用于確定表面的清潔度的系統(tǒng)和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本公開一般設(shè)及用于確定表面的清潔度的系統(tǒng)和方法，并且，具體地講，用于使用 獨特的表面標(biāo)記系統(tǒng)來確定例如醫(yī)療環(huán)境中的環(huán)境表面的清潔度。本公開還設(shè)及表面標(biāo)記 系統(tǒng)和用于將此類標(biāo)記系統(tǒng)施用到感興趣的表面的施用裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在醫(yī)療場所中，微生物可能會從被感染的個體釋放到表面（例如固體表面、設(shè)備 表面、衣服等）上，或相反。一旦表面被微生物污染，與被污染表面接觸就會輕易地將微生 物轉(zhuǎn)移至其他位置，例如另一表面、個體、設(shè)備、食物等。此外，此類場所的患者中的一些受 到病原微生物感染，從而將病原微生物帶入此類場所中。此類微生物污染和/或轉(zhuǎn)移尤其 令人擔(dān)憂，因為在此類場所中的許多人（如患者）都處于病態(tài)并且免疫力可能較差。因此 此類個體因感染污染的微生物而患病的風(fēng)險增大。
[0003] 在醫(yī)院或醫(yī)療機構(gòu)中的受污染表面已經(jīng)被發(fā)現(xiàn)有助于多種微生物或病原體的傳 染病和地方病的傳播，其包括艱難梭狀芽胞桿菌、耐萬古霉素腸球菌（VER)、耐甲氧西林金 黃色釀弄葡萄球菌（MRSA)、鮑曼不動桿菌屬，和假單胞菌銅綠，W及諾羅病毒的傳染病傳 播。此類病原體已與醫(yī)療獲得性感染（HAI)相關(guān)聯(lián)。雖然在此類醫(yī)療機構(gòu)中，環(huán)境清潔和 消毒實踐已經(jīng)成為常規(guī)，但是仍然需要靈巧的、結(jié)構(gòu)化的并且穩(wěn)健的用于監(jiān)測環(huán)境的清潔 度W及用于監(jiān)測各種清潔和/或消毒過程的效果的監(jiān)測系統(tǒng)和方法。
[0004] -些現(xiàn)有的監(jiān)測系統(tǒng)在透明的載體中采用UV染料標(biāo)記系統(tǒng)。來自該UV染料的輝 光僅可使用適當(dāng)?shù)牟豢梢姽庥^察，使得在該清潔過程期間該染料能夠?qū)Νh(huán)境服務(wù)巧V巧人 員不可見。通常，EVS管理員可W在清潔之前將該標(biāo)記系統(tǒng)施用到病房、手術(shù)室等內(nèi)的多個 表面。已被標(biāo)記的表面對該EVS清潔人員是未知的。在清潔之后，該EVS管理員（例如，值 班經(jīng)理）可W回到具有不可見光的房間W檢查所標(biāo)記的表面并且確定該標(biāo)記表面是否從 感興趣的表面徹底去除。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明人已經(jīng)確定一體的環(huán)境衛(wèi)生監(jiān)測解決方案包括可見標(biāo)記系統(tǒng)的使用。本公 開的表面標(biāo)記系統(tǒng)可W是半定量的并且用于確定表面是否已經(jīng)被充分地進行物理清潔。此 類表面可包括環(huán)境表面（例如，墻、設(shè)備、家具等）或皮膚表面（例如，在監(jiān)測醫(yī)療人員洗手 時）。如此，該表面標(biāo)記系統(tǒng)可W是測量一線環(huán)境服務(wù)巧V巧人員符合各種清潔方案的工 具。視覺檢測可用于監(jiān)測給定環(huán)境的美學(xué)外觀。此外，可用的并且易用的用于確定環(huán)境的 清潔度和/或用于確定與清潔方案的一致性的一體監(jiān)測解決方案對于EVS恰當(dāng)?shù)毓芾砬鍧?醫(yī)療機構(gòu)諸如醫(yī)院是重要的。
[0006] 本公開的表面標(biāo)記系統(tǒng)可W用作環(huán)境污垢的替代品。它們可W被設(shè)計成隱蔽的。 本公開的表面標(biāo)記系統(tǒng)采用逆向反射微球而不是UV染料，并且因此不需要?？诘墓庠磥?確定清潔結(jié)果。
