專利名稱：觸摸屏及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種觸摸屏及其制作方法。
背景技術(shù)：
隨著人們對(duì)多元化的需求，用觸摸屏代替鍵盤(pán)或是鼠標(biāo)來(lái)控制液晶顯示裝置的方式越來(lái)越受歡迎。目前，比較常用的觸摸屏是電阻式觸摸屏和電容式觸摸屏。其中，電阻式觸摸屏的結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括上基板015，下基板011，上導(dǎo)電層 014，下導(dǎo)電層012，并且上下導(dǎo)電層之間設(shè)有隔離物016從而形成空腔013。由于空腔013 的存在，就導(dǎo)致了電阻式觸摸屏比較厚且所述空腔會(huì)嚴(yán)重阻礙光線的透射，導(dǎo)致電阻式觸摸屏的透射率較低。同樣地，對(duì)于電容式觸摸屏也有類似的不足。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種觸摸屏及其制作方法，以實(shí)現(xiàn)觸摸屏超薄化、高光透過(guò)率的目的。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及觸摸屏控制器，并且，在所述第一基板和第二基板之間形成有第一電路層和第二電路層，且所述第一電路層與所述第二電路層之間形成有絕緣層；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)供電的電路通路；所述第二電路層包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以便于所述觸摸屏控制器檢測(cè)每個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的導(dǎo)通狀態(tài)或者每個(gè)所述記憶合金與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線之間的連接狀態(tài)。一種觸摸屏的制作方法，包括下列步驟步驟al、在第一基板上形成至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)； 步驟a2、在第二基板上形成電路通路層和第二電路層，在所述電路通路層和第二電路層之間形成有保護(hù)層，且在所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；步驟a3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的電路通路層相接形成第一電路層，該第一電路層與所述第二電路層通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟a4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。一種觸摸屏的制作方法，包括下列步驟步驟bl、在第一基板上形成第一電路層的電路通路，并在所述電路通路上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟b2、在第二基板上形成第二電路層，并在所述第二基板上形成保護(hù)層，且所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；
步驟b3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的第二電路層可以通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟b4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏及其制作方法，通過(guò)設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，運(yùn)用記憶合金在外力作用下產(chǎn)生形變，去掉外力時(shí)可恢復(fù)原來(lái)形狀的特性，使得所述記憶合金節(jié)點(diǎn)通過(guò)感應(yīng)在該節(jié)點(diǎn)處的外力變化，類似電路開(kāi)關(guān)的作用而引起電信號(hào)變化，然后通過(guò)電路連接將所述電信號(hào)的變化傳遞給觸摸屏控制器，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處外力變化的檢測(cè)；由于所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏及其制作方法，用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化， 同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中電阻式觸摸屏的結(jié)構(gòu)圖；圖2為實(shí)施例一提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)圖；圖3為圖2所示觸摸屏的第一電路層的電路通路網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3所示的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)中任一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處與記憶合金節(jié)點(diǎn)連接/斷開(kāi)的示意圖；圖5為實(shí)施例二提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)圖；圖6為圖5所示觸摸屏的第一電路層的電路通路網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為實(shí)施例三提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)圖；圖8為圖7所示觸摸屏的第一電路層的電路通路網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)示意圖；圖9為圖8所示的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)中任一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處設(shè)有記憶合金節(jié)點(diǎn)的示意圖；圖10為實(shí)施例三提供的觸摸屏的另一結(jié)構(gòu)圖；圖11為本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法流程圖一；圖12為本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法流程圖二。