專利名稱：用于借助x射線檢驗(yàn)對(duì)象的材料缺陷的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于借助X射線檢驗(yàn)對(duì)象的材料缺陷的裝置和方法。
技術(shù)背景
在工業(yè)制造中在無損的原料和材料檢驗(yàn)中采用所謂的X線檢驗(yàn)方法。在此檢驗(yàn) 多種組件，這些組件例如包括電機(jī)、機(jī)器人組件、汽車部件和許多其它組件。在無損的 X線檢驗(yàn)中通常將樣本或檢驗(yàn)對(duì)象置于向外屏蔽X射線的外殼中并且在那里利用X射線 照射。然后可以借助X射線分析夾雜物或縮孔、材料缺陷、內(nèi)部的向外不可見的斷裂和裂縫等。
對(duì)對(duì)象的常規(guī)的X線拍攝提供對(duì)象的所謂的二維投影，該投影可以推斷出X射 線在穿透對(duì)象時(shí)的衰減或吸收。在二維投影圖上識(shí)別的不規(guī)則性或波動(dòng)，提供了關(guān)于對(duì) 象的損傷和由此也關(guān)于材料缺陷的信息。
單個(gè)的二維投影具有如下缺陷就X射線的方向來說不能獲得關(guān)于對(duì)象的信 息，因?yàn)橥ㄟ^投影測量的參數(shù)是對(duì)于通過對(duì)象的路徑所集成的參數(shù)。由此對(duì)于材料檢驗(yàn) 還采用斷層造影方法，這些方法還允許在第三維上的一定的分辨率。例如在DE 19 955 937 Al中描述了一種基于計(jì)算機(jī)斷層造影的用于材料檢驗(yàn)的方法。在常規(guī)的計(jì)算機(jī)斷層 造影中X射線源圍繞待檢驗(yàn)的對(duì)象沿著所謂的軌跡轉(zhuǎn)動(dòng)，其中按照有規(guī)律的間隔進(jìn)行X 射線拍攝。由此獲得從不同方向的多個(gè)投影，從這些投影可以利用數(shù)學(xué)方法構(gòu)造出對(duì)象 的三維圖像。
然而，用于材料檢驗(yàn)的計(jì)算機(jī)斷層造影具有一定的缺陷。這些缺陷中的一個(gè) 是，常規(guī)的CT設(shè)備受到大小限制。此外，在特定種類的檢驗(yàn)中，在定義的物理?xiàng)l件下 檢驗(yàn)對(duì)象，例如，在擠壓或應(yīng)力負(fù)荷的作用下。關(guān)于該檢驗(yàn)，DE 10 2007001 9 Al提 出，構(gòu)造由具有用于導(dǎo)致檢驗(yàn)的對(duì)象的負(fù)荷狀態(tài)的裝置的CT設(shè)備組成的集成的系統(tǒng)。顯 然，當(dāng)對(duì)于特定的材料檢驗(yàn)種類提供特殊制造時(shí)，計(jì)算機(jī)斷層造影設(shè)備的本來就很高的 成本進(jìn)一步上升。
因此，存在對(duì)用于材料的X檢驗(yàn)如下的方法的需求，該方法是靈活的并且在需 要時(shí)允許三維重建對(duì)象的區(qū)域。首先就常規(guī)的CT設(shè)備的高的成本來說，相應(yīng)的設(shè)備是開 銷低的，并且不會(huì)帶來檢驗(yàn)的對(duì)象在大小方面的較大限制。
US 6341153 Bl在該方向上邁了一步。該文獻(xiàn)利用了如下事實(shí)非常有限數(shù)量 的(即3個(gè))X射線投影的一次拍攝就允許一次重建，該重建可以得到就所有三維來說關(guān) 于對(duì)象的構(gòu)造的結(jié)論。同樣，也不必如常規(guī)的CT技術(shù)所作的那樣，完全圍繞檢驗(yàn)的對(duì) 象。取而代之，僅在有限的角度區(qū)域拍攝投影。這點(diǎn)允許該文獻(xiàn)提供便攜式X射線分析 設(shè)備。然而值得期望的是，更有效并且開銷更低地設(shè)計(jì)用于材料分析的X射線系統(tǒng)。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，改進(jìn)利用X射線的材料檢驗(yàn)。
本發(fā)明通過一種用于借助X射線檢驗(yàn)對(duì)象的材料缺陷的裝置和方法解決上述技 術(shù)問題。
在此，術(shù)語“材料缺陷”包含了對(duì)象在形狀和組成上的所有不規(guī)則性，特別是 還有縮孔、斷面收縮、裂縫等。
