專利名稱：用于熱加工處理的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于各種熱加工處理的設(shè)備，所述設(shè)備包括用于將要處理的工件 或介質(zhì)加熱到第一處理溫度的第一加工部分(或第一加工段)，所述工件或介質(zhì)在其中適 應(yīng)均衡溫度(或平衡溫度)的溫度適應(yīng)部分(或溫度適應(yīng)段)，以及用于將所述工件或介質(zhì) (的溫度)轉(zhuǎn)變(或轉(zhuǎn)換)到第二處理溫度的第二加工部分(或第二加工段)。
背景技術(shù)：
包括溫度適應(yīng)部分的爐子屬于技術(shù)發(fā)展歷史中最為古老的生產(chǎn)設(shè)備，且?guī)讉€(gè)世紀(jì) 以來它們不斷地經(jīng)歷著進(jìn)一步的發(fā)展。在許多“傳統(tǒng)”的生產(chǎn)方法中，例如在陶瓷和玻璃生 產(chǎn)以及金屬冶煉領(lǐng)域中，重要的是，在高溫下生產(chǎn)或加工處理的產(chǎn)品要在低溫下維持一段 預(yù)定的時(shí)間，以便如果需要的話在所述產(chǎn)品被再加熱之前或者進(jìn)一步快速冷卻下來之前向 所述產(chǎn)品提供某種(或某些)特性，特別是提供某種特定的金屬材料結(jié)構(gòu)。在過去，進(jìn)一步開發(fā)常常集中在增加產(chǎn)量以及使各種參數(shù)適應(yīng)要生產(chǎn)的產(chǎn)品的特 定的質(zhì)量要求。然而，特別是近幾十年來有關(guān)提高能源效率的反映導(dǎo)致了這類設(shè)備和方法 的各種開發(fā)。不僅為了確保恒定的溫度分布曲線，而且為了提高能量效率，通過一般類型(或 類屬型)的爐子的后加工(或處理)部分的壁來避免大量的熱損失，所述壁通常設(shè)置的 很厚。在適當(dāng)?shù)那闆r下，用來構(gòu)建這一端或壁的材料具有高的抗熱能力或高的熱管理能力 (或熱容量)。因此，這些構(gòu)造涉及大量“熱質(zhì)量(thermal mass)”。由于大量的材料投入 以及構(gòu)建的支出，這些構(gòu)造的花費(fèi)巨大，且由于這些構(gòu)造的大量的熱質(zhì)量，它們僅能夠利用 高耗散常數(shù)(或高的時(shí)間常數(shù))來進(jìn)行控制。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種上述類型的設(shè)備的改進(jìn)，改進(jìn)的設(shè)備的生產(chǎn)是節(jié) 省成本的，且所述設(shè)備易于控制，而本發(fā)明的目的還提供一種與之相應(yīng)的方法。本發(fā)明的目的是利用按照權(quán)利要求1的特征部分所述的設(shè)備和按照權(quán)利要求11 所述的方法來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的有用的其它進(jìn)一步的發(fā)展限定在各從屬權(quán)利要求之中。對(duì)于積極地消弱所述溫度適應(yīng)部分與上游和下游的部分之間的影響方面，本發(fā)明 包括的基本思想，就是摒棄了先前的主要實(shí)施的熱絕緣的原理，而利用從壁到用于適應(yīng)所 述工件的溫度的溫度適應(yīng)部分的內(nèi)部的反射。本發(fā)明還包括這樣的思想，就是很大程度地 用已經(jīng)優(yōu)化了反射性能的材料來覆蓋(下面也被稱作加內(nèi)襯于)所述部分或這部分。在此，“工件”指的是任何可選的固體的加工(或處理)物體，就是，不僅指單個(gè)的 部件，而且也指例如類似環(huán)狀的線，或帶狀材料，或材料復(fù)合物。“介質(zhì)”下面應(yīng)當(dāng)特別指的 是糊狀或液體加工物質(zhì)，其中，也適用于氣態(tài)加工物質(zhì)，或者自由流動(dòng)的加工材料。