附圖標(biāo)記011-下基板，012-下導(dǎo)電層，013-空腔，014-上導(dǎo)電層，015-上基板， 016-隔離物；01-第一基板，02-第二基板，03-陣列基板，11-第一電路層的電路通路，12-記憶合金節(jié)點(diǎn)，13-與第二電路層相連的導(dǎo)線，14-過(guò)孔，15-第二電路層，16-絕緣層。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。首先，對(duì)本發(fā)明使用的一種特殊材料記憶合金進(jìn)行介紹。記憶合金是一種原子排列很有規(guī)則且具有馬氏體相變合金。馬氏體相變具有可逆性，形成記憶合金的記憶效應(yīng)。這種合金在外力作用下會(huì)產(chǎn)生變形，當(dāng)把外力去掉，在一定的溫度條件下，能恢復(fù)原來(lái)的形狀。接下來(lái)，本實(shí)施例提供了一種觸摸屏，該觸摸屏使用了上述介紹的記憶合金材料， 可以解決電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔所帶來(lái)的厚度問(wèn)題以及光透過(guò)率低的問(wèn)題，有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化及高光透過(guò)率?！N觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及觸摸屏控制器，并且，在所述第一基板和第二基板之間形成有第一電路層和第二電路層，且所述第一電路層與所述第二電路層之間形成有絕緣層；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)供電的電路通路；所述第二電路層包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以便于所述觸摸屏控制器檢測(cè)每個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的導(dǎo)通狀態(tài)或者每個(gè)所述記憶合金與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線之間的連接狀態(tài)。其中，所述絕緣層為透明絕緣物質(zhì)PVX (氮化硅)材料。另外，為了較好地感應(yīng)觸摸屏上的外力變化，選用軟板玻璃作為所述第一基板；本實(shí)施例為進(jìn)一步減小所述觸摸屏的厚度，把液晶顯示屏中的彩膜基板作為第二基板。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏，通過(guò)設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，運(yùn)用記憶合金在外力作用下產(chǎn)生形變，去掉外力時(shí)可恢復(fù)原來(lái)形狀的特性，使得所述記憶合金節(jié)點(diǎn)通過(guò)感應(yīng)在該節(jié)點(diǎn)處的外力變化，類似電路開(kāi)關(guān)的作用而引起電信號(hào)變化，然后通過(guò)電路連接將所述電信號(hào)的變化傳遞給觸摸屏控制器，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處外力變化的檢測(cè)； 由于所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏中用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。下面，將結(jié)合附圖介紹幾種具體的觸摸屏的設(shè)計(jì)方案。實(shí)施例一如圖2所示，本實(shí)施例提供的觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板01和第二基板02 以及觸摸屏控制器，并且，在所述第一基板01和第二基板02之間形成有第一電路層和第二電路層15，且所述第一電路層與所述第二電路層15之間形成有絕緣層16 ；所述第一電路層用于感應(yīng)外力的觸摸，所述第二電路層用于將觸摸點(diǎn)是否有外力觸摸的信號(hào)傳遞給觸摸屏控制器；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12供電的電路通路11 ；為了更清楚地表示所述第一電路層與所述第二電路層15的連接關(guān)系，在圖示中只以一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12的電路連接為例，但在實(shí)際應(yīng)用中，根據(jù)實(shí)際需要對(duì)觸摸屏精度的要求設(shè)置記憶合金節(jié)點(diǎn)的個(gè)數(shù)，所設(shè)置的每個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)的電路連接均與圖示中的記憶合金節(jié)點(diǎn)12的電路連接類似；所述第二電路層15包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，以便于所述觸摸屏控制器檢測(cè)每個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12的導(dǎo)通狀態(tài)。其中，為了較好地感應(yīng)在觸摸屏上的外力變化，選用軟板玻璃作為所述第一基板 01 ；為增強(qiáng)觸摸屏的透光率，所述絕緣層16為透明絕緣物質(zhì)PVX(氮化硅)材料，所述第一電路層中的電路通路和所述第二電路層15采用ITO (銦錫氧化物)材料；為進(jìn)一步減小所述觸摸屏的厚度，本實(shí)施例把液晶顯示屏中的彩膜基板作為第二基板02 ；所述第二基板02 與陣列基板03中填充有液晶，構(gòu)成液晶盒。作為一具體的實(shí)施方式，如圖3所示在本實(shí)施例中，所述第一電路層包括所述電路通路11以及連接第二電路層的導(dǎo)線13，所述電路通路11呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)且在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端之間無(wú)連接(例如，圖3中的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的每個(gè)節(jié)點(diǎn)處的4個(gè)線端之間均無(wú)連接)， 所述導(dǎo)線13的一端與網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端均無(wú)連接，另一端通過(guò)過(guò)孔14與所述第二電路層 15連接；其中，所述呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的電路通路11在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處存在至少兩個(gè)線端，且在該網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的所有線端之間均無(wú)連接；另外，所述過(guò)孔14中形成有ΙΤ0，起到電性連接的作用。