本發(fā)明申請(qǐng)的中心思想是，對(duì)于材料檢驗(yàn)使用多發(fā)射極X射線管或源。這樣的 X射線管包括多個(gè)發(fā)射極(例如在100個(gè)發(fā)射極的數(shù)量級(jí)，其中根據(jù)需要還可以設(shè)置明顯 更多，例如超過1000個(gè)發(fā)射極)，這些發(fā)射極通常借助納米管形成。本發(fā)明還基于如下 思路多發(fā)射極X射線管在用于材料檢驗(yàn)的應(yīng)用中是非常靈活的。
按照本發(fā)明，通過有針對(duì)性地控制X射線管的發(fā)射極，相對(duì)于具有常規(guī)的X射 線管的系統(tǒng)可以達(dá)到功能上的卓越。在此，考慮到通過采用多發(fā)射極X射線管而得到的 功能上的應(yīng)用可能性，適配按照本發(fā)明的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)特征。特別是可以以這種方式提供 一種用于材料檢驗(yàn)的系統(tǒng)，該系統(tǒng)利用純靜止的X射線源工作，而不會(huì)由此與常規(guī)的靜 止X射線系統(tǒng)的性質(zhì)上的限制相關(guān)聯(lián)。
按照本發(fā)明的用于檢驗(yàn)對(duì)象的材料缺陷的裝置包括多發(fā)射極X射線源或管、至 少一個(gè)探測器和一個(gè)用于控制多發(fā)射極X射線源的發(fā)射極的控制系統(tǒng)。該裝置被構(gòu)造為 用于按照至少一個(gè)有關(guān)檢驗(yàn)的對(duì)象的信息選擇性地激活或控制各個(gè)發(fā)射極或發(fā)射極的一 部分。
多發(fā)射極X射線源具有如下優(yōu)點(diǎn)關(guān)于形狀和大小幾乎不存在限制。特別是可 以相應(yīng)于所預(yù)期的應(yīng)用確定在其中設(shè)置了發(fā)射極的區(qū)域。對(duì)于材料檢驗(yàn)有意義的是，為 了盡可能好地充分利用探測器的測量面積選擇X射線管的尺寸。例如如果探測器是行探 測器，則在X射線管中可以沿著基本上相應(yīng)于探測器的行長度的長度設(shè)置發(fā)射極。
對(duì)于有關(guān)執(zhí)行的材料檢驗(yàn)的靈活性來說具有優(yōu)勢的是，可以預(yù)先給出不同的照 射方向。該功能可以通過用于調(diào)整不同的照射方向而設(shè)置的準(zhǔn)直器來實(shí)現(xiàn)。替換的實(shí)現(xiàn) 方式在于，用于不同的照射方向的發(fā)射極的排列。在此，在確定照射方向時(shí)為了盡可能 多的靈活性可以組合基于準(zhǔn)直的措施和考慮到照射方向而選擇的發(fā)射極排列。
按照本發(fā)明的裝置的一種擴(kuò)展在于，設(shè)置多個(gè)探測器(例如行探測器)，這些探 測器可以在沒有X射線管的位置改變的情況下例如通過控制不同的發(fā)射極或/和確定不同 的照射方向由X射線管照射。取代多個(gè)探測器還可以設(shè)置面探測器，其通過探測器面積 的尺寸可以提供關(guān)于檢驗(yàn)的對(duì)象的位置以及關(guān)于照射方向的變化可能性。
本發(fā)明還包括一種用于借助X射線檢驗(yàn)對(duì)象的材料缺陷的方法。
按照該方法，為控制系統(tǒng)提供至少一個(gè)有關(guān)對(duì)象的信息，并且控制系統(tǒng)按照所 述至少一個(gè)信息激活多發(fā)射極X射線源的至少一個(gè)發(fā)射極。借助多發(fā)射極X射線源的至 少一個(gè)發(fā)射極并且借助探測器，進(jìn)行用于識(shí)別材料缺陷的對(duì)象的X射線拍攝。
該至少一個(gè)信息是有關(guān)對(duì)象的直徑、形狀、材料或位置的信息。對(duì)于多發(fā)射極 X射線源的控制還可以引入多個(gè)這些信息。按照本發(fā)明內(nèi)容的實(shí)施方式，根據(jù)至少一個(gè) 信息確定在X射線管內(nèi)部至少一個(gè)激活的發(fā)射極的位置或確定激活的發(fā)射極的數(shù)量。以 這種方式可以根據(jù)檢驗(yàn)要求來調(diào)節(jié)參數(shù)，諸如焦點(diǎn)或多個(gè)焦點(diǎn)的位置、射線的直徑、射 線強(qiáng)度。同樣有意義的是，根據(jù)該至少一個(gè)信息確定至少一個(gè)激活的發(fā)射極的射線方 向。如果提供對(duì)象的形狀作為信息(例如作為CAD數(shù)據(jù))，則可以這樣選擇照射方向，使得待穿透的體積保持盡可能小，以便能夠通過探測器探測盡可能大的傳輸?shù)纳渚€劑量。