[0007] 本公開的一些方面提供用于確定表面的清潔度的方法。該方法可包括提供包含分 散在載體中或分配在載體上的多個逆向反射微球的表面標(biāo)記系統(tǒng)；將該表面標(biāo)記系統(tǒng)施用 到表面上的至少一個離散部位；在清潔之后，用可見光照明該表面上的至少一個離散部位； W及響應(yīng)于照明該至少一個離散部位來檢測從該表面上的至少一個離散部位發(fā)出的逆向 反射，W確定該表面的清潔效果。
[0008] 本公開的一些方面提供用于施用表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置。該施用裝置可包括容 器，該容器限定貶存器；表面標(biāo)記系統(tǒng)，該表面標(biāo)記系統(tǒng)位于該貶存器中，該表面標(biāo)記系統(tǒng) 包含分散在載體中或分配在載體上的多個逆向反射微球；W及分配器，該分配器被構(gòu)造成 用于從該貶存器分配該表面標(biāo)記系統(tǒng)。
[0009] 通過考慮【具體實施方式】和附圖，本發(fā)明的其它特征和方面將變得顯而易見。
【附圖說明】
[0010] 圖1示出具有多個環(huán)境表面的病房和可將表面標(biāo)記系統(tǒng)施用至其的多個離散部 位。
[0011] 圖2是沿圖1的線2-2截取的圖1的離散部位特寫示意性剖視圖，該離散部位已 被標(biāo)記有根據(jù)本公開的一個實施例的標(biāo)記系統(tǒng)。
[0012] 圖3是描述根據(jù)本公開的一個實施例的確定表面的清潔度的方法的流程圖。
[0013] 圖4至圖18示出根據(jù)實例的用于多種表面上的多個表面標(biāo)記系統(tǒng)的歸一化像素 頻率對像素強度。
[0014] 圖19是如在實例部分中描述的實例3的逆向反射微球的顯微照片。
[0015] 圖20是如在實例部分中描述的比較例C3的微粒的顯微照片。
[0016] 圖21是根據(jù)本公開的一個實施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0017] 圖22是根據(jù)本公開的另一個實施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0018] 圖23是根據(jù)本公開的另一個實施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0019] 圖24是根據(jù)本公開的另一個實施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
【具體實施方式】
[0020] 在詳細(xì)說明本發(fā)明的任何實施例之前，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明在其應(yīng)用時并不受限于下 文描述中提及的或下列附圖中所示的部件構(gòu)造和布置細(xì)節(jié)。本發(fā)明可W具有其它實施例， 并且能夠W各種方式實踐或?qū)嵤?。另外，本文所用的措辭和術(shù)語的目的在于描述，而不應(yīng)當(dāng) 被視作具有限制性。本文中所用的"包括"、"包含"或"具有"W及它們的變型意在涵蓋其 后所列出的物品及其等同物品W及附加物品。除非另有規(guī)定或限制，否則術(shù)語"禪接"及其 變型被廣泛地使用并涵蓋直接的禪接和間接的禪接。應(yīng)當(dāng)理解，可W采用其他實施例，并且 可W進行結(jié)構(gòu)改變或邏輯改變，而不脫離本發(fā)明范圍。此外，諸如"前"、"后"、"頂部"、"底 部"之類的術(shù)語僅用于描述元件彼此的關(guān)系，而決不用來描述裝置的具體取向，也不用來指 示或暗示裝置的必要或需要的取向，或用來規(guī)定本文所述發(fā)明在使用過程中的操作、安裝、 顯示或設(shè)置方式。