圖4為圖3中的其中一個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的電路示意圖，如圖4所示，在所述每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處設(shè)有一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12固設(shè)在所述第一基板01上。當(dāng)觸摸屏上沒(méi)有施加外力時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于膨脹狀態(tài)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12將所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的所有線端連接起來(lái)，該記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于導(dǎo)通狀態(tài)，此時(shí)連接第二電路層的導(dǎo)線13將該記憶合金節(jié)點(diǎn)12上的電信號(hào)通過(guò)第二電路層15傳遞給觸摸屏控制器；當(dāng)用手或是其他物體觸碰觸摸屏，即在所述觸摸屏的某一點(diǎn)上施加有外力時(shí)，則該觸碰點(diǎn)對(duì)應(yīng)的所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于收縮狀態(tài)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12與所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端無(wú)接觸，該記憶合金節(jié)點(diǎn)處于斷開(kāi)狀態(tài)，此時(shí)連接第二電路層的導(dǎo)線13與該記憶合金節(jié)點(diǎn)12 也無(wú)接觸，也就沒(méi)有電信號(hào)傳遞給觸摸屏控制器；所述觸摸屏控制器通過(guò)接收到的每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12對(duì)應(yīng)是否有電信號(hào)的情況，可以判斷出在該記憶合金節(jié)點(diǎn)處是否有人為的指令。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏，通過(guò)設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，運(yùn)用記憶合金在外力作用下產(chǎn)生形變，去掉外力時(shí)可恢復(fù)原來(lái)形狀的特性，使得所述記憶合金節(jié)點(diǎn)通過(guò)感應(yīng)在該節(jié)點(diǎn)處的外力變化，類似電路開(kāi)關(guān)的作用而引起電信號(hào)變化，然后通過(guò)電路連接將所述電信號(hào)的變化傳遞給觸摸屏控制器，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處外力變化的檢測(cè)； 由于所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏中用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。實(shí)施例二 如圖5所示，本實(shí)施例提供的觸摸屏針對(duì)第一電路層及第二電路層的電路設(shè)計(jì)提供了又一實(shí)現(xiàn)方案，其他設(shè)計(jì)與實(shí)施例一的實(shí)現(xiàn)方案類似，在此不再贅述。在本實(shí)施例中，第一電路層中的電路通路呈圖6所示的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端之間無(wú)連接。在所述每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處設(shè)有一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12固設(shè)在所述第一基板01上。所述第一電路層與第二電路層15之間設(shè)有絕緣層16，且所述絕緣層16上設(shè)置有填充有ITO的過(guò)孔14，所述過(guò)孔14設(shè)于所述記憶合金節(jié)點(diǎn) 12的正下方并與該記憶合金節(jié)點(diǎn)12保持接觸，且與所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的所有線端之間均無(wú)電性連接。如圖5所示，當(dāng)觸摸屏上沒(méi)有施加外力時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于膨脹狀態(tài)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12將所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的所有線端連接起來(lái)，該記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于導(dǎo)通狀態(tài)，此時(shí)形成有ITO的過(guò)孔14將該記憶合金節(jié)點(diǎn)12上的電信號(hào)通過(guò)第二電路層15中與之對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線傳遞給觸摸屏控制器；當(dāng)用手或是其他物體觸碰觸摸屏，即在所述觸摸屏的某一點(diǎn)上施加有外力時(shí)，則在該觸碰點(diǎn)對(duì)應(yīng)的記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于收縮狀態(tài)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12與所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端無(wú)接觸，該記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于斷開(kāi)狀態(tài)，此時(shí)沒(méi)有電信號(hào)傳遞給觸摸屏控制器；所述觸摸屏控制器通過(guò)接收到的每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12 對(duì)應(yīng)是否有電信號(hào)的情況，可以判斷出在該記憶合金節(jié)點(diǎn)處是否有人為的指令。