板。
背景技術(shù)
身份辨識(shí)不論是在國(guó)家安全、企業(yè)資訊管理及住家安全中,扮演著重要的守門員角色。其中,生物辨識(shí)(Biometrics)是利用個(gè)人的生理特征來(lái)辨識(shí)和確認(rèn)其身份。一般而言,目前生物辨識(shí)的種類主要包括聲音、臉部、虹膜、靜脈及指紋辨識(shí)等。指紋是由許多凹凸不平的紋路所組成,因?yàn)槊總€(gè)人的指紋都是獨(dú)一無(wú)二的,完全相同的機(jī)率幾乎是微乎其微,且指紋很難會(huì)隨著年齡增長(zhǎng)或身體健康程度的變化而有所改變。所以相較于其他方法,指紋辨識(shí)是目前最為廣泛、容易且低成本的一項(xiàng)技術(shù)?,F(xiàn)有指紋辨識(shí)系統(tǒng)的種類,主要分為光學(xué)式、電容式、超聲波式及熱感式指紋辨·識(shí)系統(tǒng)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)是利用光學(xué)掃描的方法并使用許多電荷耦合器件(Charge Coupled Device,簡(jiǎn)稱(XD)組成的陣列來(lái)采集手指凸紋及凹紋的灰階數(shù)碼圖像。電容指紋辨識(shí)系統(tǒng)是由金屬陣列的感應(yīng)晶片所組成,晶片表面包覆著一層絕緣體,當(dāng)手指放在感應(yīng)晶片上時(shí),指紋的凹凸會(huì)造成絕緣體表面與金屬陣列間的距離出現(xiàn)變化而有不同的感應(yīng)電容。超聲波指紋辨識(shí)系統(tǒng)先傳送一超聲波信號(hào)進(jìn)入手指,再?gòu)姆瓷湫盘?hào)來(lái)讀取指紋圖案,當(dāng)超聲波信號(hào)擊中具有高傳導(dǎo)性的真皮層時(shí),超聲波信號(hào)會(huì)反射至辨識(shí)系統(tǒng)并被辨識(shí)系統(tǒng)所讀取。熱感指紋辨識(shí)系統(tǒng)是利用在表面的外皮層與空氣之間的熱傳導(dǎo)率中的不同來(lái)測(cè)量指紋圖案?,F(xiàn)有的光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)為全反射式的光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng),主要包含一光組件及一光學(xué)取像系統(tǒng),其中光組件通常使用如透鏡、棱鏡及光纖等工具來(lái)進(jìn)行光線反射傳遞,光學(xué)取像系統(tǒng)主要用以擷取指紋的圖像。辨識(shí)指紋的步驟包括先自預(yù)定的角度來(lái)照射光線到手指的指紋。由于指紋是由多條凹凸不平、不規(guī)則的波峰和波谷所組成,而當(dāng)手指接觸到光組件時(shí),波峰會(huì)接觸到光組件,而波谷并未接觸到光組件。當(dāng)光線照射到波谷時(shí),光線可以在波谷內(nèi)的腔室進(jìn)行反射,最后再射至光學(xué)取像系統(tǒng)。因?yàn)椴ǚ鍟?huì)直接接觸到光組件,所以光線照射到波峰時(shí)會(huì)直接產(chǎn)生反射,而再射至光學(xué)取像系統(tǒng)。因此相較于光線照射到波峰時(shí),波谷的反射光線形成亮區(qū),而波峰形成暗區(qū),如此的指紋形態(tài)將成為明暗清晰交錯(cuò)的條紋圖案。依據(jù)光學(xué)全反射原理,光線再將指紋傳送至光學(xué)取像系統(tǒng)借此取得指紋圖像,而后將指紋形態(tài)和細(xì)節(jié)搭配系統(tǒng)的演算法來(lái)計(jì)算并紀(jì)錄每一個(gè)指紋的特征點(diǎn),如此即可進(jìn)行指紋辨識(shí)。上述的全反射式的光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng),由于光組件是依據(jù)全反射原理導(dǎo)引光線行進(jìn),因此在組裝光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)的過(guò)程中,必須精確調(diào)整光組件及光學(xué)取像系統(tǒng)的光線射入及射出角度,如此才能有效導(dǎo)引光線投射至手指及手指反射至光學(xué)取像系統(tǒng),再使光學(xué)取像系統(tǒng)擷取指紋圖案的圖像??傊?,全反射式的光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)不但在組裝上較困難及復(fù)雜,同時(shí)也產(chǎn)生組裝成本較高的問(wèn)題。除此之外,全反射式的光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)的發(fā)光元件為點(diǎn)光源,若沒(méi)有經(jīng)過(guò)一定光學(xué)處理程序使光線擴(kuò)散,容易導(dǎo)致光線不均勻,亦產(chǎn)生圖像不清晰的情形。