一種高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座的制作方法
【專利摘要】一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座。本實(shí)用新型是由一個(gè)底座和兩個(gè)支撐塊組成，坐落在底座上的兩個(gè)支撐塊之間的間距可以調(diào)整，間距調(diào)小時(shí)支撐高度變大。反之，間距調(diào)大時(shí)，支撐高度變小。這樣通過調(diào)整在底座上的兩個(gè)支撐塊之間的間距，實(shí)現(xiàn)調(diào)整對(duì)分離膜外殼支撐高度的作用。
【專利說明】
一種高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及支撐在分離膜外殼與支架之間的鞍座，是一種可調(diào)整支撐高度的鞍座?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]目前，支撐分離膜外殼的鞍座是底座與支撐塊為整體結(jié)構(gòu)，對(duì)分離膜外殼的支撐高度是固定的。由于分離膜外殼與支架之間的距離是存在一定離散性的，在實(shí)際工程安裝中常常需要對(duì)整體鞍座切削或墊高，以符合分離膜外殼與支架之間實(shí)際距離的要求。這種情形下施工進(jìn)程緩慢，并且產(chǎn)生額外費(fèi)用，解決這些問題已成為急需?！緦?shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，設(shè)計(jì)一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座。本實(shí)用新型是由一個(gè)底座和兩個(gè)支撐塊組成，支撐塊可以在底座上移動(dòng)，一個(gè)底座和兩個(gè)支撐塊組成之間接觸面上設(shè)置有螺牙，在兩個(gè)支撐塊上分別設(shè)置有鎖件，靠螺牙和鎖件固定并聯(lián)接。坐落在底座上的兩個(gè)支撐塊之間的間距可以調(diào)整，間距調(diào)小時(shí)支撐高度變大。反之，間距調(diào)大時(shí)，支撐高度變小。這樣通過調(diào)整在底座上的兩個(gè)支撐塊之間的間距，實(shí)現(xiàn)調(diào)整對(duì)分離膜外殼支撐高度的作用。【附圖說明】
[0004]圖1為本實(shí)用新型最佳實(shí)施例正視圖；
[0005]圖2為本實(shí)用新型最佳實(shí)施例俯視圖；
[0006]圖3為本實(shí)用新型最佳實(shí)施例底座立體視圖；
[0007]圖4為本實(shí)用新型最佳實(shí)施例支撐塊立體視圖；
[0008]圖5為本實(shí)用新型最佳實(shí)施例組合立體視圖；
[0009]圖6為本實(shí)用新型第二實(shí)施例組合立體視圖；
[0010]圖7為本實(shí)用新型第二實(shí)施例正視圖；
[0011]圖8為本實(shí)用新型第二實(shí)施例俯視圖。【具體實(shí)施方式】
[0012]本實(shí)用新型的一個(gè)最佳實(shí)施例，如圖1所示，一種高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座，它有一個(gè)帶有齒紋接觸面的底座1、兩個(gè)帶有齒紋接觸面及扣件的支撐塊2組成，通過移動(dòng)兩個(gè)支撐塊2在底座1上的位置，來調(diào)節(jié)兩個(gè)支撐塊2之間的距離，從而實(shí)現(xiàn)調(diào)整分離膜外殼支撐高度的作用。本最佳實(shí)施例由底座1兩端的螺牙分別與兩個(gè)支撐塊2的螺牙相配合，限定支撐塊2在底座1上的位置，并用兩個(gè)支撐塊2上的鎖件實(shí)現(xiàn)固定。
[0013]本實(shí)用新型的第二實(shí)施例，如圖6所示，一種高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座，它有一個(gè)C型材的底座1、在底座1的兩側(cè)分別安裝有支撐塊2、螺栓3兩側(cè)的螺紋方向相反，并通過螺紋將兩個(gè)支撐塊連接在底座1上。旋轉(zhuǎn)螺栓3,支撐塊2在底座1上相向或反向運(yùn)動(dòng)，可以調(diào)整兩個(gè)支撐塊間距，從而實(shí)現(xiàn)調(diào)整對(duì)分離膜外殼支撐高度的調(diào)節(jié)作用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高度可調(diào)的分離膜外殼鞍座，其特征在于:支撐塊可以在底座上移動(dòng)，一個(gè)底座 和兩個(gè)支撐塊組成之間接觸面上設(shè)置有螺牙，在兩個(gè)支撐塊上分別設(shè)置有鎖件，靠螺牙和 鎖件固定并聯(lián)接。
【文檔編號(hào)】B01D61/00GK205586836SQ201520779564
【公開日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2015年10月10日
【發(fā)明人】安靜波, 王希震, 劉曉偉, 劉冠杰
【申請(qǐng)人】哈爾濱樂普實(shí)業(yè)發(fā)展中心