本實(shí)施例提供的觸摸屏針對(duì)第一電路層及第二電路層的電路提供了又一設(shè)計(jì)方案，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)上的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏中用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。實(shí)施例三如圖7所示，本實(shí)施例提供的觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板01和第二基板02 以及觸摸屏控制器，并且，在所述第一基板01和第二基板02之間形成有第一電路層和第二電路層15，且所述第一電路層與所述第二電路層15之間形成有絕緣層16 ；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12供電的電路通路11 ；所述第二電路層15包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12，以便于所述觸摸屏控制器檢測(cè)每個(gè)所述記憶合金I2與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線之間的連接狀態(tài)。其中，為了較好地感應(yīng)在觸摸屏上的外力變化，選用軟板玻璃作為所述第一基板 01 ；為增強(qiáng)觸摸屏的透光率，所述絕緣層16為透明絕緣物質(zhì)PVX(氮化硅)材料，所述第一電路層中的電路通路和所述第二電路層15采用ITO (銦錫氧化物)材料；為進(jìn)一步減小所述觸摸屏的厚度，本實(shí)施例把液晶顯示屏中的彩膜基板作為第二基板02 ；所述第二基板02 與陣列基板03中填充有液晶。另外，所述第一電路層的電路通路11設(shè)置在所述第一基板01上，且在所述電路通路11上設(shè)有至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12和所述第二電路層15之間的絕緣層上設(shè)有過(guò)孔14，該過(guò)孔14為中空的。在此具體實(shí)施例中，所述電路通路11呈圖8所示的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處是連通的。針對(duì)每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的結(jié)構(gòu)，如圖9所示，在網(wǎng)狀的電路通路11的每一個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處均固設(shè)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12。當(dāng)觸摸屏工作時(shí)，所述電路通路11給所述記憶合金節(jié)點(diǎn)供電，若觸摸屏沒(méi)有受到外力，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12處于收縮狀態(tài)，該記憶合金節(jié)點(diǎn)12 與第二電路層15不接觸，此時(shí)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)與其在第二電路層15中對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線處于斷開(kāi)狀態(tài)，即沒(méi)有電信號(hào)傳遞給觸摸屏控制器；若對(duì)觸摸屏施加外力，則觸碰處的記憶合金節(jié)點(diǎn)12發(fā)生形變，處于膨脹狀態(tài)，則該記憶合金節(jié)點(diǎn)12將容置在所述過(guò)孔14中并與其在第二電路層15上對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線相接觸形成電性連接，此時(shí)有電信號(hào)傳遞給觸摸屏控制器；當(dāng)去掉外力時(shí)，記憶合金又重新恢復(fù)成收縮狀態(tài)。所述觸摸屏控制器通過(guò)接收到的每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12對(duì)應(yīng)是否有電信號(hào)的情況，可以判斷出在該記憶合金節(jié)點(diǎn)處是否有人為的指令。另外，針對(duì)所述第一電路層的電路通路的結(jié)構(gòu)并不唯一，可以根據(jù)實(shí)際需要，只要所述電路通路在觸摸屏工作時(shí)能夠完成對(duì)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的供電，則在理論上該電路通路就是可應(yīng)用的。例如，所述電路通路還可以是平行排布的帶狀結(jié)構(gòu)，且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)均勻分布在所述帶狀的電路通路上。為了使得觸摸屏的結(jié)構(gòu)進(jìn)一步簡(jiǎn)化，如圖10所示，所述第一電路層的電路通路11 為記憶合金材料，則此時(shí)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)作為所述電路通路的一部分，故無(wú)需在所述通路上另設(shè)記憶合金節(jié)點(diǎn)。由于第一電路層及第二電路層的電路設(shè)計(jì)并不唯一，本實(shí)施例提供的觸摸屏針對(duì)第一電路層及第二電路層的電路提供了又一設(shè)計(jì)方案，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)上的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏中用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。上述是關(guān)于本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方案的描述，下面將具體介紹所述觸摸屏的制作方法。如圖11所示，一種觸摸屏的制作方法，包括下列步驟步驟al、在第一基板上形成至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)； 步驟a2、在第二基板上形成電路通路層和第二電路層，在所述電路通路層和第二電路層之間形成有保護(hù)層，且在所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；步驟a3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的電路通路層相接形成第一電路層，該第一電路層與所述第二電路層通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟a4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法，運(yùn)用現(xiàn)有的制作工藝，就可完成上述觸摸屏的設(shè)計(jì)，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；并且，用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。實(shí)施例四本實(shí)施例針對(duì)實(shí)施例一及實(shí)施例二中的觸摸屏提供其制作方法，下面將結(jié)合圖2 所示的觸摸屏，介紹該觸摸屏的制作方法，具體包括下列步驟步驟al、在第一基板01上形成至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；步驟a2、在第二基板02上形成電路通路層和第二電路層，在所述電路通路層和第二電路層之間形成有保護(hù)層，且在所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；具體包括以下步驟
