直接地址激光燒蝕的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了用于從固化輪胎的胎圈部分選擇性地去除輪胎材料以減小至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的系統(tǒng)和方法。根據(jù)本公開的方面，使用多個直接地址命令選擇性地去除輪胎材料。直接地址命令為位于圍繞輪胎胎圈的特定角位置處的分立的燒蝕段指定燒蝕參數(shù)。通過分析期望的用于輪胎胎圈的燒蝕圖案來產(chǎn)生直接地址命令。燒蝕裝置隨后能夠受到控制，以根據(jù)直接地址命令選擇性地去除位于識別出的地址處的分立的燒蝕段中的輪胎材料，從而使用燒蝕裝置的單次通過在沿輪胎的胎圈部分的一個或多個軌道上實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。
【專利說明】直接地址激光燒蝕
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開總體涉及用于通過沿固化輪胎中的輪胎胎圈位置選擇性地去除材料來改進輪胎均勻性的系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]輪胎非均勻性涉及在輪胎的某些可量化特性方面相對于輪胎旋轉(zhuǎn)軸線的對稱性(或者缺乏對稱性)。遺憾的是，傳統(tǒng)的輪胎建造方法具有在輪胎中產(chǎn)生非均勻性的多種可能性。在輪胎旋轉(zhuǎn)期間，存在于輪胎結(jié)構(gòu)中的非均勻性在輪軸線處產(chǎn)生周期性變化的力。輪胎非均勻性在這些力變化作為明顯振動傳遞給車輛和車內(nèi)乘客時是重要的。這些力通過車輛的懸架傳遞并且可以在車輛的座位和方向盤中感覺到或在乘客室中作為噪聲被傳遞。被傳遞給車內(nèi)乘客的振動量已被歸類為輪胎的“乘坐舒適度”或者“舒適度”。
[0003]輪胎均勻性特性或?qū)傩员淮篌w歸類為尺寸或幾何形狀變化(徑向偏差(RRO)和側(cè)向偏差(LRO))、質(zhì)量變化、以及滾動力變化(徑向力變化、側(cè)向力變化和切向力變化(有時也被稱為縱向或者前后力變化))。均勻性測量計通常通過在輪胎圍繞其軸線旋轉(zhuǎn)時在圍繞輪胎的多個點處測量力來測量上述和其它的均勻性特性。
[0004]一旦識別出輪胎均勻性特性，校正程序能夠通過調(diào)節(jié)制造過程來考慮均勻性中的一些均勻性。均勻性中的一些均勻性可能難以在制造過程期間校正并且因此需要額外的校正程序來校正固化輪胎剩余的非均勻性。能夠獲得多種不同的技術(shù)，其中包括但不限于向固化輪胎增加材料并且/或者從固化輪胎去除材料以及/或者固化輪胎的變形。
[0005]一種用于校正輪胎非均勻性的已知技術(shù)是沿輪胎的胎圈部分使用激光燒蝕。例如，W02011/002596(該專利為了一切目的通過引用結(jié)合到本文中)公開了沿位于輪胎的胎圈部分上的各個軌道使用激光燒蝕，例如沿輪胎的胎圈座部、下凸緣部分、以及上凸緣部分。具體而言，計算用于輪胎胎圈的燒蝕圖案以減小至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的大小。隨后使用計算得出的激光燒蝕圖案來選擇性地去除沿輪胎的胎圈部分的材料。
[0006]已知的燒蝕技術(shù)典型地使用可變速度方法或者可變功率方法中的任一種來根據(jù)計算得出的燒蝕圖案選擇性地去除材料。在可變速度方法中，燒蝕裝置在固定功率水平下操作，同時使輪胎以可變轉(zhuǎn)速選擇性地旋轉(zhuǎn)，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。在可變功率方法中，輪胎以固定速度旋轉(zhuǎn)，并且以變化水平為燒蝕裝置提供功率，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。也能夠使用功率與速度二者的組合變化。
