專利名稱：濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法特別涉及一種用于濕式清潔工藝中，感測(cè)流量的裝置及其方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片時(shí)，是利用清潔手臂控制清潔刷毛來進(jìn)行清潔晶片的動(dòng)作，并利用流量感測(cè)器(flow-meter)控制清潔水的流量，但半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)進(jìn)行清潔晶片的過程中，并未設(shè)計(jì)任何警告的系統(tǒng)，當(dāng)清潔水的流量過少或是缺水時(shí)，半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片的動(dòng)作還是持續(xù)進(jìn)行，造成晶片表面的干刷，使晶片整片報(bào)廢而提高制造成本；且如果線上品管未在清潔完成后，發(fā)現(xiàn)晶片表面的顆?；蛉毕菀殉^安全范圍，便將晶片送入后續(xù)工藝步驟，則更是整批報(bào)廢，不但耗費(fèi)時(shí)間人力成本，且浪費(fèi)工藝所需的材料。
綜觀以上所述，現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片時(shí)，至少存在以下缺點(diǎn)一、現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片時(shí)，并未設(shè)計(jì)任何警告的系統(tǒng)來監(jiān)測(cè)清潔水的流量，造成線上自動(dòng)化生產(chǎn)品管的嚴(yán)重的缺陷。
二、現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片的方式，必須在清潔晶片完成之后，加上一晶片檢測(cè)的動(dòng)作，以確定晶片表面的顆粒或缺陷在安全范圍內(nèi)，進(jìn)而增加生產(chǎn)所需的步驟，降低產(chǎn)能。
三、現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片的方式，容易造成晶片的耗損，進(jìn)而增加制造成本，影響公司的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力及占有率。
四、現(xiàn)有的半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)清潔晶片的方式，容易忽略晶片表面的顆?；蛉毕菀殉^安全范圍，在后續(xù)工藝步驟完成后，才發(fā)現(xiàn)良率降低或是整批報(bào)廢，不但耗費(fèi)時(shí)間人力成本，且浪費(fèi)材料成本，進(jìn)而增加制造材料的成本，降低市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的缺失，本發(fā)明的目的在于提供一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法，可有效監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)進(jìn)行清潔晶片時(shí)的狀態(tài)，當(dāng)半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)的清潔水的流量異常時(shí)便會(huì)發(fā)出警告信號(hào)，以確保半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)的清潔水流量正常，并維持線上自動(dòng)化生產(chǎn)流暢。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法，使半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)在清潔晶片完成之后，無須增加晶片檢測(cè)的動(dòng)作，即可確保晶片表面的清潔度，以達(dá)增加產(chǎn)能的目的。
本發(fā)明的再一目的在于提供一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法，以確保晶片清潔時(shí)的良率，降低晶片的耗損量，進(jìn)而降低制造成本，增加公司的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力及占有率。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法，可確保晶片進(jìn)行后續(xù)工藝前的表面清潔狀態(tài)，以提高后段工藝的良率，避免不良品的產(chǎn)生，以降低時(shí)間人力成本以及材料成本，提高市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備的一較佳實(shí)施例中，主要是應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂及至少一流體提供單元的一濕式清潔機(jī)臺(tái)中，且當(dāng)清潔刷手臂進(jìn)行清潔物件(晶片)時(shí)，流體提供單元也同時(shí)提供一流體于物件(晶片)，而監(jiān)測(cè)設(shè)備至少包含有一手臂位置感測(cè)器連接于該清潔刷手臂，且當(dāng)清潔刷手臂進(jìn)行清潔該物件時(shí)，手臂位置感測(cè)器同時(shí)被啟動(dòng)，以及至少一流量感測(cè)單元連接于流體提供單元，當(dāng)手臂位置感測(cè)器被啟動(dòng)時(shí)，流量感測(cè)單元同時(shí)被啟動(dòng)，以監(jiān)測(cè)流體提供單元，其中，流量感測(cè)單元至少包含一發(fā)射端、一接收端及一浮動(dòng)元件，其中接收端是相對(duì)應(yīng)發(fā)射端設(shè)置，且可接收由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，而浮動(dòng)元件是設(shè)在發(fā)射端與接收端之間，且浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)流體的流量變化而改變位置，當(dāng)流體的流量不足時(shí)，浮動(dòng)元件會(huì)阻隔由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，使接收端接收不到由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)。
通常手臂位置感測(cè)器及流量感測(cè)單元，可以采用紅外線感測(cè)、激光感測(cè)或其它常用的感測(cè)方法，來進(jìn)行感測(cè)的動(dòng)作。
本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法的一較佳實(shí)施例中，應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂及至少一流體提供單元的濕式清潔機(jī)臺(tái)中，而本發(fā)明的監(jiān)控方法至少包含下列步驟提供一流量感測(cè)單元于清潔機(jī)臺(tái)中，并連結(jié)于流體提供單元，其中流量感測(cè)單元至少包含一發(fā)射端、一接收端及一浮動(dòng)元件，其中接收端是相對(duì)應(yīng)發(fā)射端設(shè)置，且可接收由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，而浮動(dòng)元件是設(shè)在發(fā)射端與接收端之間，且浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)流體的流量變化而改變位置；進(jìn)行該濕式清潔工藝，利用清潔刷手臂清潔一物件(晶片)，并且同時(shí)流體提供單元也提供一流體于物件；于進(jìn)行該清潔工藝時(shí)，同時(shí)啟動(dòng)流量感測(cè)單元以進(jìn)行該流體的流量監(jiān)控；其中當(dāng)流體的流量不足時(shí)，流量感測(cè)單元的接收端無法接收由發(fā)射端發(fā)射的信號(hào)，流量感測(cè)單元?jiǎng)t發(fā)出一警告信息。
其中，當(dāng)流量感測(cè)單元的接收端無法接收由發(fā)射端發(fā)射的信號(hào)時(shí)，更包括停止清潔機(jī)臺(tái)的動(dòng)作。


圖1是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備較佳實(shí)施例示意圖。
圖2A是為本發(fā)明的監(jiān)測(cè)設(shè)備的流量感測(cè)單元檢測(cè)流體流量正常的較佳圖2B是為本發(fā)明的監(jiān)測(cè)設(shè)備的流量感測(cè)單元檢測(cè)流體流量異常的較佳圖3是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備較佳實(shí)施例電路示意圖。
圖4是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法較佳實(shí)施流程示意圖。
附圖符號(hào)說明100濕式清潔設(shè)備 101清潔刷手臂102晶片 103a、103b流體提供單元104檢測(cè)器 105手臂位置感測(cè)器106a、106b流量感測(cè)單元105a、202發(fā)射端 105b、203接收端200浮動(dòng)元件 201信號(hào)400提供流量感測(cè)單元于清潔機(jī)臺(tái)中401進(jìn)行濕式清潔工藝402檢測(cè)濕式清潔工藝的流體流量是否不足403流量感測(cè)單元發(fā)出一警告信號(hào)，并停止清潔機(jī)臺(tái)的動(dòng)作404清潔機(jī)臺(tái)繼續(xù)濕式清潔工藝
具體實(shí)施例方式
為了能對(duì)本發(fā)明的特征、目的及功能有更進(jìn)一步的認(rèn)知與了解，茲配合附圖細(xì)說明如后。