a21、在所述第二基板02上沉積第二 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第二電路層15 ；該第二電路層15包括至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；a22、在所述第二基板02上沉積第二保護(hù)層以覆蓋所述第二電路層15，并在所述第二保護(hù)層刻蝕形成與所述至少一條導(dǎo)線分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)過(guò)孔14 ；a23、在所述第二基板02上沉積第一 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述電路通路層；在本具體實(shí)施例中，所述電路通路層包括圖3所示呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的電路11以及與所述第二電路層連接的導(dǎo)線13，且在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端之間無(wú)連接；a24、在所述第二基板02上沉積第一保護(hù)層，并在所述第二基板02上與所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12對(duì)應(yīng)的區(qū)域顯影去除掉部分所述第一保護(hù)層，露出所述電路通路中與所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12接觸的部分。步驟a3、將所述第一基板01和第二基板02對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板01上的記憶合金節(jié)點(diǎn)12與所述第二基板01上的電路通路層相接形成第一電路層，該第一電路層與所述第二電路層15通過(guò)所述過(guò)孔14連接；步驟a4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法，運(yùn)用現(xiàn)有的制作工藝，就可完成上述觸摸屏的設(shè)計(jì)，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；并且，用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。根據(jù)觸摸屏中第一電路層及第二電路層的電路結(jié)構(gòu)的不同，需要采用不同的觸摸屏制作方法，下面將提供另一種觸摸屏制作方法，如圖12所示，具體包括下列步驟步驟bl、在第一基板上形成第一電路層的電路通路，并在所述電路通路上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟b2、在第二基板上形成第二電路層，并在所述第二基板上形成保護(hù)層，且所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；步驟b3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的第二電路層可以通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟b4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法，運(yùn)用現(xiàn)有的制作工藝，就可完成上述觸摸屏的設(shè)計(jì)，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；并且，用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。實(shí)施例五下面將針對(duì)實(shí)施例三中的觸摸屏提供其制作方法，結(jié)合圖7對(duì)其制作方法進(jìn)行詳述，具體包括以下步驟步驟bl、在第一基板01上形成第一電路層的電路通路11，并在所述電路通路11 上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；所述電路通路11可以為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12置于所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的電路通路11的網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處，也可以呈平行排布的帶狀結(jié)構(gòu)，且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12均勻分布在所述帶狀結(jié)構(gòu)的電路通路11上；bll、在第一基板01上沉積第一 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第一電路層的電路通路11 ；或者，在第一基板01上形成由記憶合金材料制成的所述第一電路層的電路通路 11 ；所述由記憶合金材料制成的所述第一電路層的電路通路11的形成過(guò)程可以為先在第一基板01上形成記憶合金層，再通過(guò)掩模光刻工藝制成所述第一電路層的電路通路11 ；bl2、若步驟bll中第一電路層的電路通路11為ITO材料，則在所述電路通路11 上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；步驟b2、在第二基板02上形成第二電路層15，并在所述第二基板02上形成保護(hù)層16，且所述保護(hù)層16設(shè)有過(guò)孔14 ；b21、在所述第二基板02上沉積第二 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第二電路層15 ；該第二電路層15包括至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12 ；b22、在所述第二基板02上沉積保護(hù)層16以覆蓋所述第二電路層15，并在所述保護(hù)層16刻蝕形成與所述至少一條導(dǎo)線分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)過(guò)孔14 ；膨脹后的所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12可容置于該過(guò)孔且通過(guò)該過(guò)孔與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線接觸，即所述記憶合金節(jié)點(diǎn)12膨脹后，可通過(guò)中空的過(guò)孔14與第二電路層15中該記憶合金節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線形成電性連接。