空隙配置結(jié)構(gòu)體以及其制造方法、和測(cè)定裝置以及測(cè)定方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于通過(guò)對(duì)被賦予被測(cè)定物的空隙配置結(jié)構(gòu)體照射電磁波來(lái)測(cè)定被 測(cè)定物的空隙配置結(jié)構(gòu)體以及其制造方法、和使用該空隙配置結(jié)構(gòu)體的測(cè)定裝置以及測(cè)定 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 過(guò)去，已知為了測(cè)定被測(cè)定物質(zhì)的特性而照射電磁波的方法。在下述的專(zhuān)利文獻(xiàn)1 中公開(kāi)這種方法的一例。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，準(zhǔn)備配置眾多空隙部的空隙配置結(jié)構(gòu)體。對(duì)該 空隙配置結(jié)構(gòu)體從與空隙部正交的方向照射電磁波。接下來(lái)，在空隙配置結(jié)構(gòu)體配置被測(cè) 定物質(zhì)并照射電磁波。根據(jù)未配置被測(cè)定物質(zhì)的情況下的電磁波的透過(guò)率、和配置被測(cè)定 物質(zhì)的情況下的電磁波的透過(guò)率之差來(lái)測(cè)定被測(cè)定物質(zhì)的特性。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，記載了 除了上述電磁波的透過(guò)率以外，還可以使用電磁波的反射等的主旨。
[0003] 先行技術(shù)文獻(xiàn)
[0004] 專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0005] 專(zhuān)利文獻(xiàn)I :JP特開(kāi)2007-10366號(hào)公報(bào) [0006] 發(fā)明的概要
[0007] 發(fā)明要解決的課題
[0008] 在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所記載的測(cè)定方法中，通過(guò)使空隙配置結(jié)構(gòu)體中的空隙部的大小較 小、或者使空隙配置結(jié)構(gòu)體的厚度即與空隙部正交的方向的尺寸較小，能提高測(cè)定靈敏度。
[0009] 但是，若使空隙配置結(jié)構(gòu)體的厚度較薄，則強(qiáng)度就會(huì)降低。其結(jié)果，在測(cè)定被測(cè)定 物質(zhì)時(shí)，空隙配置結(jié)構(gòu)體變得易于彎曲。另外，在測(cè)定前或測(cè)定結(jié)束后洗凈空隙配置結(jié)構(gòu)體 的情況下，還有空隙配置結(jié)構(gòu)體變得易于損壞的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 本發(fā)明的目的在于，提供機(jī)械強(qiáng)度高、在進(jìn)行處置時(shí)難以發(fā)生彎曲和損壞的空隙 配置結(jié)構(gòu)體以及其制造方法、和使用該空隙配置結(jié)構(gòu)體的測(cè)定裝置以及測(cè)定方法。
[0011] 用于解決課題的手段
[0012] 本發(fā)明的空隙配置結(jié)構(gòu)體在通過(guò)電磁波的照射測(cè)定被測(cè)定物的特性時(shí)使用。本發(fā) 明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體具備空隙配置板和支承基材?？障杜渲冒寰哂械?主面、和與 第1主面對(duì)置的第2主面。從第1主面朝向第2主面貫通地設(shè)置多個(gè)空隙部。支承基材層 疊在空隙配置板的第1主面以及第2主面中的至少一方的主面。支承基材具有使至少1個(gè) 空隙部露出的開(kāi)口部或缺口部。
[0013] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的某特定的局面下，在設(shè)置所述支承基材的部 分，所述空隙配置板的所述空隙部由構(gòu)成所述支承基材或所述空隙配置板的材質(zhì)填埋。
[0014] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的其它特定的局面下，上述支承基材具有第1、 第2支承基材，第I、第2支承基材夾著至少1個(gè)所述空隙部而配置。
[0015] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的再其它特定的局面下，交叉地設(shè)置所述第1 支承基材和所述第2支承基材。
[0016] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的其它特定的局面下，分別設(shè)置多個(gè)所述第1 支承基材以及所述第2支承基材，多個(gè)第1支承基材和多個(gè)第2支承基材交叉，從而具有與 至少1個(gè)所述空隙部面對(duì)面的開(kāi)口。優(yōu)選地，多個(gè)第1支承基材和多個(gè)第2支承基材在正 交的方向上交叉，由此形成矩形的開(kāi)口。
[0017] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的另外的特定的局面下，所述第1支承基材和 所述第2支承基材在傾斜方向上交叉。
[0018] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的再其它特定的局面下，所述第1支承基材與 所述第2支承基材交叉的部分的角部是曲線狀。
[0019] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的其它特定的局面下，包圍所述第1支承基材 的周?chē)鷣?lái)設(shè)置所述第2支承基材。作為這樣的形狀，例如能舉出如下結(jié)構(gòu)：所述第1空隙配 置結(jié)構(gòu)體具有環(huán)狀的形狀，所述第2支承基材具有內(nèi)部尺寸大于所述第1支承基材的內(nèi)部 尺寸的環(huán)狀的形狀。
[0020] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的再其它特定的局面下，所述支承構(gòu)件具有中 央部和位于中央部的兩側(cè)的第1、第2端部，該第1、第2端部的厚度厚于中央部的厚度。
[0021] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的另外的特定的局面下，沿將所述支承構(gòu)件的 第1以及第2端部連結(jié)的方向、且沿該支承構(gòu)件的厚度方向的截面形狀是拱型的形狀。