是以,此種光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)在擷取手指的指紋圖案時(shí)可能會(huì)產(chǎn)生圖像模糊的情況,進(jìn)而造成指紋辨識(shí)困難的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的是提供一 種用于指紋接觸的面板,借以解決現(xiàn)有光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)組裝復(fù)雜及圖像模糊的現(xiàn)象,進(jìn)而造成高組裝成本及系統(tǒng)指紋辨識(shí)困難的問(wèn)題。為達(dá)成上述的目的,根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板,其包括有一板件,板件具有一第一表面及一第二表面,第一表面相對(duì)于第二表面,第一表面為一光擴(kuò)散面,光擴(kuò)散面供一手指接觸于其上,第二表面朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)。根據(jù)上述本發(fā)明所揭露的一實(shí)施例,其中光擴(kuò)散面經(jīng)由紫外線涂層處理(Ultra-Violet Coating,簡(jiǎn)稱UV Coating)或模具放電處理而形成霧狀微粒的表面,且光擴(kuò)散面的霧化度(Haze)約為85%至95%,光擴(kuò)散面利于在光線射向手指時(shí),增加光線散射而使光線均勻射向手指,使手指的波谷增加亮度。光線接觸手指時(shí),因?yàn)槭种傅牟ǚ褰佑|光擴(kuò)散面,光線將反射回去,且光擴(kuò)散面能弱化接觸波峰時(shí)不必要的散射光線,并使其他接觸波谷的光線經(jīng)由手指的反射和散射將清晰的指紋圖案?jìng)鬟f至感應(yīng)元件,借以增加指紋圖案明暗的差異性。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板,包括有一板件及一膜片,板件具有一第一表面及一第二表面,第一表面相對(duì)于第二表面,第二表面朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)。膜片具有一光擴(kuò)散面,膜片以光擴(kuò)散面貼合于板件的第一表面,光擴(kuò)散面位于板件與膜片之間,且膜片遠(yuǎn)離光擴(kuò)散面的另一面供一手指接觸于其上。根據(jù)上述本發(fā)明所揭露的一實(shí)施例的膜片,經(jīng)由紫外線涂層處理或模具放電處理而形成霧狀微粒,且膜片的霧化度(Haze)約為85%至95%,膜片的光擴(kuò)散面利于在光線射向手指時(shí),可增加光線的散射而使光線均勻射向手指,增加光線亮度。在光線接觸手指時(shí),因?yàn)槭种傅牟ǚ褰佑|光擴(kuò)散面,光線將反射回去,膜片的光擴(kuò)散面能弱化接觸波峰后不必要的散射光線。同時(shí),在波谷和膜片所形成的腔室中,因?yàn)楣饩€在腔室內(nèi)的反射和散射可增加亮度,借以使光線經(jīng)由手指反射和散射回感應(yīng)元件時(shí)能將清晰的指紋圖案?jìng)鬟f至感應(yīng)元件,增加指紋明暗的差異性。本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板,在組裝時(shí)因?yàn)椴恍杈_調(diào)整面板的光線射入及射出角度,僅需確定面板與光學(xué)取向系統(tǒng)間的焦距即可,因此在組裝光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)時(shí)較為便利。綜合上述,根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板,借由霧化處理過(guò)的表面能增加朝向手指的散射,增加波谷的亮度,同時(shí)在出光時(shí)可以弱化接觸波峰的不必要的散射光線,以利光線自手指反射至光學(xué)取像系統(tǒng)時(shí),光學(xué)取像系統(tǒng)能借由光線經(jīng)過(guò)面板所造成的全反射和散射擷取明暗對(duì)比明顯的指紋圖案。換句話說(shuō),霧化處理過(guò)的面板可修補(bǔ)擷取光線時(shí)感應(yīng)元件中間圖像模糊的部分,并解決因?yàn)楣鈱W(xué)取像系統(tǒng)擷取自身反射時(shí)而產(chǎn)生陰影的問(wèn)題,借此加大指紋圖案圖像明暗的差異性,因此相較于現(xiàn)有技術(shù)而言,感應(yīng)元件能借此擷取清晰的指紋圖案。