專利名稱：混合燒烤系統(tǒng)—電燒烤元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及一種烹飪裝置，并且更具體地涉及一種安裝在包括通風(fēng)口的反射盤內(nèi)的加熱元件。
背景技術(shù)：
諸如烤箱和爐灶的烹飪裝置通常包括在其烹飪腔內(nèi)的上部加熱元件和下部加熱元件。上部加熱元件通常用于燒烤操作；而下部加熱元件通常用于烘焙操作。通常在燃?xì)饪鞠鋬?nèi)，上部和下部加熱元件都是燃?xì)饧訜嵩?。同樣地，在電烤箱?nèi)，上部和下部加熱元件通常都是電加熱元件。

發(fā)明內(nèi)容
以下提出了簡化的發(fā)明內(nèi)容以提供對一些示例方面的基本理解。本發(fā)明內(nèi)容并不是廣泛的概述。此外，本發(fā)明內(nèi)容并不意在確定關(guān)鍵元件。本發(fā)明內(nèi)容的唯一目的是提出一些簡化形式的概念作為之后提出的更詳細(xì)的說明的前序。根據(jù)一個(gè)方面，具有烹飪腔的烹飪裝置包括安裝在烹飪腔內(nèi)的反射盤、位于反射盤上的通風(fēng)口和安裝在反射盤的周緣(perimeter)之內(nèi)的加熱元件，其中反射盤被構(gòu)造用以反射由加熱元件所發(fā)出的熱。通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自烹飪腔的濕氣通過。加熱元件相對于通風(fēng)口而安裝成使得通風(fēng)口以大于加熱元件厚度的距離而被水平地間隔開。根據(jù)另一方面，具有烹飪腔的烹飪裝置包括安裝在烹飪腔內(nèi)的反射盤、安裝在反射盤內(nèi)的加熱元件和位于反射盤的中心部分上的通風(fēng)口，其中反射盤被構(gòu)造用以反射由加熱元件所發(fā)出的熱。加熱元件位于反射盤的外部部分中。通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自烹飪腔的濕氣通過。根據(jù)又一方面，具有烹飪腔的烹飪裝置包括安裝在烹飪腔內(nèi)的反射盤、安裝在反射盤內(nèi)的一水平位置處的加熱元件和通風(fēng)口，其中反射盤被構(gòu)造用以反射由加熱元件所發(fā)出的熱，通風(fēng)口位于反射盤的與加熱元件在不同水平位置的部分上。通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自烹飪腔的濕氣通過。


對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，通過參照附圖來閱讀下述描述，前述的及其它的方面將變得明顯，其中圖1是示例烹飪裝置的透視圖。圖2是圖1的示例烹飪裝置的側(cè)視圖，并示出了加熱元件、反射盤和平底鍋(pan)。
圖3是圖2的加熱元件、反射盤和平底鍋的透視圖。圖4是圖3的反射盤和加熱元件的底面視圖。圖5是圖4的反射盤的底面視圖。圖6是圖2的反射盤的截面圖。
具體實(shí)施例方式在附圖中描述并示出了合并本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)方面的示例實(shí)施例。這些示出的實(shí)施例并不意在對本發(fā)明進(jìn)行限制。例如，本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)方面可以用在其它實(shí)施例甚至其它類型的設(shè)備中。此外，本文中所使用的一些術(shù)語僅為了便于說明，其并不作為對本發(fā)明的限制。再者，在附圖中，相同的附圖標(biāo)號用于指代相同的元件。在圖1中示出了示例烹飪裝置10。在本示例中，烹飪裝置10是包括燒烤系統(tǒng)和烘焙系統(tǒng)的烤箱或爐灶，而在其它示例中，可以使用其它的烹飪裝置，諸如內(nèi)置烤箱、烘烤箱、 加溫屜、保溫箱和迷你烤箱等。如將在以下更詳細(xì)描述的，烹飪裝置10可以包括多個(gè)加熱元件，諸如設(shè)置在烹飪裝置10的頂面上的一個(gè)或多個(gè)爐灶面加熱元件12、設(shè)置在烹飪腔18 內(nèi)的上部加熱元件20和下部加熱元件22。烹飪裝置10包括可以設(shè)置在控制面板14上的一個(gè)或多個(gè)控制元件。控制面板14可以是觸摸面板或其它對觸摸敏感的表面。可替選地或另外地，控制面板14可以包括諸如可以被用戶操作或致動(dòng)的按鈕、旋鈕或其它裝置的機(jī)械控件。控制面板14可以使用任意理想的取向和構(gòu)造。