[0022] 本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的制造方法是得到遵循本發(fā)明而構(gòu)成的空隙配 置結(jié)構(gòu)體的方法，具備下述的各工序。
[0023] 準(zhǔn)備具有所述多個(gè)空隙部的所述空隙配置板的工序。
[0024] 在所述空隙配置板的至少一方的主面具有使至少1個(gè)所述空隙部露出的開(kāi)口部 或切口部地形成支承基材的工序。
[0025] 在本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的制造方法的某特定的局面下，用鍍敷法形成 所述支承基材，在施鍍時(shí)，使所述支承基材的一部分進(jìn)入到被該支承基材覆蓋的至少1個(gè) 空隙部?jī)?nèi)地形成所述支承基材。
[0026] 本發(fā)明所涉及的測(cè)定裝置具備：遵循本發(fā)明而構(gòu)成的空隙配置結(jié)構(gòu)體；對(duì)所述空 隙配置結(jié)構(gòu)體照射電磁波的電磁波照射裝置；和測(cè)定透過(guò)所述空隙配置結(jié)構(gòu)體的電磁波的 特性的電磁波檢測(cè)部，所述測(cè)定裝置基于被測(cè)定物的存在所引起的電磁波的特性的變化來(lái) 檢測(cè)被測(cè)定物，所述被測(cè)定物配置在所述空隙配置結(jié)構(gòu)體的第1或第2主面上、或者與第1 或第2主面隔開(kāi)間隙而配置。
[0027] 本發(fā)明所涉及的測(cè)定方法具備：對(duì)遵循本發(fā)明而構(gòu)成的空隙配置結(jié)構(gòu)體照射電磁 波，檢測(cè)透過(guò)該空隙配置結(jié)構(gòu)體的電磁波來(lái)得到基準(zhǔn)值的工序；在所述空隙配置結(jié)構(gòu)體的 第1或第2主面上配置被測(cè)定物，或者與第1或第2主面隔開(kāi)間隙來(lái)配置被測(cè)定物，照射電 磁波，檢測(cè)透過(guò)來(lái)的電磁波的測(cè)定工序；和基于通過(guò)所述測(cè)定工序得到的電磁波與通過(guò)得 到所述基準(zhǔn)值的工序得到的電磁波的基準(zhǔn)值之差來(lái)，檢測(cè)被測(cè)定物的特性的檢測(cè)工序。
[0028] 發(fā)明的效果
[0029] 根據(jù)本發(fā)明所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體，由于在空隙配置板的第1主面以及第2主 面中至少一方的主面層疊支承基材，因此能有效果地提高空隙配置結(jié)構(gòu)體的機(jī)械強(qiáng)度。因 而，在進(jìn)行使用時(shí)，難以產(chǎn)生空隙配置結(jié)構(gòu)體的彎曲和損壞。
【附圖說(shuō)明】
[0030] 圖1是表示本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的空隙配置板的外觀 的概略立體圖。
[0031] 圖2(a)是表示本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的主要部分的放 大主視圖，圖2(b)是放大表示本實(shí)施方式的空隙配置結(jié)構(gòu)體的一部分的截面圖。
[0032] 圖3(a)是本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的主視圖，圖3(b)是 表示本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體中的第1、第2支承構(gòu)件的示意主視 圖。
[0033] 圖4表示使用本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體測(cè)定的電磁波的透 過(guò)率與頻率的關(guān)系，實(shí)線表示不存在被測(cè)定物質(zhì)的情況下的結(jié)果，虛線表示存在被測(cè)定物 質(zhì)的情況下的結(jié)果。
[0034] 圖5表示使用本發(fā)明的1個(gè)實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的情況下的電磁波 的透過(guò)率與頻率的關(guān)系，虛線表示使用比較例的沒(méi)有第1、第2支承構(gòu)件的空隙配置結(jié)構(gòu)體 的情況下的結(jié)果，實(shí)線表示支承構(gòu)件的柵格間隔成為108 μ m地設(shè)置柵格狀的第1、第2支承 構(gòu)件的情況下的結(jié)果，一點(diǎn)劃線表示支承構(gòu)件的柵格間隔成為180 ym地設(shè)置柵格狀的第 1、第2支承構(gòu)件的情況下的結(jié)果，二點(diǎn)劃線表示支承構(gòu)件的柵格間隔成為360 μ m地設(shè)置柵 格狀的第1、第2支承構(gòu)件的情況下的結(jié)果。
[0035] 圖6是用于說(shuō)明本發(fā)明的其它實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意主視圖。
[0036] 圖7(a)以及圖7(b)是用于說(shuō)明本發(fā)明的再其它實(shí)施方式所涉及的空隙配置結(jié)構(gòu) 體的圖，圖7 (a)是空隙配置結(jié)構(gòu)體的主視圖，圖7 (b)是表示第1、第2支承構(gòu)件的示意主視 圖。
[0037] 圖8(a)?圖8(c)是表示空隙部的形狀的變形例的各主視圖。
[0038] 圖9是表示空隙部的形狀的再其它示例的主視圖。
[0039] 圖10是表示支承基材的第1變形例的俯視圖。
[0040] 圖11是表示具備第2變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的主視圖。
[0041] 圖12是表示具備第3變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意主視圖。
[0042] 圖13是表示具備第4變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意主視圖。
[0043] 圖14是表示具備第5變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意主視圖。 [0044] 圖15是表示具備第6變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意主視圖。
[0045] 圖16是表示具備第7變形例所涉及的支承基材的空隙配置結(jié)構(gòu)體的示意截面圖。
[0046] 圖17是表示支承基材的一部分進(jìn)入空隙的變形例的部分切口放大截面