同時(shí),面板組裝也較為便利。是故,本發(fā)明解決了現(xiàn)有光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)在擷取手指的指紋圖案時(shí)產(chǎn)生圖像模糊及組裝復(fù)雜等問(wèn)題。有關(guān)本發(fā)明的特征、實(shí)作與功效,配合附圖作最佳實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明如下,其內(nèi)容足以使本領(lǐng)域普通技術(shù)人員了解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,且根據(jù)本說(shuō)明書所揭露的內(nèi)容及附圖,任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可輕易地理解本發(fā)明相關(guān)的目的及優(yōu)點(diǎn)。


圖I為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。圖2為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。
圖3為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的指紋圖像圖。圖4為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下100板件110,110’ 第一表面120第二表面130微結(jié)構(gòu)200膜片210第二表面220第四表面300感應(yīng)元件400發(fā)光元件500擴(kuò)散板510開口600光學(xué)取像系統(tǒng)800拇指900CCD取像區(qū)域950辨識(shí)區(qū)域1000面板
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參照?qǐng)D1,圖I為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。在圖I所繪示的實(shí)施例中,面板1000包括一板件100,具有一第一表面110及一第二表面120,第一表面110相對(duì)于第二表面120,第一表面110為一光擴(kuò)散面,光擴(kuò)散面供一手指800接觸于其上,第二表面120朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)600。在本實(shí)施例以及部分的其他的實(shí)施例中,第一表面110的光擴(kuò)散面與板件110為
一體成型。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的光學(xué)取像系統(tǒng)包括二發(fā)光兀件400及一感應(yīng)兀件300,發(fā)光元件400用于朝向板件100發(fā)射至少一光線,感應(yīng)元件300朝向板件100并用以擷取光線經(jīng)由手指800所傳遞手指800的一指紋圖案。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例所述的發(fā)光元件,其發(fā)光元件數(shù)量為二,但并非用以限定本發(fā)明的發(fā)光元件的數(shù)量。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的第一表面110的光擴(kuò)散面,是經(jīng)由UVCoating或模具放電處理而形成霧狀微粒的表面,且第一表面110的光擴(kuò)散面的霧化度(Haze)約為85%至95 %,第一表面110的光擴(kuò)散面利于當(dāng)光線射向手指800時(shí)能增加光線散射,借以使光線均勻射向手指800,同時(shí)光線接觸手指800后,能弱化不必要的散射光線,將清晰清楚的光線傳遞至感應(yīng)元件300。在本發(fā)明的霧化度,本發(fā)明定義為所有穿透過(guò)一樣品中光偏離入射方向(2. 5度角以上)的光通量除以總透過(guò)樣品光的功率百分比。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例所述的光學(xué)取像系統(tǒng)的感應(yīng)元件,可為一透鏡及一 C⑶元件、一透鏡及一互補(bǔ)金氧半導(dǎo)體(Complementary Metal OxideSemiconductor,簡(jiǎn)稱 CMOS)元件或是一接觸型圖像感應(yīng)器(Contact ImageSensor,簡(jiǎn)稱CIS)所組成。在本實(shí)施例以及部分的其他的實(shí)施例中,感應(yīng)元件300與板件100之間的距離,將 視感應(yīng)元件300與板件100的實(shí)際焦距而進(jìn)行調(diào)整。