例如，控制面板14可以放置在烹飪裝置10的任意理想的表面上或與其接近。在本示例中，控制面板14垂直地定位于裝置箱16的上后部分處。在圖1中部分示出的上部加熱元件20定位于烹飪腔18的上部。上部加熱元件20 可以是電管式燒烤元件，也可以使用其它合適的電加熱元件。上部加熱元件20上方置有反射盤觀。如將在本文中更詳細(xì)討論的，反射盤觀工作以將從上部加熱元件20輻射出的熱向下引導(dǎo)到烹飪腔18內(nèi)。下部加熱元件22定位于接近烹飪腔18的底部。在一個(gè)示例中， 下部加熱元件22被諸如瓷板的可移動(dòng)面板或板23所覆蓋?？梢苿?dòng)板或面板23用于遮蔽 (hide)下部加熱元件22，并提供了易于清潔的平坦的表面?？山?jīng)由門25進(jìn)入烹飪腔18，門 25在關(guān)閉位置和打開位置之間是可移動(dòng)的。如果需要，上部加熱元件20和反射盤觀可以凹入烹飪腔18的頂壁內(nèi)。此種做法將會(huì)在烹飪腔18內(nèi)提供增加的烹飪空間。由于燃?xì)饧訜嵩枰T如大容量燃?xì)夤艿馈踩y、點(diǎn)火系統(tǒng)、隔板(baffle)等的附加部件，故通過使用電加熱元件作為上部加熱元件 20也能夠提供增加的烹飪空間。圖2示出了圖1中示例烹飪裝置的側(cè)視圖。在圖2中，諸如金屬絲框支架的支架 24設(shè)置在烹飪腔18的一部分中?？梢栽O(shè)置平底鍋沈或其它容器或烹飪表面，這些是由支架M所支撐的。設(shè)置平底鍋26用來在上部加熱元件20下面的位置處被加熱，并且該平底鍋沈在烹飪腔18的側(cè)壁間延伸。在需要被加熱時(shí)，諸如肉或其它食物的各種物品可以被放置在平底鍋26上。反射盤觀便于烹飪腔18中的熱以更均勻的方式分布。因此，可以更均勻地烹飪食物。反射盤觀總體上包括反射材料。例如，反射盤觀可以由鍍鋅鋼制成并且設(shè)置有鋁涂層或鋁上光劑。在本示例中，該材料可以反射從加熱元件所發(fā)出的大約80%的熱。應(yīng)
5當(dāng)注意到反射盤觀可以由足以將來自上部加熱元件20的熱反射到烹飪腔18內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)其它合適的材料制成和/或由這些材料所涂敷。反射盤觀的構(gòu)造包括基本上被側(cè)壁 32環(huán)繞的基部。如圖2所示，上部加熱元件20可以被凹入反射盤觀的側(cè)壁32內(nèi)，使得從組裝件的側(cè)視圖看不到上部加熱元件20。然而，應(yīng)當(dāng)注意到由側(cè)壁32所提供的反射盤觀的深度僅是一個(gè)示例，也可以使用其它深度。此外，如果需要，上部加熱元件20可以僅部分地凹入側(cè)壁32內(nèi)。如圖所示，側(cè)壁32可以是有角度的，以沿著反射盤觀的周緣以各種角度將從上部加熱元件20發(fā)出的熱向下朝向烹飪腔18反射。反射盤觀的構(gòu)造通過提供更均勻的熱分布而促進(jìn)了燒烤能力的改善。由于改善了的熱分布，對食物材料表面的燒烤特性和對食物材料內(nèi)部的烹飪特性都得到了改善。反射盤觀的基部至少包括一個(gè)在其中的通風(fēng)口 30。通風(fēng)口 30被構(gòu)造為允許來自烹飪腔的過量濕氣和/或蒸汽36通過反射盤觀。這樣的濕氣36總體上在烹飪食物物品期間在烹飪腔18內(nèi)產(chǎn)生。通風(fēng)口 30將濕氣36引導(dǎo)到位于反射盤觀上方的通氣道34或通氣管道。通過將通風(fēng)口 30定位到鄰近通氣道34的位置，產(chǎn)生了真空效應(yīng)以便于將來自烹飪腔18的濕氣經(jīng)過通風(fēng)口 30運(yùn)送并移除到通氣道34內(nèi)。如圖3所示，通風(fēng)口 30可以是具有傾斜頂壁的、凸起的、成角度的結(jié)構(gòu)。在其它示例中，通風(fēng)口可以由反射盤觀的孔口形成，而不會(huì)對反射盤觀的形狀有任何明顯的改變。通風(fēng)口 30也可以包括各種形狀和尺寸， 并不限于所示的一個(gè)示例?，F(xiàn)在參照圖4，更詳細(xì)地示出根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的反射盤觀和上部加熱元件20的組裝件。上部加熱元件20被安裝在反射盤觀的周緣內(nèi)。通風(fēng)口 30相對于上部加熱元件 20定位成使得通風(fēng)口 30以大于上部加熱元件20的直徑(或同樣的尺寸)42的距離38而與上部加熱元件20水平地間隔開。