與常規(guī)的爐子構(gòu)造相比，本發(fā)明的解決方案能夠獲得顯著的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)方面的優(yōu) 點(diǎn)首先，要說得是，放棄大量的熱質(zhì)量的技術(shù)是直接的結(jié)果，其中，采用本發(fā)明的技術(shù)方案，即在溫度控制腔室內(nèi)的溫度的快速控制性，使得這種放棄成為可能。然而，本領(lǐng)域技術(shù) 人員將會(huì)理解的是，這個(gè)優(yōu)點(diǎn)也會(huì)涉及到一個(gè)障礙，就是小的熱質(zhì)量導(dǎo)致在變化的工件或 環(huán)境溫度下低溫穩(wěn)定性，所以如果對(duì)這種穩(wěn)定性要求高的的話，快速行動(dòng)的控制不僅是可 能的，而且是必須的。然而，這種控制任務(wù)當(dāng)今在給定的現(xiàn)代加工控制系統(tǒng)中用快速行動(dòng)的 傳感器和致動(dòng)器卻不是問題，且在財(cái)政方面也是容易在實(shí)現(xiàn)的。本發(fā)明的后加工部分的“熱光”構(gòu)建(或構(gòu)造)和與之相關(guān)聯(lián)的溫度控制腔室還 伴隨著機(jī)械光構(gòu)建，且因此伴隨著相對(duì)較少的材料投入和構(gòu)建花費(fèi)。所述機(jī)械光構(gòu)造具有 這樣的額外的優(yōu)點(diǎn)，即快速的組裝和拆卸，這使得生產(chǎn)者能夠按照相關(guān)客戶所希望的速度 迅速地做出反應(yīng)。傳統(tǒng)爐子的重構(gòu)建可能需耗費(fèi)幾周或甚至幾個(gè)月的時(shí)間，而按照本發(fā)明 的設(shè)備的后加工部分的構(gòu)建基本上在幾天之內(nèi)完成都是切實(shí)可行的(當(dāng)然，這取決于設(shè)備 的大小)?；旧?，本發(fā)明的設(shè)備的溫度適應(yīng)部分能夠不采用主動(dòng)加熱器，或者根據(jù)本發(fā)明， 主動(dòng)加熱器僅設(shè)置在溫度控制腔室的較小的區(qū)域內(nèi)。至少與包括其中可能采用通過工件引 入熱量的后加工部分和溫度適應(yīng)部分的很少有效的設(shè)備相比較，其構(gòu)建和運(yùn)行費(fèi)用因而更 顯著地減少。如上所述，本發(fā)明的爐子對(duì)由工件引起的引入后加工熱的溫度變化或環(huán)境反應(yīng)敏 感。因此，在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，小功率的控制加熱器設(shè)置在溫度控制腔室中以實(shí)施溫度修 正，所述控制加熱器的最大功率比用于獲得均衡溫度或均衡溫度范圍所需要的熱功率要小 至少一個(gè)量級(jí)。由于所述控制加熱器必須僅相對(duì)于所期望的溫度波動(dòng)來確定尺寸，所以它的實(shí)現(xiàn) 也是節(jié)省成本的。因考慮到相關(guān)使用者的要求，鑒于其特定的功能，快速反應(yīng)和精細(xì)的可調(diào) 整性是重要的。針對(duì)上述情況，優(yōu)選地提出這樣的設(shè)置，上述的主動(dòng)加熱器或控制加熱器指 定為大體上非惰性溫度控制。根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)思的一個(gè)有用的發(fā)展，進(jìn)一步提出這樣的設(shè)置，第一和/或第二 加工部分包括爐子腔室，所述爐子腔室配備有主動(dòng)加熱器，且所述第一和/或第二加工部 分在所述內(nèi)壁的主要部分上還襯有反射片(或板)材料。這特別可以通過反射材料實(shí)現(xiàn)爐 子腔室的至少絕大部分的熱絕緣，可選地通過沿爐子腔室掠過的冷卻氣體流來支持(或提 供)所述熱絕緣。這意味著在溫度適應(yīng)部分的構(gòu)造下的“絕緣原理”也相應(yīng)地應(yīng)用于主要 加工部分和相應(yīng)的爐子腔室中的至少一個(gè)。