一實(shí)施例的光學(xué)取像系統(tǒng)600更包括一擴(kuò)散板500,設(shè)置于發(fā)光元件400及板件100之間,當(dāng)光線通過(guò)擴(kuò)散板500后,擴(kuò)散板500可改變光線穿透路徑及產(chǎn)生散射的現(xiàn)象,使光線均勻射向面板1000,使手指800的指紋均勻接受光線。一實(shí)施例的擴(kuò)散板500,其具有一開口 510,位于感應(yīng)元件300及板件100之間,開口 510適于使光線自手指800反射回來(lái)后不經(jīng)由擴(kuò)散板500,而使光線通過(guò)開口 510射向感應(yīng)元件300。如此可降低光線穿透擴(kuò)散板500產(chǎn)生的折射而造成感應(yīng)元件300擷取圖像模糊的情形。需要注意的是,圖I所繪示的光線路徑,為一實(shí)施例的光線路徑,并非用以限定本發(fā)明。在其他實(shí)施例中可為其他路徑而達(dá)成本發(fā)明的目的。請(qǐng)參照?qǐng)D2,圖2為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。圖2內(nèi)的元件與圖I的元件相似,因此其中相同的符號(hào)代表相同或是類似的結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的面板1000,更包括一微結(jié)構(gòu)130,設(shè)置于第二表面120,微結(jié)構(gòu)130用以使光線通過(guò)微結(jié)構(gòu)130后使光線均勻射向板件100。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例以及部分的其他實(shí)施例中,利用發(fā)光元件400發(fā)射光線穿過(guò)擴(kuò)散板500,借由擴(kuò)散板500的特殊結(jié)構(gòu)使光線均勻布滿于面板500,以利照射于手指的光線均勻、密集。光線再穿過(guò)設(shè)置于第二表面120的微結(jié)構(gòu)130,微結(jié)構(gòu)130亦可使光線均勻射向板件100。光線借由板件100的第一表面110的光擴(kuò)散面時(shí),通過(guò)全反射和散射原理,增加光線傳遞至手指800的波谷的亮度,并能弱化光線接觸手指800的波峰不必要的散射光線,最后光線經(jīng)由開口 510傳至感應(yīng)元件300,使感應(yīng)元件300擷取圖像。如此面板1000能利用散射效果將使手指800的指紋圖案強(qiáng)化,增加指紋圖案明暗的差異性,因此較現(xiàn)有光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)清晰。需要注意的是,圖2所繪示的光線路徑,為一實(shí)施例的光線路徑,并非用以限定本發(fā)明。在其他實(shí)施例中可為其他路徑而達(dá)成本發(fā)明的目的。請(qǐng)參照?qǐng)D3,圖3為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的指紋圖像圖。圖3中的指紋辨識(shí)區(qū)域950內(nèi),C⑶取像區(qū)域900中的手指800的指紋圖案的圖像清晰,且圖像中不具有CXD取像區(qū)域900的自身反射,由此可見(jiàn)本發(fā)明的用于指紋接觸的面板的功效。
請(qǐng)參照?qǐng)D4,圖4為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板的概要結(jié)構(gòu)圖。圖4內(nèi)的元件與圖I的元件相似,因此其中相同的符號(hào)代表相同或是類似的結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例的用于指紋接觸的面板1000,其包含一板件100及一膜片200,板件100具有一第一表面110’及一第二表面120,第一表面110’相對(duì)于第二表面120,第二表面120朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)300 ;膜片200具有一第三表面210及一第四表面220,且第三表面210相對(duì)于第四表面220。第三表面210具有一光擴(kuò)散面,膜片200以第三表面210的光擴(kuò)散面貼合于板件100的第一表面110’,而第三表面210的光擴(kuò)散面位于板件100與膜片200之間,且膜片200遠(yuǎn)離第三表面210的光擴(kuò)散面的第四表面220供一手指800接觸于其上。