因此通風(fēng)口基本上與上部加熱元件20間隔開。換句話說，熱和濕氣能夠自由地從烹飪腔通過通風(fēng)口 30而不受上部加熱元件20的干擾；因此有利于更有效地將熱和濕氣排去。在本示例中，通風(fēng)口 30位于反射盤觀的中心部分44，而上部加熱元件與通風(fēng)口 30間隔開并基本上環(huán)繞通風(fēng)口 30。如圖5中所更清晰地示出，在圖4中也可見的，反射盤28的基部包括中心部分44 和外部46。中心部分44相對于外部46凹陷并且該中心部分44通過過渡部分或在本示例中的凸起部50而與外部46接合。如將在以下更詳細(xì)描述的，在中心部分44和外部46之間的過渡部分50的形狀對應(yīng)于上部加熱元件20的形狀。過渡部分50被構(gòu)造成使得其將熱轉(zhuǎn)向并引導(dǎo)到位于反射盤觀的中心部分44之下的烹飪腔觀的中心區(qū)域。在圖4中示出了上部加熱元件20的示例形狀。上部加熱元件20被構(gòu)造為將熱基本上均勻地?cái)U(kuò)散或引導(dǎo)到烹飪腔18的所有部分。上部加熱元件20包括多個(gè)線性段和多個(gè)彎曲段，該彎曲段可以彎曲90°彎曲或180°。在最前部分，上部加熱元件20包括前部橫向線性段60。前部橫向線性段的每個(gè)端部過渡到第一對180°彎曲段62。第一對180°彎曲段62過渡到第二對180°彎曲段64，第二對180°彎曲段64又繼續(xù)接到第三對180°彎曲段66。第二 180°彎曲段64可以通過短的中間橫向線性段68連接到第一 180°彎曲段 62和第三180°彎曲段66。第三對180°彎曲段66通過一對最后部的橫向線性段70連接到一對90°彎曲段74。90°彎曲段通向一對前后線性段72，該線性段72向后通向電部件以操作上部加熱元件20。也可以使用各種具有不同彎曲的其它形狀和其它部分。根據(jù)加熱特性的能量需求，上部加熱元件20可以使用1500瓦特并設(shè)置有120V能量源。相比于通常需要3000瓦特或更大功率以及220V能量源的現(xiàn)有電烹飪裝置，這減少了所需的電能的量。所需能量的減少部分地歸因于最小化了濕氣36與上部加熱元件20的相互作用。如果在通風(fēng)口 30和上部加熱元件20之間沒有所公開的空隙，濕氣36在通過通風(fēng)口 30之前將被迫接觸到上部加熱元件20。然后，上部加熱元件20將需要更多能量以克服其所遭遇的濕氣36。通過將通風(fēng)口 30設(shè)置在單獨(dú)的并基本上與上部加熱元件20間隔開的位置，大量的濕氣避免了與上部加熱元件20相互作用。圖5更詳細(xì)的示出了反射盤觀。這里可以完整顯示示例凸起部50。過渡部分50 從反射盤觀的中心部分44到其外部46向上成角度。這種成角度的構(gòu)造有利于將熱引導(dǎo)并轉(zhuǎn)向烹飪腔18內(nèi)的不同位置。應(yīng)當(dāng)注意到過渡部分50的特定角度與熱如何被轉(zhuǎn)向相聯(lián)系。因此，過渡部分可以被構(gòu)造為以任意期望的方式將熱轉(zhuǎn)向。如圖6所示，示出了圖3的反射盤觀和通風(fēng)口 30的截面圖。通風(fēng)口包括在通風(fēng)口 30的入口位置82和通風(fēng)口 30的出口位置84之間的斜面或斜坡。該斜面允許被傳送過通風(fēng)口 30的濕氣36以在與反射盤28和上部加熱元件20的垂直位置不同的垂直位置處離開反射盤。通風(fēng)口 30的位置和通風(fēng)口 30的斜面被構(gòu)造成使蒸汽或濕氣36與上部加熱元件20的相互作用最小化，因此能夠最小化蒸汽可能對加熱性能的消極影響。真空效應(yīng)是由相對于通氣道34的通風(fēng)口 30的位置以及在烹飪腔18和大氣之間的空氣溫度的改變所共同產(chǎn)生的。如在圖3中所清晰示出的，通風(fēng)口的側(cè)壁31相對于反射盤觀的深度有助于提供額外的保護(hù)，并且在濕氣36離開反射盤觀時(shí)，將過量濕氣36與由上部加熱元件20所產(chǎn)生的熱分開。與在反射盤觀上提供多個(gè)通風(fēng)口相反，在反射盤觀的一個(gè)位置使用單獨(dú)的通風(fēng)口可以為盤和加熱元件的組裝件提供最強(qiáng)的真空效應(yīng)。反射盤28的側(cè)壁32相對于反射盤28的水平面86成角度。例如，從反射盤28的基部測量的側(cè)壁角度88大于90°。該選擇的角度使得反射的熱量從上部加熱元件20的位置引導(dǎo)到烹飪腔的更大區(qū)域。因此，熱基本上均勻分布到整個(gè)烹飪腔18。