按照本發(fā)明內(nèi)容的一種實(shí)施方式，在檢驗(yàn)期間可以根據(jù)檢驗(yàn)信息改變或匹配用 于對(duì)象的檢驗(yàn)的至少一個(gè)控制信息。例如可以在材料檢驗(yàn)期間獲得關(guān)于對(duì)象的形狀或組 成的信息，并且用于優(yōu)化照射參數(shù)(例如照射方向或角度)。在一種實(shí)施方式中，該方法 可以包括在檢驗(yàn)期間學(xué)習(xí)檢驗(yàn)的對(duì)象的特征和相應(yīng)調(diào)整對(duì)檢驗(yàn)的控制。
多發(fā)射極的采用開啟了在靜止的源(即不通過輻射器遍歷軌跡)的情況下對(duì)于 對(duì)象的區(qū)域借助X射線管從多個(gè)不同方向進(jìn)行拍攝的可能性，方法是，對(duì)于所述拍攝確 定不同的發(fā)射極和/或不同的射線準(zhǔn)直。從多個(gè)拍攝中可以如在層析X射線照相組合 (Tomosynthese)中那樣產(chǎn)生對(duì)象區(qū)域的三維顯示。
通過同時(shí)控制X射線管的不同的發(fā)射極，可以同時(shí)(對(duì)于同一個(gè)對(duì)象或不同的對(duì) 象)進(jìn)行多個(gè)拍攝，從而可以更有效地進(jìn)行材料檢驗(yàn)。


以下，在實(shí)施例的范圍內(nèi)借助附圖詳細(xì)解釋本發(fā)明內(nèi)容。其中，
圖1示出了利用X射線的常規(guī)的材料檢驗(yàn)的示意圖，
圖2示出了多發(fā)射極X射線管，
圖3示出了借助多發(fā)射極X射線管的材料檢驗(yàn)的示意圖，
圖4示出了圖3的系統(tǒng)的側(cè)視圖，
圖5示出了用于多發(fā)射極X射線管的不同照射方向的準(zhǔn)直裝置，并且
圖6示出了用于多發(fā)射極X射線管的準(zhǔn)直器和發(fā)射極排列，用于在不同方向上產(chǎn) 生射線。
具體實(shí)施方式
圖1示出了對(duì)象1的待檢驗(yàn)的片段。在此例如是在車輛中消耗的金屬組件。該 組件在ζ方向上，即，在圖平面方向(例如借助未示出的傳送帶)運(yùn)動(dòng)進(jìn)入并且在此利用 測試射線照射。在圖1中示出的常規(guī)的系統(tǒng)中，使用用于對(duì)象的檢驗(yàn)的三個(gè)常規(guī)的X射 線源2至4。這些X射線源2至4產(chǎn)生X射線5，例如是扇形射線。在X射線拍攝時(shí)通 過探測器6拍攝通過待檢驗(yàn)的對(duì)象1傳輸?shù)腦射線。也就是通過其可以記錄(registrieren) 投影，所述投影可以推導(dǎo)對(duì)象1的材料特征。
如在圖1中使用的常規(guī)的X射線管主要由具有外殼的真空室組成，在其中包括 了陰極和陽極。在此陰極作為負(fù)電極工作，其輸出電子到正的陽極。通過在陽極和陰極 之間的電場，電子由陽極吸引并且被強(qiáng)烈加速。陽極典型地由金屬、例如鎢、鉬或鈀組 成。當(dāng)電子轟擊陽極時(shí)，其能量大部分轉(zhuǎn)換為熱。運(yùn)動(dòng)能量的僅一部分可以被轉(zhuǎn)換為X 光子，所述X光子由陽極以X射線形式輸出。這樣產(chǎn)生的X射線通過由具有低的原子序 數(shù)(Ortungszahl)的材料組成的對(duì)射線是透明的窗離開真空室。
具有經(jīng)典的轉(zhuǎn)動(dòng)或靜止陽極概念的常規(guī)的二維X射線控制系統(tǒng)典型地具有一個(gè) 或僅僅小數(shù)量(通常< 5)的這樣的X射線管。圖1的具有三個(gè)X射線管2-4的該系統(tǒng) 由于該限制，要找到所有的材料缺陷是有問題的。在示出的方向7上的材料缺陷(例如 裂縫或縮孔)可能不能被識(shí)別，因?yàn)閄射線不能穿透該材料厚度并且不能產(chǎn)生在對(duì)于檢驗(yàn)6來是是重要的掃描平面中的總的吸收。