[0007]這些燒蝕技術(shù)能夠典型地在燒蝕裝置的單次通過期間僅沿輪胎的胎圈部分燒蝕單個軌道?？赡苄枰獰g裝置圍繞輪胎的多次通過，來例如沿胎圈座部、下凸緣部分、和上凸緣部分中的兩個或多個燒蝕多個軌道，從而造成處理時間增加。在可變功率燒蝕過程中使用較低功率燒蝕能夠造成處理時間進一步增加，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。還可能難以使用可變功率或可變速度燒蝕技術(shù)在燒蝕裝置的單次通過的過程中同時實施多個目標燒蝕圖案，例如校正徑向力和側(cè)向力參數(shù)二者。
[0008]因此，存在對減少在輪胎的胎圈部分中實現(xiàn)期望的燒蝕圖案所需的時間的燒蝕技術(shù)的需要。能夠在單次通過期間解決多個均勻性參數(shù)并且沿輪胎的胎圈部分燒蝕多個軌道的技術(shù)將是特別有用的。能夠允許同時獨立燒蝕輪胎的兩個胎圈的技術(shù)也將是特別有用的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明的方面和優(yōu)點將在下文的描述中部分地闡述，或者可以是通過描述顯而易見的，或者可以通過實施本發(fā)明而習得。
[0010]本公開的一個示例性方面涉及一種用于減小固化輪胎中的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的方法。該方法包括接收用于輪胎胎圈的燒蝕圖案。該燒蝕圖案限定了相對于圍繞胎圈的角位置的期望的燒蝕深度并且被計算得出以校正輪胎的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波。該方法包括識別胎圈的多個地址。每一個地址都與輪胎胎圈上的特定角位置相關(guān)聯(lián)。該方法包括分析燒蝕圖案以確定多個直接地址命令，從而實現(xiàn)燒蝕圖案。多個直接地址命令為位于沿輪胎胎圈的一個或多個地址處的分立的燒蝕段指定燒蝕參數(shù)。多個分立的燒蝕段能夠具有類似的燒蝕靈敏度特性，例如類似的燒蝕段深度、例如與燒蝕裝置的大約全操作功率相關(guān)聯(lián)的燒蝕段深度。該方法還包括控制燒蝕裝置以根據(jù)直接地址命令從分立的燒蝕段中的胎圈選擇性地去除輪胎材料，從而實現(xiàn)燒蝕圖案。
[0011]在特定實施方式中，分析燒蝕圖案以確定多個直接地址命令能夠包括至少部分地基于與燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕靈敏度特性將分立的燒蝕段分配到地址；以及為被分配到地址的每一個分立的燒蝕段產(chǎn)生直接地址命令。
[0012]例如，分析燒蝕圖案以確定多個直接地址命令能夠包括至少部分地基于與分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕段深度將一個或多個分立的燒蝕段分配到第一燒蝕段層中的多個地址中的至少一個地址；從每一個地址處的期望的燒蝕深度減去第一層中分立的燒蝕段的燒蝕段深度，以實現(xiàn)每一個地址處經(jīng)過調(diào)節(jié)的燒蝕深度；以及至少部分地基于經(jīng)過調(diào)節(jié)的燒蝕深度將分立的燒蝕段分配到第二燒蝕段層中的多個地址中的至少一個地址。
[0013]與第一層中分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的角位置能夠相對于與第二層中分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的角位置移動。分立的燒蝕段也能夠被布置在至少四個燒蝕段層中。例如，該方法能夠包括調(diào)節(jié)分立的燒蝕段的燒蝕靈敏度特性，使得需要至少四個燒蝕段層來實現(xiàn)燒蝕圖案。