為了完整性，要指出的是，如果需要的話，可選擇提供的空氣或氣體流動(dòng)冷卻也可 以用于所述溫度適應(yīng)部分。如果其外表面由于具體的安全規(guī)定必須維持在具體限制的溫度 之下的話，這是特定的情況，這種情況不能通過所述壁的優(yōu)化的反射性能單獨(dú)來實(shí)現(xiàn)。具體 地，可以設(shè)置氣體循環(huán)冷卻系統(tǒng)，所述氣體冷卻系統(tǒng)沿著內(nèi)襯材料的背側(cè)產(chǎn)生并通過冷卻 氣體流且在氣體被加熱之后在工件表面之上產(chǎn)生并通過。根據(jù)本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施例，提出這樣的設(shè)置，所述第一和/或第二加工部分 的加熱器和/或所述溫度適應(yīng)部分的可選設(shè)置的加熱器包括OTR或頂輻射加熱器。各爐 子配備有?。?？或頂發(fā)射器已經(jīng)為人們所熟知一段時(shí)間了且工業(yè)中得到使用。特別是，這樣 的系統(tǒng)也是本發(fā)明人開發(fā)和提供的，并且是本發(fā)明人早期提交的所追求保護(hù)的專利申請(qǐng)的 主題。因此對(duì)于這種類似的加熱部件以及其集成到現(xiàn)代熱加工處理設(shè)備的更詳細(xì)的描述在此不再贅述。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，用于覆蓋或加襯于所述溫度控制腔室的上述的材料 是高度反射的板狀或片狀復(fù)合材料，所述復(fù)合材料包括在板狀或片狀金屬基底上的具有 97. 5%或更多的反射度的涂層，以及在它的頂部上的透明的氧化或玻璃質(zhì)的防腐蝕涂層。 特別地，所述高度反射的板狀復(fù)合材料的基底可以由鋁或鋁合金，或者也可以由不銹鋼板 或陶瓷制成。所述涂層可以基本上是銀或者99. 99%或更高純度的高純鋁制成。為了防止 所述溫度控制腔室的外皮(或外層)或內(nèi)襯變得過熱，導(dǎo)致可能的變形，具體地如果本發(fā)明 的技術(shù)方案被應(yīng)用在顯著的高溫加工處理中，在一個(gè)實(shí)施例中，提出這樣的設(shè)置，所述高度 反射的板狀復(fù)合材料的背側(cè)是黑色的，具體地使其成為黑色的，從而改進(jìn)熱輻射。在本發(fā)明的實(shí)施例中，另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是，如果溫度適應(yīng)部分，且可選地也是爐子腔 室，在基本上所有的側(cè)面上可見地被封閉，如果對(duì)于所述爐子的加載和卸載過程這是可能 的話。這也可能使在輸入和/或輸出側(cè)面使用鎖定裝置是明智的。為此，加載和卸載開口 的尺寸最好保持在最小。就此而言，如果溫度控制腔室包括用于加工工件從中經(jīng)過或加工介質(zhì)從中流過的 入口區(qū)域和出口區(qū)域可能是更為明智的，光吸收(或光密度)裝置指定為針對(duì)所述入口和 出口區(qū)域防止輻射泄漏，具體地，所述光吸收裝置包括用反射材料至少在端面方向(或橫 向)覆蓋的入口和/或出口傾斜部或彎曲部(或斜面或曲面)。更具體地，所述入口和/或 出口傾斜部可以指定為用于調(diào)節(jié)它們的傾斜角度的調(diào)整裝置，且所述入口和/或出口傾斜 部可以包括幾個(gè)部分，它們帶有不同的，可選地單獨(dú)調(diào)整的傾斜角度。更進(jìn)一步，所提及的是實(shí)現(xiàn)輸入的熱量的反射效果的反射材料基本上可以單獨(dú)形 成所述溫度控制腔室的壁，而沒有附加的保持熱量和/或熱絕緣的外壁。這可以例如通過 使反射材料成形來實(shí)現(xiàn)，具體地，使高度反射的復(fù)合材料根據(jù)所述溫度控制腔室的預(yù)定的 外部形狀以片或板的形式成形并且將其懸掛或索牽在支承結(jié)構(gòu)上來實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，然而提出這樣的設(shè)置，具體的安裝在支承結(jié)構(gòu)上的 反射材料設(shè)置在所述溫度控制腔室的外壁和/或爐子腔室的外壁的前方預(yù)定距離處。