[0021] 本公開一般設(shè)及基于可見光的表面標(biāo)記系統(tǒng)、用于將此類表面標(biāo)記系統(tǒng)施用到環(huán) 境表面的施用裝置，W及用于例如通過使用此類表面標(biāo)記系統(tǒng)確定表面的清潔度和/或確 定與清潔方案的一致性。
[0022] 本公開的方法可包括提供包含逆向反射微球的此類表面標(biāo)記系統(tǒng)；將表面標(biāo)記系 統(tǒng)施用到期望表面上的離散部位，從而使得能夠進行清潔過程；在清潔之后，用可見光照明 相同的離散部位；W及響應(yīng)于所述照明來檢測從上述的離散部位發(fā)出的逆向反射的量，W 便基于由保留在該表面上的離散部位處的表面標(biāo)記系統(tǒng)所產(chǎn)生的逆向反射的量來確定清 潔過程的效果?？稍谝曈X上和/或自動地執(zhí)行檢測，例如，使用能夠發(fā)出可見光并且可捕獲 逆向反射性數(shù)據(jù)的裝置，該裝置諸如后續(xù)可使用適當(dāng)?shù)能浖M行分析的亮度、逆向反射、強 度、圖像等。
[0023] 逆向反射制品使得入射光朝向光源返回。在本公開中的逆向反射性由多個微小小 珠或微球提供，其中所述透明微小小珠或微球的折射率為光源從其入射的介質(zhì)的折射率的 兩倍。在該些條件下，該球體表面表現(xiàn)為具有逆向反射所需曲率的凹球面鏡。然而，反射率 不需要為環(huán)境介質(zhì)的反射率的兩倍來實現(xiàn)逆向反射。由于小珠具有一定量的球形偏離，因 此當(dāng)小珠的反射率是環(huán)境的反射率的至少1.5倍時，將存在自小珠的中屯、線起的半徑，其 中入射光的一部分聚焦在球體的后表面處從而產(chǎn)生逆向反射光。
[0024] 在本公開中，也可化圍過與反射劑（諸如涂覆的侶層）配合的多個微小小珠或微 球（例如，由玻璃制成的）提供逆向反射性。此類涂層可為小珠的外表面上的部分涂層。進 入小珠的暴露部分（例如，未涂覆的）中的入射光通過小珠聚焦到反射劑上。反射劑通過 小珠將入射光反射回，導(dǎo)致光通過小珠的暴露部分在與入射方向相反的方向上離開。
[0025] 本公開的微球（或"小珠"）在外形上是基本上球形的，W提供均勻且有效的逆向 反射。例如，本公開的微球通常通過暴露于球化處理工藝諸如烙融球化處理工藝而形成。 該微球（即，未涂覆的部分）還優(yōu)選為高度透明的，W最小化光吸收，使得大百分比的入射 光被逆向反射。該微球通?；緹o色，但也可W其它方式上色或著色。該微球可W由玻璃、 非玻璃態(tài)的陶瓷組合物或合成樹脂制成。一般來講，優(yōu)選玻璃微球或陶瓷微球，因為相比于 由合成樹脂制成的微球，它們趨于更硬并更耐用，并且趨于具有更合適的折射率。在W下美 國專利中公開了可用于本發(fā)明的微球?qū)嵗?，175, 224, 2, 461，011，2, 726, 161，2, 842, 446， 2, 853, 393,2, 870, 030,2, 939, 797, 2, 965, 921，2, 992, 122, 3, 468, 681，3, 946, 130， 4, 192, 576,4, 367, 919,4, 564, 556,4, 758, 469,4, 772, 511W及 4, 931，414。該些專利的公 開內(nèi)容W引用方式并入本文。
[0026] 在一些實施例中，該微球可W具有約30微米至200微米的平均直徑，在一些實施 例中，約50微米至150微米，W及在一些實施例中，約10微米至100微米。小于W上范圍 的微球趨于提供較低水平的逆向反射，并且大于該范圍的微球可W賦予該表面標(biāo)記系統(tǒng)不 期望的粗趟質(zhì)地。用于本公開的微球可W具有約1. 5至3. 0的折射率，在一些實施例中，約 1. 6至22,W及在一些實施例中，約1. 7至2. 0。
[0027] 在一些實施例中，該微球可W涂覆有鏡面反射材料W增強反射。多種材料可用于 提供鏡面反射金屬層。該些材料包括元素形式的侶、銀、銘、鑲、儀、金、錫、鑲、鶴等等。
[0028] 侶和銀是用于反射層的優(yōu)選材料，因為