[0014]本公開的另一個示例性方面涉及一種用于根據(jù)輪胎胎圈的燒蝕圖案減小輪胎中的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的大小的均勻性校正系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括輪胎固定件，輪胎能夠牢固地安裝于該輪胎固定件上；以及燒蝕裝置，該燒蝕裝置被構(gòu)造成提供安裝于輪胎固定件上的輪胎胎圈的燒蝕。該系統(tǒng)還包括控制系統(tǒng)，該控制系統(tǒng)聯(lián)接到燒蝕裝置。該控制系統(tǒng)被構(gòu)造成根據(jù)多個直接地址命令來控制燒蝕裝置，以選擇性地去除位于沿胎圈的特定角地址處的分立的燒蝕段中的材料，從而實現(xiàn)燒蝕圖案。
[0015]例如，在特定實施方式中，該控制系統(tǒng)控制燒蝕裝置，以使用燒蝕裝置圍繞胎圈的單次通過根據(jù)用于胎圈的多個燒蝕圖案選擇性地去除輪胎材料。多個燒蝕圖案中的每一個燒蝕圖案都被設計成在位于胎圈的胎圈座、低凸緣區(qū)域和高凸緣區(qū)域中的至少一個或多個中的不同的軌道位置處燒蝕。
[0016]在另一個特定實施方式中，該系統(tǒng)包括第二燒蝕裝置，該第二燒蝕裝置被構(gòu)造成提供安裝于輪胎固定件上的輪胎的第二胎圈的燒蝕。該控制系統(tǒng)能夠被構(gòu)造成通過第二燒蝕裝置獨立地控制第二胎圈的燒蝕。
[0017]參照下文的描述以及所附權(quán)利要求，本發(fā)明的這些和其它的特征、方面以及優(yōu)點將變得更好理解。結(jié)合在本說明書中并且構(gòu)成本說明書一部分的附圖顯示了本發(fā)明的實施例并且與描述一起用于對本發(fā)明的原理進行解釋。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]在參照附圖做出的說明書中闡述了面向本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的本發(fā)明的完整和可實現(xiàn)的公開，包括本發(fā)明的最佳模式，在附圖中:
[0019]圖1是能夠根據(jù)本公開的示例性方面校正的徑向輪胎的橫截面圖。
[0020]圖2示出了根據(jù)本公開的示例性方面的適于燒蝕以減小選定的輪胎均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的沿輪胎胎圈的多個軌道位置。
[0021]圖3示出了根據(jù)本公開的示例性方面的被計算得出以減小選定的輪胎均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的示例性燒蝕圖案。圖3繪制了沿橫坐標的期望的燒蝕深度(D)和沿縱坐標的圍繞輪胎胎圈的角位置(Θ )。
[0022]圖4示出了根據(jù)本公開的示例性實施例的系統(tǒng)的方框圖。
[0023]圖5示出了呈灰度位圖圖像形式的示例性燒蝕段。該灰度位圖圖像相對于位圖圖像的豎直位置(H)繪制。
[0024]圖6提供由圖5的灰度圖像代表的燒蝕深度的曲線圖示。圖6繪制了沿橫坐標的位圖圖像的豎直位置(H)和沿縱坐標的燒蝕深度(d)。
[0025]圖7提供了沿輪胎胎圈去除的多個燒蝕段的透視圖。
[0026]圖8示出了根據(jù)本公開的示例性實施例的產(chǎn)生多個直接地址命令以控制輪胎胎圈的燒蝕的方法的示例性流程圖。
[0027]圖9至圖12以曲線圖示出了根據(jù)本公開的示例性實施例的產(chǎn)生多個直接地址命令以控制輪胎胎圈的燒蝕的方法的示例性方面。圖9至圖12繪制了沿橫坐標的燒蝕深度(D)和沿縱坐標的圍繞輪胎胎圈的角位置(Θ )。
[0028]圖13示出了根據(jù)本公開的示例性實施例確定的示例性燒蝕段堆疊。圖13繪制了沿橫坐標的燒蝕深度(D)和沿縱坐標的圍繞輪胎胎圈的角位置(Θ)。