圖6也示出了過渡部分50的角度。過渡部分50用于將熱引導(dǎo)到烹飪腔18的中心區(qū)域。這里所描述的上部加熱元件20和反射盤觀的組裝件可以用在燃?xì)饪鞠浠螂娍鞠渲小．?dāng)用在燃?xì)饪鞠渲袝r(shí)，使用電燒烤元件提供了許多優(yōu)點(diǎn)。例如，在常規(guī)的預(yù)熱操作中， 用戶通常選擇烘焙模式，然后等待烹飪裝置預(yù)熱到所選溫度。通過使用混合裝置，用戶可以激活上部電加熱元件20和下部氣體加熱元件22，因此減少了預(yù)熱時(shí)間。此外，如用戶期望使焙盤(casserole)的頂部呈褐色，用戶可以在接近于烘焙操作或烘焙周期的結(jié)尾時(shí)，激活上部加熱元件20，以將食物物品的頂部烘焙成褐色。示例烹飪裝置10也允許用戶選擇上部加熱元件20的溫度等級。因此，通過選擇高溫度設(shè)置或通過選擇低溫度設(shè)置，用戶也可以燒烤無上皮的三明治或烤牛排?？傮w上，通過需要更少電能、更少氣體，提供更大的烹飪腔，以及提供改進(jìn)的燒烤能力，上部加熱元件20和反射盤觀獲得了比當(dāng)前設(shè)計(jì)更好的燒烤特性。本發(fā)明通過參照以上所描述的示例而得到描述。其他人員通過對本說明書的閱讀和理解，將做出本發(fā)明的改進(jìn)和變體。合并了本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)方面的示例意在包括所有在所附權(quán)利要求范圍內(nèi)的這樣的改進(jìn)和變體。
權(quán)利要求
1.一種具有烹飪腔的烹飪裝置，包括 反射盤，所述反射盤安裝在所述烹飪腔內(nèi)；通風(fēng)口，所述通風(fēng)口位于所述反射盤上，其中，所述通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自所述烹飪腔的濕氣通過；加熱元件，所述加熱元件安裝在所述反射盤的周緣內(nèi)，其中，所述反射盤被構(gòu)造為反射由所述加熱元件所發(fā)出的熱；以及其中，所述加熱元件相對于所述通風(fēng)口安裝成使得所述通風(fēng)口以大于所述加熱元件厚度的距離而水平地間隔開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，進(jìn)一步包括 凸起部，所述凸起部位于環(huán)繞所述加熱元件的外周緣； 其中，所述凸起部將熱引導(dǎo)到所述烹飪腔的中心區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，進(jìn)一步包括 通氣道，所述通氣道位于所述反射盤上方；其中，通過將所述反射盤的所述通風(fēng)口設(shè)置為與所述通氣道對齊而產(chǎn)生用以傳送并移除來自所述烹飪腔的濕氣的真空效應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，其中，所述通風(fēng)口進(jìn)一步包括 斜面，所述斜面在所述通風(fēng)口的入口位置和所述通風(fēng)口的出口位置之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，其中，所述反射盤包括側(cè)壁，其中，所述加熱元件位于所述反射盤的至少一個(gè)側(cè)壁內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的烹飪裝置，其中，所述側(cè)壁具有相對于所述反射盤的水平軸線大于90°的角度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，其中，所述加熱元件是電的并且被構(gòu)造為要被激活以預(yù)熱在所述烹飪腔中使用的燃?xì)饧訜嵩?br> 8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，其中，所述加熱元件是電的并且被構(gòu)造為要在烘焙周期的結(jié)尾時(shí)被激活以使食物物品的頂部呈褐色。