本發(fā)明主要考察的是，能夠在X射線檢驗(yàn)方法中具有優(yōu)勢地采用多發(fā)射極X射 線管。這樣的X射線管通常借助由碳納米管，也稱為Carbon Nano Tubes(CNT)構(gòu)成 的電子發(fā)射極形成。例如在2005年發(fā)表于Applied Physics Letters 86，184104的文章“Stationary Scanning X-ray Source Based on Carbon Nano Tube Field Emitters” 禾口專禾1J 申請(qǐng)W0 2004/110111A2中公開了這樣的X射線管。在圖2中也示出了這樣的CNTX射線管。
圖2示意性示出了多發(fā)射極X射線管110，其具有在真空區(qū)域111中的用于發(fā) 射電子的η個(gè)CNT陰極口卜口” CNT陰極121...12η的每一個(gè)通過單獨(dú)的陰極導(dǎo)線 113^..11 供電，陰極導(dǎo)線113^..11 通過各個(gè)真空套管IH^lHn引導(dǎo)到真空區(qū)域111 中。借助陰極導(dǎo)線113^..11 可以選擇性地控制或者說開關(guān)各個(gè)發(fā)射極。此外，在真空 區(qū)域111中設(shè)置柵極(Gitter) 115和陽極116。在真空區(qū)域111外部有X射線管110嵌入 于其中的系統(tǒng)100的其它組件與柵極115電相連的柵極電源120、與陽極116電相連 的陽極電源130、和控制裝置140。典型的柵極電壓為5kV ；典型的陽極電壓為20kV到 ISOkV之間。對(duì)于在圖2中示出的多發(fā)射極X射線管，各個(gè)CNT陰極與對(duì)應(yīng)的發(fā)射極關(guān) 聯(lián)。但是在本發(fā)明的范圍中“發(fā)射極”的概念更寬，也就是，理解為單獨(dú)的可控的電子 或X射線發(fā)射功能。該功能的實(shí)現(xiàn)不一定借助專用的裝置元件來進(jìn)行。例如可以考慮， 復(fù)雜成形的裝置元件實(shí)現(xiàn)多個(gè)發(fā)射功能。
在圖3中使用例如具有大約100個(gè)發(fā)射極的多發(fā)射極X射線管8用于材料檢驗(yàn)。 在此如圖1中那樣，檢驗(yàn)的對(duì)象的運(yùn)動(dòng)方向是朝向紙面內(nèi)。原則上可以按照需要來制造 這樣的管，即，可以根據(jù)通過試驗(yàn)臺(tái)所給出的要求來確定尺寸。在本例中管8和探測器 6在大小上互相一致，從而管8可以照射整個(gè)試驗(yàn)臺(tái)或探測器6。示出了由管在點(diǎn)P處產(chǎn) 生的面形射線5。借助控制裝置可以根據(jù)檢驗(yàn)通過控制或激活相應(yīng)定位的發(fā)射極來改變?cè)?管8上焦點(diǎn)的位置。相對(duì)于按照?qǐng)D1的常規(guī)檢驗(yàn)來說的極大改進(jìn)就在于此，該改進(jìn)一方 面在于，不再需要多個(gè)X射線源，另一方面在于，關(guān)于焦點(diǎn)的位置的規(guī)定具有極大提高 的靈活性。
對(duì)參數(shù)、特別是控制的發(fā)射極或多發(fā)射極X射線管8的設(shè)置的選擇，優(yōu)選按照檢 驗(yàn)的對(duì)象1的對(duì)象特征來作出。該對(duì)象特征首先是對(duì)象的位置，從而盡可能好地采集待 檢驗(yàn)的區(qū)域。此外，在對(duì)象的公知形狀的情況下其它標(biāo)準(zhǔn)起作用，例如，在投影中待穿 透的材料的厚度。在大體積的對(duì)象的情況下有意義的是，確定這樣的投影角度，在該投 影角度情況下待穿透體積的厚度盡可能降低，以保證，對(duì)于高質(zhì)量的投影傳輸足夠的X 射線。為此目的值得期望的是，作為參數(shù)還改變X射線的方向。改變X射線方向的另 一個(gè)原因是對(duì)于一個(gè)對(duì)象區(qū)域拍攝多個(gè)(三個(gè)或更多)投影，從這些投影中在一種層析X 射線照相組合過程中可以綜合出一幅三維重建。這點(diǎn)在圖4中說明，圖4反映了圖3的 檢驗(yàn)情形(UntersuchungKenario)的側(cè)面圖。