[0029]圖14至圖15以曲線圖示出了根據(jù)本公開的示例性方面的用于實現(xiàn)示例性燒蝕圖案的示例性燒蝕段堆疊。圖14至圖15繪制了沿橫坐標的燒蝕深度(D)和沿縱坐標的圍繞輪胎胎圈的角位置(Θ)。
【具體實施方式】
[0030]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應當理解，本討論僅僅是對示例性實施例的描述，并不期望對本發(fā)明更寬的方面構(gòu)成限制。每個例子都以對發(fā)明進行解釋的方式給出，并不對本發(fā)明構(gòu)成限制。實際上，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯而易見的是，能夠在不偏離本發(fā)明的范圍或者精神的前提下對本發(fā)明進行多種改型和變型。例如，作為一個實施例的一部分示出或者進行描述的特征能夠用于另一個實施例，從而產(chǎn)生又一個實施例。因此，期望的是，本發(fā)明覆蓋落入所附權(quán)利要求及其等同形式的范圍內(nèi)的這種改型和變型。[0031]總體而言，本公開涉及用于從固化輪胎的胎圈部分選擇性地去除輪胎材料以減小至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的系統(tǒng)和方法。根據(jù)本公開的方面，使用多個直接地址命令來選擇性地去除輪胎材料。所述直接地址命令為位于圍繞輪胎胎圈的特定角位置處的分立的燒蝕段指定燒蝕參數(shù)。
[0032]直接地址命令通過分析期望的用于輪胎胎圈的燒蝕圖案而產(chǎn)生。具體而言，燒蝕圖案被劃分為多個分立的燒蝕段。分立的燒蝕段均具有類似的燒蝕靈敏度特性。燒蝕靈敏度特性能夠包括燒蝕裝置的每次通過的燒蝕力以及/或者每次通過的燒蝕深度。能夠基于燒蝕裝置的操作參數(shù)來控制燒蝕靈敏度特性。例如，燒蝕靈敏度特性能夠作為燒蝕裝置的操作參數(shù)(例如燒蝕裝置的功率和/或掃描速率)的函數(shù)受到控制。
[0033]至少部分地基于與分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕靈敏度特性將燒蝕段分配到圍繞輪胎胎圈的角位置處的單個地址。為每一個分立的燒蝕段產(chǎn)生直接地址命令。直接地址命令指定燒蝕參數(shù)，例如激光功率、激光掃描速率、位圖、在輪胎胎圈上的徑向位置、以及燒蝕段的其它參數(shù)。燒蝕裝置隨后受到控制，以選擇性地去除位于根據(jù)直接地址命令識別出的地址處的分立的燒蝕段中的輪胎材料，從而實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。
[0034]直接地址方法提供多種優(yōu)點。例如，燒蝕裝置能夠受到控制以直接到達輪胎胎圈上需要燒蝕的區(qū)域。因此，燒蝕裝置能夠簡單地略過不需要燒蝕的胎圈的顯著部段，從而使處理時間減少。此外，圍繞胎圈的一次通過能夠允許在胎圈的多個期望軌道上(例如在胎圈座部、下凸緣部分、或上凸緣部分中的一個或多個上)校正。具體而言，由于輪胎中不像現(xiàn)有的燒蝕系統(tǒng)中一樣存在連續(xù)旋轉(zhuǎn)，因此燒蝕裝置能夠保持在特定的角地址處并且從位于特定角地址處的胎圈上的不同軌道去除輪胎材料。
[0035]此外，由于分立的燒蝕段具有類似的燒蝕靈敏度特征，因此用于實現(xiàn)期望的燒蝕圖案的處理時間能夠得以改進。例如，直接地址命令能夠控制燒蝕裝置，以選擇性地去除與燒蝕裝置的全操作功率相關(guān)聯(lián)的分立的燒蝕段中的輪胎材料。這允許減少燒蝕段的數(shù)量以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案，從而使循環(huán)時間甚至進一步減少。還減少了對動態(tài)調(diào)節(jié)燒蝕裝置的操作參數(shù)的需要，原因是燒蝕裝置根據(jù)直接地址命令從分立的燒蝕段選擇性地去除輪胎材料。