如圖1所示，其是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備較佳實(shí)施例示意圖，濕式清潔設(shè)備100，是于一清潔工藝中提供流體(圖中未示)于一待清潔物件(通常此處所指的物件是為晶片102)的表面，而本發(fā)明的監(jiān)測(cè)設(shè)備主要是應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂101及流體提供單元103a、103b的濕式清潔設(shè)備100中，且當(dāng)清潔刷手臂101進(jìn)行清潔晶片102時(shí)，流體提供單元103a、103b也同時(shí)提供流體于晶片102上，而監(jiān)測(cè)設(shè)備至少包含有一手臂位置感測(cè)器105連接于清潔刷手臂101，且當(dāng)清潔刷手臂101進(jìn)行清潔晶片102時(shí)，手臂位置感測(cè)器105同時(shí)被啟動(dòng)，當(dāng)手臂位置感測(cè)器105被啟動(dòng)時(shí)，分別連接于流體提供單元103a、103b的流量感測(cè)單元106a、106b亦同時(shí)被啟動(dòng)，進(jìn)行監(jiān)測(cè)流體提供單元103a、103b所提供的流體流量是否正常，當(dāng)流量感測(cè)單元106a或106b任何一個(gè)檢測(cè)出由流體提供單元103a或103b噴出的流體流量異常時(shí)，流量感測(cè)單元106a或106b便會(huì)發(fā)出信號(hào)通知檢測(cè)器104，使?jié)袷角鍧嵲O(shè)備100停止作動(dòng)。
通常手臂位置感測(cè)器105是由發(fā)射端105a及接收端105b所組成，而手臂位置感測(cè)器105一般都是采用紅外線感測(cè)、激光感測(cè)或其它常用的感測(cè)方法，來進(jìn)行感測(cè)清潔刷手臂101是否進(jìn)行清潔的動(dòng)作。
圖2A是為本發(fā)明的監(jiān)測(cè)設(shè)備的流量感測(cè)單元檢測(cè)流體流量正常的較佳實(shí)施例示意圖，圖2B是為本發(fā)明的監(jiān)測(cè)設(shè)備的流量感測(cè)單元檢測(cè)流體流量異常的較佳實(shí)施例示意圖。如圖2A所示，流量感測(cè)單元106a至少包含一發(fā)射端202、一接收端203及一浮動(dòng)元件200，其中接收端203是相對(duì)應(yīng)發(fā)射端202設(shè)置，且可接收由發(fā)射端202發(fā)射出的信號(hào)201，而浮動(dòng)元件200是設(shè)在發(fā)射端202與接收端203之間，且浮動(dòng)元件200可相對(duì)應(yīng)流體的流量變化而改變位置，故當(dāng)流體流量正常時(shí)，浮動(dòng)元件200并不會(huì)阻隔由發(fā)射端202發(fā)射出的信號(hào)201。如圖2B所示，當(dāng)流體流量異常時(shí)，浮動(dòng)元件200便會(huì)阻隔由發(fā)射端202發(fā)射出的信號(hào)201，使接收端203接收不到由發(fā)射端202發(fā)射出的信號(hào)201，此時(shí)流量感測(cè)單元106a便會(huì)發(fā)出警告信號(hào)，使?jié)袷角鍧嵲O(shè)備停止作動(dòng)。至于流量感測(cè)單元106b的作動(dòng)方式，亦與流量感測(cè)單元106a的作動(dòng)方式相類似，在此便不再多加贅述，當(dāng)然，流量感測(cè)單元106a、106b一般亦是采用紅外線感測(cè)、激光感測(cè)或其它常用的感測(cè)方法，來進(jìn)行感測(cè)的動(dòng)作。
如圖3所示，其是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備較佳實(shí)施例電路示意圖，當(dāng)清潔刷手臂下降至晶片進(jìn)行清潔時(shí)，會(huì)驅(qū)動(dòng)手臂位置感測(cè)器(X0)，進(jìn)而驅(qū)動(dòng)流體提供單元提供流體(MC1)，此時(shí)流量感測(cè)單元(X1)與流量感測(cè)單元(X2)進(jìn)行及時(shí)監(jiān)控流體流量的動(dòng)作，當(dāng)流量感測(cè)單元(X1)或流量感測(cè)單元(X2)任何一個(gè)檢測(cè)到流體流量異常時(shí)，便會(huì)發(fā)出信號(hào)驅(qū)動(dòng)檢測(cè)器(MC2)，當(dāng)檢測(cè)器(MC2)一經(jīng)驅(qū)動(dòng)，便會(huì)發(fā)出連動(dòng)警報(bào)(Cover interlockalarm)，此時(shí)機(jī)臺(tái)會(huì)馬上停止一切動(dòng)作，等待線上工程師進(jìn)行處理。
如圖4所示，其是為本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法較佳實(shí)施流程示意圖，其是應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂及至少一流體提供單元的一濕式清潔機(jī)臺(tái)中，而本發(fā)明的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法至少包含提供流量感測(cè)單元于清潔機(jī)臺(tái)中400，并將流量感測(cè)單元連結(jié)于流體提供單元，而流量感測(cè)單元如前述至少包含一發(fā)射端、一接收端及一浮動(dòng)元件，其中接收端是相對(duì)應(yīng)發(fā)射端設(shè)置，且可接收由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，而浮動(dòng)元件是設(shè)在發(fā)射端與接收端之間，且浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)流體的流量變化而改變位置。
進(jìn)行濕式清潔工藝401，此時(shí)清潔刷手臂開始清潔晶片表面，且流體提供單元也同時(shí)提供一流體至晶片表面，使?jié)袷角鍧嵐に囬_始進(jìn)行。