如果 原有的爐子構(gòu)造要通過應(yīng)用本發(fā)明而進(jìn)行改裝，或者如果至少它們的構(gòu)建原理和原有的部 件要被使用，這個(gè)實(shí)施例就特別有用。而且，如果由于相應(yīng)的應(yīng)用的特定性質(zhì)，希望有“結(jié) 實(shí)”的外壁，這個(gè)實(shí)施例是有用的。在第一特別顯著的應(yīng)用中，提出這樣的設(shè)置，將所述設(shè)備的構(gòu)形做成使?jié)L軋的鋼 制產(chǎn)品，特別是卷繞件的涂層熱回火和/或干燥以及固化。在另一個(gè)特別顯著的應(yīng)用中，所 述設(shè)備的特征在于，其配置成使塑料產(chǎn)品或陶瓷產(chǎn)品的涂層熱回火和/或干燥以及固化。本發(fā)明所述設(shè)備的應(yīng)用方法的另一個(gè)重要的實(shí)施例是使基底上的漆料的涂層干 燥和固化。最后，不需要提出與上述的實(shí)例完全一樣那些部分，本發(fā)明方法可實(shí)現(xiàn)在所述工 件或介質(zhì)中實(shí)施熱誘導(dǎo)或熱支持的化學(xué)反應(yīng)，特別是在流動(dòng)經(jīng)過所述爐子的流體中。要在所述溫度適應(yīng)部分中適應(yīng)的所述工件，或類似環(huán)形材料的一點(diǎn)或者介質(zhì)的一 點(diǎn)的駐留時(shí)間當(dāng)然取決于第一處理溫度和要獲得的所述均衡溫度之間的關(guān)系、傳輸速度、 熱輻射能力和其它因素。在本發(fā)明的有用的實(shí)施例中，所述駐留時(shí)間在0.5和10秒之間， 特別是1和5秒之間。


借助于附圖從下面給出的簡(jiǎn)要說明中可以理解本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)，其中圖1是本發(fā)明設(shè)備的第一實(shí)施例的示意性縱向剖視圖；和圖2是本發(fā)明設(shè)備的第二實(shí)施例的示意性縱向剖視圖。
具體實(shí)施例方式圖1表示一種用于熱加工處理的設(shè)備1，所述設(shè)備位于架子3上且包括外壁5，所 述設(shè)備通過在所述外壁和內(nèi)壁9之間流動(dòng)的氣體流7在上部區(qū)域被冷卻。在所述設(shè)備的底 部fe上方一定距離處布置有傳送通道11，在所述傳送通道中，要加工處理的散裝材料13被 沿著箭頭A的方向傳輸。設(shè)備1包括有第一處理溫度PTl的第一加工部分(或段)1A、所述散裝材料13在 其中適應(yīng)均衡溫度TX并在預(yù)定時(shí)間內(nèi)維持所述均衡溫度的溫度適應(yīng)部分(或段)1B,以及 在其中達(dá)到并維持第二處理溫度PT2的第二加工部分(或段)1C。在所述第一加工部分中， NIR(近紅外)輻射器(或放射器)15設(shè)置在上部?jī)?nèi)壁9的下方且取向朝向所述散裝材料 13，每個(gè)所述輻射器15帶有相關(guān)聯(lián)的反射器15a。平面反射器17在所述溫度適應(yīng)部分中設(shè) 置在所述內(nèi)壁(頂部)9的下方，且用于中波和長(zhǎng)波紅外線的傳統(tǒng)的頂(紅外)發(fā)射器(或 放射器)19設(shè)置在第二加工部分IC中。在溫度適應(yīng)部分IB中的反射器17具有多層的結(jié)構(gòu)，為圖示的目的，所述多層的結(jié) 構(gòu)并沒有真實(shí)地表示出比例關(guān)系，且所述多層的結(jié)構(gòu)包括陶瓷支承板17a、高反射的Ag涂 層17b和玻璃質(zhì)的防腐蝕涂層17c。除了所述反射器17之外，在所述溫度適應(yīng)部分設(shè)置有 用于均衡溫度TX的精細(xì)控制或調(diào)節(jié)的兩個(gè)小功率OTR輻射器21。圖2表示一種用于單個(gè)工件的多級(jí)熱加工處理的設(shè)備101。