圖中示出的對(duì)象1是關(guān)于45°旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的對(duì)象，從而在圖4的圖透視中對(duì)象具 有與圖3中的相同的形狀。在此，對(duì)象1在運(yùn)送組件的(未示出的)傳送帶上在通過箭 頭9表示的運(yùn)動(dòng)方向上被傳輸。借助控制裝置10 (例如PC、計(jì)算機(jī)控制臺(tái)，…)控制或 調(diào)整多發(fā)射極X射線管8。
圖4中分別示出了另一個(gè)射線5'和另一個(gè)探測器6'，其解釋另一個(gè)投影的拍攝。在多發(fā)射極管的情況下可以借助對(duì)不同的發(fā)射極的控制同時(shí)進(jìn)行這些投影，即，在 本例中對(duì)象1總是在兩個(gè)位置上被掃描。在相應(yīng)地調(diào)整傳輸速度和拍攝順序的情況下可 以保證，對(duì)于對(duì)象1的檢查區(qū)域呈現(xiàn)兩個(gè)投影。該過程可以擴(kuò)展為多于兩個(gè)投影(例如 三個(gè)，如果在探測器6的左側(cè)設(shè)置另一個(gè)探測器的話)。由此對(duì)于一個(gè)三維圖像綜合獲得 足夠數(shù)量的投影。
圖5示出了 X射線管7的截面圖，為了與圖4相比更好顯示原理，圓形地顯示該 截面圖。在該X射線管7中示意性示出了陽極的位置12。可以想象，具有相應(yīng)的陽極 的多個(gè)平行的發(fā)射極在紙平面向內(nèi)或從紙平面出來沿著縱向延伸的管伸展。此外示出了 兩個(gè)在不同方向上延伸的X射線扇形5和5'。這些X射線扇形借助楔形設(shè)置的準(zhǔn)直器 11和11'以合適的形式被產(chǎn)生。通過準(zhǔn)直器11和11'的楔形設(shè)置或通過開了槽的準(zhǔn)直 器，還可以同時(shí)使用多個(gè)面形射線。在圖6中示出了一種擴(kuò)展。那里示意性示出了，陽 極或發(fā)射極12和12'具有不同的取向。陽極或發(fā)射極12和12'的取向?qū)?zhǔn)待產(chǎn)生的面 形射線5和5'。合適的準(zhǔn)直器5和5'是相關(guān)聯(lián)的。通過多發(fā)射極技術(shù)可以快速地在 具有不同取向的準(zhǔn)直器的發(fā)射極之間切換。由此無需運(yùn)動(dòng)部件就可以以高的切換頻率改 變射線方向和射線準(zhǔn)直。
權(quán)利要求
1.一種用于檢驗(yàn)對(duì)象(1)的材料缺陷的裝置，包括-多發(fā)射極X射線源(8)，-至少一個(gè)探測器(6)，-用于控制所述多發(fā)射極X射線源的發(fā)射極(12，12')的控制系統(tǒng)(10)，其中，所述裝置被構(gòu)造為用于按照至少一個(gè)有關(guān)檢驗(yàn)的對(duì)象(1)的信息，選擇性地激活各 個(gè)發(fā)射極(12，12')或發(fā)射極的一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，為了盡可能好地充分利用所述探測器 (6)的測量面積，選擇X射線管(8)的尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述探測器(6)是行探測器，并 且在所述X射線管(8)中沿著基本上相應(yīng)于探測器的行長度的長度設(shè)置所述發(fā)射極(12， 12')。
4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，設(shè)置用于調(diào)整不同的照射 方向的準(zhǔn)直器(11，11')。
5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，在所述X射線管(8)內(nèi)部設(shè) 置用于在不同方向上照射的發(fā)射極(12，12')。
6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，具有可以通過所述X射線 源⑶照射的多個(gè)探測器(6，6')。