換句話說(shuō),相較于圖I及圖2的實(shí)施例,本實(shí)施例的板件為兩元件所組成,即板件100及膜片200,而光擴(kuò)散面位于膜片200上,而并非位于板件100的第一表面110’上。在本實(shí)施例以及部分的其他的實(shí)施例中,其中光學(xué)取像系統(tǒng)300包含二發(fā)光元件400及一感應(yīng)元件300,300發(fā)光元件用以朝向面板1000發(fā)射至少一光線,感應(yīng)元件300朝向面板1000用以擷取光線經(jīng)由手指800所傳遞手指800的一指紋圖案。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例所述的發(fā)光元件,并非用以限定本發(fā)明的發(fā)光元件的數(shù)量。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例所述的發(fā)光元件,是以發(fā)光二極管(Light EmittingDiode,簡(jiǎn)稱LED)作一較佳實(shí)施例說(shuō)明,但不以此為限。根據(jù)本發(fā)明所揭露一實(shí)施例,面板1000其中的膜片200的第三表面210是經(jīng)由紫外線涂層處理UV Coating或模具放電處理而形成霧狀微粒,且膜片200的第三表面210霧化度(Haze)約為85%至95%,膜片200的霧狀微粒利于當(dāng)光線射向手指800時(shí)能增加光線散射,借以使光線均勻射向手指800。光線接觸手指800后,膜片200的霧狀微粒能弱化光線接觸波峰時(shí)不必要的散射光線,借此將光線傳遞清晰的手指800的指紋圖案至感應(yīng)元件 300。在本實(shí)施例以及部分的其他的實(shí)施例中,其中光學(xué)取像系統(tǒng)600更包括一擴(kuò)散板500,設(shè)置于發(fā)光元件400及板件100之間,擴(kuò)散板500用以使光線通過(guò)擴(kuò)散板500后均勻射向板件100,進(jìn)而有效提升指紋辨識(shí)率。一實(shí)施例中的擴(kuò)散板500,其具有一開口 510,位于感應(yīng)元件300及板件100之間,開口 510適于使光線自手指800反射回來(lái)后,光線不經(jīng)由擴(kuò)散板500而透過(guò)開口 510射向感應(yīng)元件300,如此可降低穿透擴(kuò)散板500而產(chǎn)生的折射,進(jìn)而造成指紋圖像模糊的現(xiàn)象。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例以及部分的其他實(shí)施例中,利用發(fā)光元件400發(fā)射光線穿過(guò)擴(kuò)散板500,借由擴(kuò)散板500的特殊結(jié)構(gòu)使光線均勻布滿于面板1000,以利照射于手指的光線均勻、密集。當(dāng)光線進(jìn)入板件100后,光線可借由折射和散射原理穿透板件100至膜片200,光線借由膜片200的第三表面210的光擴(kuò)散面能使光線均勻。當(dāng)光線射至第四表面220時(shí),因?yàn)槭种?00的波峰直接接觸第四表面220,所以光線接觸波峰時(shí)將產(chǎn)生反射,此時(shí)第三表面210的光擴(kuò)散面弱化不必要的散射光線,且因?yàn)楣饩€的均勻散布可強(qiáng)化射至波谷的光線借以增加光線的亮度。最后光線透過(guò)全反射和散射原理再穿過(guò)開口 510傳至感應(yīng)元件300。如此面板1000能利用散射效果將手指800的指紋圖案強(qiáng)化,加大明暗的差異性。因此指紋圖案較現(xiàn)有光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)的指紋圖案清晰。需要注意的是,圖4所繪示的光線路徑,為一實(shí)施例的光線路徑,并非用以限定本發(fā)明。在其他實(shí)施例中,可為其他路徑而達(dá)成本發(fā)明的目的。
綜合上述,本發(fā)明的功效是以面板的光擴(kuò)散面,在光線入光至手指前,可使光線均勻擴(kuò)散。光線接觸手指后,可將不必要的散射光線弱化,并強(qiáng)化光學(xué)取向系統(tǒng)所需要的光線,進(jìn)而增加指紋明暗的差異性,借以解決光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)圖像模糊,且光學(xué)取像系統(tǒng)擷取圖像時(shí)擷取自身反射的圖像,而造成辨識(shí)度困難的問(wèn)題。同時(shí),在組裝光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)時(shí)因?yàn)椴恍杈_調(diào)整面板與光線射入及射出角度,僅需確定面板與光學(xué)取向系統(tǒng)間的焦距 即可,因此在組裝光學(xué)指紋辨識(shí)系統(tǒng)時(shí)較為便利。