這個(gè)設(shè)備在它的結(jié)構(gòu) 的部件方面類似于圖1所示的設(shè)備1，從而所使用的附圖標(biāo)記基于圖1且相對(duì)應(yīng)的部件將不 再進(jìn)行解釋。類似于圖1的設(shè)備1，設(shè)備101包括有第一處理溫度PTf的第一加工部分(或 段)101A、有占主導(dǎo)或被適應(yīng)的均衡溫度TX*的溫度適應(yīng)部分(或段)101B，以及有第二處 理溫度PT2*的第二加工部分(或段)101C。工件113在傳送帶111上沿著箭頭Α*的方向 被傳送經(jīng)過所述設(shè)備，并承受在其間發(fā)生有溫度均衡的兩級(jí)加工處理。帶有相關(guān)聯(lián)的反射 器11 的OTR輻射器115也設(shè)置在第一加工部分IOlA中，用于所述工件的表面快速加熱 且用于實(shí)施熱加工處理，而第二加工部分IOlC由帶有噴霧嘴118的冷卻區(qū)形成，所述噴霧 嘴將冷卻液體噴灑(或噴射)到工件113上，為的是將它們冷卻到所述第二處理溫度。在設(shè)備101中，所述各部分101A、101B、101C中的每一個(gè)部分具有單獨(dú)的殼體(或 外殼)105A、105B、105C。僅僅所述設(shè)備的底部10 是連續(xù)的。在中間殼體105B的內(nèi)側(cè)設(shè) 置有反射涂層117，所述反射涂層極大地反射來自第一加工部分IOlA的工件113的熱輻射， 因而使得工件能夠在沒有任何附加加熱的情況下適應(yīng)均衡溫度TX*(如與圖1所示的設(shè)備1 相比也沒有控制加熱器)。本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)并不限于上面強(qiáng)調(diào)的各方面和實(shí)施例，但置于本領(lǐng)域技術(shù)人員力所 能及的框架范圍內(nèi)的許多變型也是可能的。特別是，不同權(quán)利要求的特征的所有技術(shù)上可 能的組合都將被視為在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于熱加工處理的設(shè)備，所述設(shè)備包括用于將要處理的工件或介質(zhì)加熱到第一 處理溫度的第一加工部分，所述工件或介質(zhì)在其中適應(yīng)均衡溫度的溫度適應(yīng)部分，以及用 于將所述工件或介質(zhì)的溫度轉(zhuǎn)變到第二處理溫度的第二加工部分，其中，所述溫度適應(yīng)部分至少大部分襯有反射所述工件或介質(zhì)的熱輻射的材料，方式是所述 工件或介質(zhì)通過它的熱輻射的回射被轉(zhuǎn)變到并維持在所述均衡溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述溫度適應(yīng)部分基本上是在沒有附加 熱絕緣和/或沒有具有熱容量的材料的情況下實(shí)現(xiàn)，使得熱絕緣主要通過反射材料來實(shí)現(xiàn) 的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，安裝在支承結(jié)構(gòu)上的所述反射材料設(shè) 置在所述溫度適應(yīng)部分的外壁的前方一定的預(yù)定距離處。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述反射材料包括鋁或不銹 鋼板或陶瓷板。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述反射材料包括在片狀金 屬基底或陶瓷基底上的具有97. 5%或更多的反射度的涂層，以及在它的頂部上的透明的含 氧化物或玻璃質(zhì)的防腐蝕涂層。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，主動(dòng)加熱器只設(shè)置在所述溫 度適應(yīng)部分的小區(qū)域內(nèi)和/或小功率控制加熱器只設(shè)置成用來實(shí)施溫度修正。