步驟b3、將所述第一基板01和第二基板02對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)12與所述第二基板02上的第二電路層15可以通過(guò)所述過(guò)孔14連接；步驟b4、將所述第二電路層15連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。本實(shí)施例提供的觸摸屏制作方法，運(yùn)用現(xiàn)有的制作工藝，就可完成上述觸摸屏的設(shè)計(jì)，所述觸摸屏對(duì)每一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的外力變化進(jìn)行單獨(dú)檢測(cè)，這就增強(qiáng)了該觸摸屏的靈敏性，并且也易于實(shí)現(xiàn)對(duì)該觸摸屏的多點(diǎn)觸控；并且，用設(shè)有過(guò)孔的絕緣層代替電阻式觸摸屏以及電容式觸摸屏中的空腔，由于所述絕緣層相對(duì)所述空腔比較薄，所以有助于實(shí)現(xiàn)觸摸屏的超薄化，同時(shí)解決了所述空腔引起的光透過(guò)率較低的問(wèn)題。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及觸摸屏控制器，其特征在于， 在所述第一基板和第二基板之間形成有第一電路層和第二電路層，且所述第一電路層與所述第二電路層之間形成有絕緣層；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)供電的電路通路；所述第二電路層包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以便于所述觸摸屏控制器檢測(cè)每個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)的導(dǎo)通狀態(tài)或者每個(gè)所述記憶合金與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線之間的連接狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一電路層中的電路通路呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端之間無(wú)連接，且在所述每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處設(shè)有一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處于膨脹狀態(tài)時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)將所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的至少兩個(gè)線端連接起來(lái)，該記憶合金節(jié)點(diǎn)處于導(dǎo)通狀態(tài)；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處于收縮狀態(tài)時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端無(wú)接觸，該記憶合金節(jié)點(diǎn)處于斷開(kāi)狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)固設(shè)在所述第一基板上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述絕緣層上形成有過(guò)孔，所述過(guò)孔用以連接所述第一電路層和所述第二電路層。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一電路層中的電路通路和所述第二電路層采用銦錫氧化物ITO材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一電路層的電路通路設(shè)置在所述第一基板上，且在所述電路通路上設(shè)有至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)和所述第二電路層之間的絕緣層上設(shè)有過(guò)孔；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處于膨脹狀態(tài)時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線通過(guò)所述過(guò)孔進(jìn)行連接；在所述記憶合金節(jié)點(diǎn)處于收縮狀態(tài)時(shí)，所述記憶合金節(jié)點(diǎn)與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線處于斷開(kāi)狀態(tài)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述電路通路呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)置于所述網(wǎng)狀的電路通路的網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述電路通路呈平行排布的帶狀結(jié)構(gòu)， 且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)均勻分布在所述帶狀的電路通路上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一電路層中的電路通路采用記憶合金材料或者ΙΤ0，且所述第二電路層采用ΙΤ0。