7.—種用于借助X射線檢驗(yàn)對(duì)象(1)的材料缺陷的方法，在該方法中，-為控制系統(tǒng)(10)提供有關(guān)對(duì)象(1)的至少一個(gè)信息，-所述控制系統(tǒng)(10)按照所述至少一個(gè)信息激活多發(fā)射極X射線源(8)的至少一個(gè) 發(fā)射極(12，12')，并且-借助所述多發(fā)射極X射線源(8)的至少一個(gè)發(fā)射極(12，12')并且借助探測器 (6)，進(jìn)行對(duì)象(1)的X射線拍攝，該X射線拍攝用于識(shí)別材料缺陷。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，利用納米管陰極形成所述多發(fā)射極X射 線源(8)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于，該至少一個(gè)信息是有關(guān)所述對(duì)象 (1)的直徑、形狀、材料或位置的信息。
10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 確定在X射線管(8)內(nèi)部至少一個(gè)激活的發(fā)射極的位置(P)。
11.根據(jù)權(quán)利要求7至10中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 確定激活的發(fā)射極(12，12')的數(shù)量。
12.根據(jù)權(quán)利要求7至11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 確定至少一個(gè)激活的發(fā)射極(12，12')的射線方向。
13.根據(jù)權(quán)利要求7至12中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 極(12，12')的選擇確定射線方向。
14.根據(jù)權(quán)利要求7至13中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 域，借助所述X射線管(8)從不同方向上進(jìn)行多個(gè)拍攝，方法是， 的發(fā)射極(12，12')和/或不同的射線準(zhǔn)直。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，從所述多個(gè)拍攝中產(chǎn)生對(duì)象區(qū)域的三 根據(jù)所述至少一個(gè)信息根據(jù)所述至少一個(gè)信息根據(jù)所述至少一個(gè)信息通過所述至少一個(gè)發(fā)射對(duì)于所述對(duì)象(1)的區(qū) 對(duì)于所述拍攝確定不同維顯示。
16.根據(jù)權(quán)利要求7至15中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，同時(shí)進(jìn)行多個(gè)拍攝。
17.根據(jù)權(quán)利要求7至16中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， -分析對(duì)對(duì)象(1)的拍攝，并且-根據(jù)所述分析的結(jié)果匹配所述至少一個(gè)信息。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于檢驗(yàn)對(duì)象(1)的材料缺陷的裝置和方法。在此使用多發(fā)射極X射線源(8)、至少一個(gè)探測器(6)和用于控制所述多發(fā)射極X射線源的發(fā)射極(12，12′)的控制系統(tǒng)(10)。按照至少一個(gè)有關(guān)檢驗(yàn)的對(duì)象(1)的信息選擇性地激活或控制各個(gè)發(fā)射極(12，12′)或發(fā)射極的一部分。本發(fā)明允許靈活和成本低的材料檢驗(yàn)。
文檔編號(hào)G01N23/04GK102023169SQ20101027523
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月9日
發(fā)明者于爾根·斯蒂芬, 詹斯·富爾斯特, 馬庫斯·科沃?？? 馬賽厄斯·戈?duì)栠_(dá)默 申請(qǐng)人:西門子公司