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述加熱器包括頂或OTR輻射加熱器。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的設(shè)備，其特征在于，所述主動(dòng)加熱器指定為大體上非惰性 溫度控制。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述溫度適應(yīng)部分包括入口 和出口區(qū)域，光吸收裝置指定為針對(duì)所述入口和出口區(qū)域防止輻射泄漏，具體地包括用反 射材料覆蓋的入口和/或出口傾斜部或彎曲部。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述溫度適應(yīng)部分，且可選 地所述第一和/或第二加工部分包括氣體循環(huán)冷卻系統(tǒng)，所述氣體循環(huán)冷卻系統(tǒng)產(chǎn)生和通 過冷卻氣體流，所述冷卻氣體流沿所述溫度適應(yīng)部分的背側(cè)，且可選地所述第一和/或第 二加工部分的背側(cè)，以及可選地在所述冷卻氣體被加熱之后在所述工件或介質(zhì)的表面之 上。
11.一種用于熱加工處理工件或介質(zhì)的方法，其中，所述工件或介質(zhì)在第一加工部分被 加熱到第一處理溫度，在溫度適應(yīng)部分被帶到均衡溫度，以及在第二加工部分被轉(zhuǎn)變到第 二處理溫度，且在所述溫度被進(jìn)一步加工，其中，將所述工件或介質(zhì)轉(zhuǎn)變到所述均衡溫度且如果需要將所述工件或介質(zhì)維持在所述均 衡溫度基本上完全通過由所述溫度適應(yīng)部分的反射壁的特性輻射的回射來實(shí)現(xiàn)的，所述溫 度適應(yīng)部分設(shè)置在所述第一加工部分和所述第二加工部分之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法包括使塑料產(chǎn)品或陶瓷產(chǎn)品 的涂層熱回火和/或干燥以及固化。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法包括使金屬基底上的底料涂 層或漆料涂層干燥和固化。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法包括在所述工件或介質(zhì)中實(shí)施熱誘導(dǎo)或熱支持的化學(xué)反應(yīng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11-14中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，使所述工件或介質(zhì)駐留在 所述溫度適應(yīng)部分中的期間為0. 5-10秒之間，特別是1-5秒之間。
全文摘要
本發(fā)明提出一種用于熱加工處理的設(shè)備，該設(shè)備包括用于將要處理的工件或介質(zhì)加熱到第一處理溫度的第一加工部分，工件或介質(zhì)在其中適應(yīng)均衡溫度的溫度適應(yīng)部分，以及用于將工件或介質(zhì)的溫度轉(zhuǎn)變到第二處理溫度的第二加工部分，其中，溫度適應(yīng)部分至少大部分襯有反射工件或介質(zhì)的熱輻射的材料，方式是工件或介質(zhì)通過它的熱輻射的回射被轉(zhuǎn)變到和維持在均衡溫度。
文檔編號(hào)F27D99/00GK102132121SQ200880130831
公開日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2008年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月20日
發(fā)明者凱·K·O·巴爾, 羅爾夫·沃斯, 萊納·高斯 申請(qǐng)人:愛德福思創(chuàng)新技術(shù)有限責(zé)任公司