檢測(cè)濕式清潔工藝的流體流量是否不足402，在進(jìn)行濕式清潔工藝時(shí)，同時(shí)啟動(dòng)流量感測(cè)單元，以進(jìn)行流體的流量監(jiān)控，而其詳細(xì)的作動(dòng)方式以于上述較佳實(shí)施例中揭露，在此便不再多作贅述。
當(dāng)流體的流量不足時(shí)，流量感測(cè)單元的接收端無法接收由該發(fā)射端發(fā)射的信號(hào)，流量感測(cè)單元發(fā)出一警告信息，并停止清潔機(jī)臺(tái)的動(dòng)作403，若流體的流量沒有不足，測(cè)清潔機(jī)臺(tái)繼續(xù)濕式清潔工藝404。
綜上所述，本發(fā)明的一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備及其監(jiān)控方法，可有效監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)的清潔水流量，當(dāng)清潔水流量異常時(shí)便會(huì)發(fā)出警告信號(hào)，并馬上停止半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)的作動(dòng)，使半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)在清潔晶片完成之后，無須增加晶片檢測(cè)的動(dòng)作，即可確保晶片表面的清潔度，以確保晶片清潔時(shí)的良率，降低晶片的耗損量，進(jìn)而降低制造成本，增加公司的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力及占有率；惟以上所述者，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，當(dāng)不能以之限制本發(fā)明的范圍，容易聯(lián)想得到，諸如使用不同的感測(cè)方式、改變流量感測(cè)單元的數(shù)量等等，熟悉此領(lǐng)域技藝者于領(lǐng)悟本發(fā)明的精神后，皆可想到變化實(shí)施之，即大凡依本發(fā)明權(quán)利要求所做的均等變化及修飾，仍將不失本發(fā)明的要義所在，亦不脫離本發(fā)明的精神和范圍，故都應(yīng)視為本發(fā)明的進(jìn)一步實(shí)施狀況。
本發(fā)明于現(xiàn)有技術(shù)領(lǐng)域上無相關(guān)的技術(shù)揭露，已具新穎性；本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容可確實(shí)解決該領(lǐng)域的問題，且方法原理屬非根據(jù)現(xiàn)有技藝而易于完成者，其功效性業(yè)已經(jīng)詳述，實(shí)具進(jìn)步性，誠(chéng)已符合專利法中所規(guī)定的發(fā)明專利要件，謹(jǐn)請(qǐng)貴審查委員惠予審視，并賜準(zhǔn)專利為禱。
權(quán)利要求
1.一種濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，是應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂及至少一流體提供單元的一濕式清潔機(jī)臺(tái)中，且當(dāng)該清潔刷手臂進(jìn)行清潔一物件時(shí)，該流體提供單元也同時(shí)提供一流體于該物件，而該監(jiān)測(cè)設(shè)備至少包含一手臂位置感測(cè)器連接于該清潔刷手臂，且當(dāng)該清潔刷手臂進(jìn)行清潔該物件時(shí)，該手臂位置感測(cè)器同時(shí)被啟動(dòng)；至少一流量感測(cè)單元連接于該流體提供單元，當(dāng)該手臂位置感測(cè)器被啟動(dòng)時(shí)，該流量感測(cè)單元同時(shí)被啟動(dòng)，以監(jiān)測(cè)該流體提供單元，其中，該流量感測(cè)單元至少包含一發(fā)射端；一接收端，其是相對(duì)應(yīng)該發(fā)射端設(shè)置，且可接收由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)；以及一浮動(dòng)元件，其是設(shè)在該發(fā)射端與該接收端之間，且該浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)該流體的流量變化而改變位置，當(dāng)該流體的流量不足時(shí)，該浮動(dòng)元件會(huì)阻隔由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，使該接收端接收不到由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)。
2.如權(quán)利要求1所述的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，其中，該手臂位置感測(cè)器是用紅外線感測(cè)。
3.如權(quán)利要求1所述的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，其中，該手臂位置感測(cè)器是用激光感測(cè)。
4.如權(quán)利要求1所述的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，其中，該流量感測(cè)單元是用紅外線感測(cè)。