權(quán)利要求
1.一種用于指紋接觸的面板,其特征在于,包括一板件,所述板件具有一第一表面及一第二表面,該第一表面相對(duì)于該第二表面,該第一表面為一光擴(kuò)散面,該光擴(kuò)散面供一手指接觸于其上,該第二表面朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)。
2.如權(quán)利要求I所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該光學(xué)取像系統(tǒng)包括至少一發(fā)光兀件及一感應(yīng)兀件,該發(fā)光兀件用于朝向該板件發(fā)射至少一光線,該感應(yīng)兀件朝向該板件用以擷取該光線經(jīng)由該手指所傳遞該手指的一指紋圖案。
3.如權(quán)利要求2所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該光擴(kuò)散面經(jīng)由紫外線涂層處理或模具放電處理而形成霧狀微粒的表面,且該光擴(kuò)散面的霧化度為85%至95%,當(dāng)該發(fā)光元件發(fā)射該光線至該光擴(kuò)散面時(shí)能夠增加散射,當(dāng)該光線接觸該手指時(shí),該光擴(kuò)散面利于弱化該光線的散射。
4.如權(quán)利要求2所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,還包括一微結(jié)構(gòu),設(shè)置于該第二表面,該微結(jié)構(gòu)用以使該光線通過(guò)該微結(jié)構(gòu)后使該光線均勻射向該板件。
5.如權(quán)利要求2所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該光學(xué)取像系統(tǒng)還包括一擴(kuò)散板,設(shè)置于該發(fā)光元件及該板件之間,該擴(kuò)散板用以使該光線通過(guò)該擴(kuò)散板后使該光線均勻射向該板件。
6.一種用于指紋接觸的面板,其特征在于,包含 一板件,具有一第一表面及一第二表面,該第一表面相對(duì)于該第二表面,該第二表面朝向一光學(xué)取像系統(tǒng);以及 一膜片,具有一光擴(kuò)散面,該膜片以該光擴(kuò)散面貼合于該板件的該第一表面,令該光擴(kuò)散面位于該板件與該膜片之間,且該膜片遠(yuǎn)離該光擴(kuò)散面的另一面供一手指接觸于其上。
7.如權(quán)利要求6所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該光學(xué)取像系統(tǒng)還包括至少一發(fā)光元件及一感應(yīng)元件,該發(fā)光元件用以朝向該板件發(fā)射至少一光線,該感應(yīng)元件朝向該板件用以擷取該光線經(jīng)由該手指所傳遞該手指的一指紋圖案。
8.如權(quán)利要求7所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該膜片的該光擴(kuò)散面經(jīng)由紫外線涂層處理或模具放電處理而形成霧狀微粒,且該膜片的該光擴(kuò)散面的霧化度為85%至95%,當(dāng)該發(fā)光元件發(fā)射該光線至該膜片的該光擴(kuò)散面時(shí)能夠增加散射,當(dāng)該光線接觸該手指時(shí),該光擴(kuò)散面利于弱化該光線的散射。
9.如權(quán)利要求7所述的用于指紋接觸的面板,其特征在于,該光學(xué)取像系統(tǒng)還包括一擴(kuò)散板,設(shè)置于該發(fā)光元件及該板件之間,該擴(kuò)散板用以使該光線通過(guò)該擴(kuò)散板后均勻射向該板件。
全文摘要
本發(fā)明提出一種用于指紋接觸的面板,包括一板件,此板件具有一第一表面及一第二表面。第一表面為一光擴(kuò)散面,光擴(kuò)散面供一手指接觸于其上,且光擴(kuò)散面為霧狀微粒,第二表面朝向一光學(xué)取像系統(tǒng)。本發(fā)明的用于指紋接觸的面板中,板件的光擴(kuò)散面可弱化不必要的散射光線,以利光學(xué)取像系統(tǒng)截取作用于手指的光線時(shí)提高指紋的辨識(shí)率。
文檔編號(hào)G06K9/00GK102955936SQ20111025960
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2011年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月24日
發(fā)明者吳建興, 周榮宗 申請(qǐng)人:金佶科技股份有限公司
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