10.一種觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括下列步驟步驟al、在第一基板上形成至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟a2、在第二基板上形成電路通路層和第二電路層，在所述電路通路層和第二電路層之間形成有保護(hù)層，且在所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；步驟a3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的電路通路層相接形成第一電路層，該第一電路層與所述第二電路層通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟a4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述步驟a2具體包括 步驟a21、在所述第二基板上沉積第二 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第二電路層；該第二電路層包括至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟a22、在所述第二基板上沉積第二保護(hù)層以覆蓋所述第二電路層，并在所述第二保護(hù)層刻蝕形成與所述至少一條導(dǎo)線分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)過(guò)孔；步驟a23、在所述第二基板上沉積第一 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述電路通路層；步驟a24、在所述第二基板上沉積第一保護(hù)層，并在所述第二基板上與所述記憶合金節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的區(qū)域顯影去除掉部分所述第一保護(hù)層，露出所述電路通路層中與所述記憶合金節(jié)點(diǎn)接觸的部分。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述第一電路層中的電路通路層呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，且在每個(gè)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處的線端之間無(wú)連接。
13.一種觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括下列步驟步驟bl、在第一基板上形成第一電路層的電路通路，并在所述電路通路上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟b2、在第二基板上形成第二電路層，并在所述第二基板上形成保護(hù)層，且所述保護(hù)層設(shè)有過(guò)孔；步驟b3、將所述第一基板和第二基板對(duì)盒，且對(duì)盒后所述第一基板上的記憶合金節(jié)點(diǎn)與所述第二基板上的第二電路層可以通過(guò)所述過(guò)孔連接；步驟b4、將所述第二電路層連接到所述觸摸屏的觸摸屏控制器。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述步驟bl具體包括 步驟bll、在第一基板上沉積第一 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第一電路層的電路通路；或者，在第一基板上形成由記憶合金材料制成的所述第一電路層的電路通路； 步驟bl2、若步驟bll中第一電路層的電路通路為ITO材料，則在所述電路通路上均勻設(shè)置至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；若步驟bll中第一電路層的電路通路為記憶合金材料，則所述記憶合金節(jié)點(diǎn)作為所述電路通路的一部分，故無(wú)需在所述通路上另設(shè)記憶合金節(jié)點(diǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述步驟b2具體包括 步驟b21、在所述第二基板上沉積第二 ITO層，并通過(guò)掩模光刻工藝形成所述第二電路層；該第二電路層包括至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)所述記憶合金節(jié)點(diǎn)；步驟b22、在所述第二基板上沉積保護(hù)層以覆蓋所述第二電路層，并在所述保護(hù)層刻蝕形成與所述至少一條導(dǎo)線分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)過(guò)孔；膨脹后的所述記憶合金節(jié)點(diǎn)可容置于該過(guò)孔且通過(guò)該過(guò)孔與其對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線接觸。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述電路通路呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)， 且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)置于所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的電路通路的網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)處。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸摸屏制作方法，其特征在于，所述電路通路呈平行排布的帶狀結(jié)構(gòu)，且所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)均勻分布在所述帶狀結(jié)構(gòu)的電路通路上。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種觸摸屏及其制作方法，涉及液晶顯示領(lǐng)域，能夠?qū)崿F(xiàn)觸摸屏超薄化并提高光透過(guò)率。所述觸摸屏包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及觸摸屏控制器，其中在所述第一基板和第二基板之間形成有第一電路層和第二電路層，且所述第一電路層與所述第二電路層之間形成有絕緣層；所述第一電路層包括至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)，以及為所述至少一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)供電的電路通路；所述第二電路層包括與所述觸摸屏控制器相連接的至少一條導(dǎo)線，且每條導(dǎo)線對(duì)應(yīng)一個(gè)記憶合金節(jié)點(diǎn)；此外，本發(fā)明同時(shí)公開(kāi)了所述觸摸屏的制作方法。本發(fā)明提供的方案適用于觸摸屏。
文檔編號(hào)G06F3/041GK102467268SQ201010531988
公開(kāi)日2012年5月23日 申請(qǐng)日期2010年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月29日
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