5.如權(quán)利要求1所述的濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，其中，該流量感測(cè)單元是用激光感測(cè)。
6.一種濕式清潔工藝的監(jiān)控方法，應(yīng)用于具有至少一清潔刷手臂及至少一流體提供單元的一濕式清潔機(jī)臺(tái)中，而該監(jiān)控方法至少包含提供一流量感測(cè)單元于該清潔機(jī)臺(tái)中，并連結(jié)于該流體提供單元，其中該流量感測(cè)單元至少包含一發(fā)射端；一接收端，其是相對(duì)應(yīng)該發(fā)射端設(shè)置，且可接收由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)；以及一浮動(dòng)元件，其是設(shè)在該發(fā)射端與該接收端之間，且該浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)該流體的流量變化而改變位置；進(jìn)行該濕式清潔工藝，利用該清潔刷手臂清潔一物件，并且同時(shí)該流體提供單元也提供一流體于該物件；在進(jìn)行該清潔工藝時(shí)，同時(shí)啟動(dòng)該流量感測(cè)單元以進(jìn)行該流體的流量監(jiān)控；其中，當(dāng)該流體的流量不足時(shí)，該流量感測(cè)單元的接收端無法接收由該發(fā)射端發(fā)射的信號(hào)，該流量感測(cè)單元?jiǎng)t發(fā)出一警告信息。
7.如權(quán)利要求6所述的流量感測(cè)器監(jiān)控方法，其中，當(dāng)該接收端無法接收由該發(fā)射端發(fā)射的信號(hào)時(shí)，更包括停止該清潔機(jī)臺(tái)的動(dòng)作。
8.如權(quán)利要求6所述的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法，其中該流量感測(cè)單元是用紅外線感測(cè)。
9.如權(quán)利要求6所述的濕式清潔工藝的監(jiān)控方法，其中，該流量感測(cè)單元是用激光感測(cè)。
10.一種濕式清潔設(shè)備，是在一清潔工藝中提供一流體在一待清潔物件的表面，該濕式清潔設(shè)備至少包含一流體提供單元，用于提供該流體；以及一流量感測(cè)單元，連結(jié)于該流體提供單元，其中，當(dāng)該流體提供單元提供該流體至該待清潔物件的表面時(shí)，該流量感測(cè)單元亦同時(shí)檢測(cè)該流體提供情況，而該流量感測(cè)單元至少包含一發(fā)射端；一接收端，其是相對(duì)應(yīng)該發(fā)射端設(shè)置，且可接收由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)；以及一浮動(dòng)元件，其是設(shè)在該發(fā)射端與該接收端之間，且該浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)該流體的流量變化而改變位置，當(dāng)該流體的流量不足時(shí)，該浮動(dòng)元件會(huì)阻隔由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，使該接收端接收不到由該發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)。
11.如權(quán)利要求10所述的濕式清潔裝置，其中，該流量感測(cè)單元是用紅外線感測(cè)。
12.如權(quán)利要求10所述的濕式清潔裝置，其中，該流量感測(cè)單元是用激光感測(cè)。
全文摘要
一濕式清潔工藝的監(jiān)測(cè)設(shè)備，用于具有至少一清潔刷手臂及一流體提供單元的一濕式清潔機(jī)臺(tái)，當(dāng)該手臂清潔晶片時(shí)，流體提供單元提供一流體于晶片，監(jiān)測(cè)設(shè)備至少包含手臂位置感測(cè)器連接于清潔刷手臂，當(dāng)清潔刷手臂清潔該物件時(shí)，手臂位置感測(cè)器被啟動(dòng)，及至少一流量感測(cè)單元連接于流體提供單元，當(dāng)該感測(cè)器被啟動(dòng)時(shí)，流量感測(cè)單元被啟動(dòng)，以監(jiān)測(cè)流體提供單元，其中，流量感測(cè)單元至少包含發(fā)射端、接收端及浮動(dòng)元件，接收端對(duì)應(yīng)發(fā)射端設(shè)置，且可接收由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，浮動(dòng)元件設(shè)在發(fā)射端與接收端之間，且浮動(dòng)元件可相對(duì)應(yīng)流體的流量變化改變位置，當(dāng)流量不足時(shí)，浮動(dòng)元件阻隔由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)，使接收端接收不到由發(fā)射端發(fā)射出的信號(hào)。
文檔編號(hào)G01F23/284GK1770420SQ20041009009
公開日2006年5月10日 申請(qǐng)日期2004年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月1日
發(fā)明者吳牧融, 陳冠名, 任建國(guó), 古金山, 陳其瓚 申請(qǐng)人:力晶半導(dǎo)體股份有限公司