9.一種具有烹飪腔的烹飪裝置，包括 反射盤，所述反射盤安裝在所述烹飪腔內(nèi)；加熱元件，所述加熱元件安裝在所述反射盤內(nèi)，其中，所述反射盤被構(gòu)造為反射由所述加熱元件所發(fā)出的熱；通風(fēng)口，所述通風(fēng)口位于所述反射盤的中心部分上，其中，所述加熱元件位于所述反射盤的外部部分中，并且其中，所述通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自所述烹飪腔的濕氣通過。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，進(jìn)一步包括 凸起部，所述凸起部位于環(huán)繞所述加熱元件的外周緣； 其中，所述凸起部將熱引導(dǎo)到所述烹飪腔的中心區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，進(jìn)一步包括 通氣道，所述通氣道位于所述反射盤上方；其中，通過將所述反射盤的所述通風(fēng)口與所述通氣道直接鄰近設(shè)置而產(chǎn)生用以傳送并移除來自所述烹飪腔的濕氣的真空效應(yīng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，其中，所述反射盤具有厚度，并且所述通風(fēng)口進(jìn)一步包括斜面，所述斜面在所述通風(fēng)口的入口位置和所述通風(fēng)口的出口位置之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，其中，所述反射盤包括側(cè)壁，其中，所述加熱元件位于所述反射盤的至少一個(gè)側(cè)壁內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的烹飪裝置，其中，所述側(cè)壁具有相對于所述反射盤的水平軸線大于90°的角度。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，其中，所述加熱元件是電的并且被構(gòu)造為要被激活以預(yù)熱在所述烹飪腔中使用的燃?xì)饧訜嵩?br> 16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪裝置，其中，所述加熱元件是電的并且被構(gòu)造為要在烘焙周期的結(jié)尾時(shí)被激活以使食物物品的頂部呈褐色。
17.一種具有烹飪腔的烹飪裝置，包括反射盤，所述反射盤安裝在所述烹飪腔內(nèi)；加熱元件，所述加熱元件安裝在所述反射盤內(nèi)的一水平位置，其中，所述反射盤被構(gòu)造為反射由所述加熱元件所發(fā)出的熱；通風(fēng)口，所述通風(fēng)口位于所述反射盤的不同于所述加熱元件的水平位置的部分上，其中，所述通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自所述烹飪腔的濕氣通過。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的烹飪裝置，進(jìn)一步包括凸起部，所述凸起部位于環(huán)繞所述加熱元件的外周緣；其中，所述凸起部將熱引導(dǎo)到所述烹飪腔的中心區(qū)域。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的烹飪裝置，其中，所述反射盤具有厚度，并且所述通風(fēng)口進(jìn)一步包括斜面，所述斜面在所述通風(fēng)口的入口位置和所述通風(fēng)口的出口位置之間。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的烹飪裝置，其中，所述通風(fēng)口進(jìn)一步包括斜面，所述斜面在所述通風(fēng)口的入口位置和所述通風(fēng)口的出口位置之間。
全文摘要
一種具有烹飪腔的烹飪裝置包括安裝在烹飪腔內(nèi)的反射盤、位于反射盤上的通風(fēng)口和安裝在反射盤內(nèi)的加熱元件，其中該反射盤被構(gòu)造用以反射由加熱元件所發(fā)出的熱。通風(fēng)口被構(gòu)造為至少允許來自烹飪腔的濕氣通過。加熱元件相對于通風(fēng)口而安裝成使得通風(fēng)口以大于加熱元件厚度的距離而被水平地間隔開。在另一示例中，通風(fēng)口位于反射盤的中心部分上并且加熱元件位于反射盤的外部部分。在又一示例中，加熱元件安裝在反射盤內(nèi)的一水平位置，并且通風(fēng)口位于與加熱元件不同的水平位置處。
文檔編號F24C15/20GK102203510SQ200980132153
公開日2011年9月28日 申請日期2009年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月20日
發(fā)明者喬爾·布徹, 德里克·休斯, 杰里米·愛德華·多諾霍, 瑪格麗特·馬里·斯特林 申請人:伊萊克斯家用產(chǎn)品公司