[0036]現(xiàn)在參照附圖，現(xiàn)在將詳細地討論本公開的示例性實施例。圖1提供了根據(jù)本發(fā)明的用于均勻性校正的徑向充氣輪胎40。該輪胎40能夠圍繞縱向中心旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。輪胎40包括一對胎圈線42，該對胎圈線42基本不能沿周向方向延伸。第一胎圈和第二胎圈42沿與中心軸線平行的方向間隔開。周向被定義成與其中心位于軸線處并且被包含在與輪胎的中間周向平面平行的平面中的圓基本相切。
[0037]胎體簾布層44在相應的胎圈42中的每一個胎圈42之間延伸。胎體簾布層44具有圍繞相應的胎圈42延伸的一對軸向相對的端部。胎體簾布層44在軸向相對的端部處固定于相應的胎圈42。胎體簾布層44包括多個基本徑向延伸的增強構(gòu)件，所述多個基本徑向延伸的增強構(gòu)件中的每一個都由合適的構(gòu)造和材料制成，例如捻合在一起的若干聚酯紗或長絲。應當顯而易見的是，胎體簾布層44被示為單個簾布層，但是可以包括任何合適數(shù)量的胎體簾布層以用于輪胎40的期望用途和荷載。還應當顯而易見的是，增強構(gòu)件可以是單絲或者任何其它合適的構(gòu)造或材料。
[0038]圖示的輪胎40還包括帶包裝46。該帶包裝46包括至少兩個環(huán)形帶。帶中的一個帶相對于另一個帶徑向向外地定位。每一個帶都包括多個由合適的材料(例如鋼合金)制成的基本平行延伸的增強構(gòu)件。輪胎40還包括用于胎面62和側(cè)壁64的橡膠。該橡膠可以是任何合適的天然或合成橡膠、或其組合。
[0039]圖2提供了輪胎胎圈的放大橫截面圖，其中大體示出了這種輪胎部分相對于其在輪輞上的坐置位置的各個部分。例如，每一個輪胎胎圈區(qū)域50都包括輪胎胎圈42以及其周圍橡膠部分，所述周圍橡膠部分被構(gòu)造成限定如圖2中所示的胎圈輪廓?？傮w而言，胎趾52與出口點53之間的輪胎胎圈的輪廓部分相對于輪輞的部分配合，以用于牢固地安裝于其上。虛線51代表胎圈區(qū)域50可以相對于其固定以用于安裝的輪輞的示例性部分。被大體限定在胎趾52與胎踵(heel) 54之間的胎圈輪廓的底部表面在本文中被稱為胎圈座56。胎踵54與出口點53之間的輪廓部分被大體稱為凸緣,并且包括位于胎踵與凸緣過渡點58之間的下凸緣部分57和位于凸緣過渡點58與出口點53之間的上凸緣部分59。
[0040]如W02011/002596(被共同轉(zhuǎn)讓給本公開的受讓人)中更詳細地討論的，能夠通過從輪胎的胎圈區(qū)域50的胎圈座56、下凸緣部分57、和上凸緣部分59中的一個或多個選擇性地去除材料來減小選定的均勻性參數(shù)的一個或多個諧波?？梢员恍Ｕ妮喬ゾ鶆蛐蕴匦源篌w包括滾動力變化(例如徑向力變化和側(cè)向力變化)以及甚至其它的參數(shù)(其中包括但不限于質(zhì)量變化)。
[0041]根據(jù)本公開的方面，能夠根據(jù)計算得出的燒蝕圖案從輪胎胎圈去除材料。示例性的燒蝕圖案300示于圖3中。如圖所示，示例性燒蝕圖案300限定了相對于圍繞輪胎胎圈的角位置的期望的燒蝕深度。例如，燒蝕圖案300能夠用于減小與均勻性相關(guān)聯(lián)的第一諧波，例如與輪胎相關(guān)聯(lián)的徑向力。能夠從胎圈座56、下凸緣部分57、和上凸緣部分59中的一個或多個選擇性地去除材料，以在燒蝕圖案中所設定的角位置處實現(xiàn)期望的燒蝕深度。沿多個軌道選擇性地去除材料旨在當在胎圈上燒蝕適當圖案時實現(xiàn)期望水平的力或者力的組
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[0042]能夠根據(jù)任何已知的技術(shù)來計算圖3中所示的示例性燒蝕圖案300。例如，能夠通過識別一個或多個均勻性參數(shù)以及期望校正的每一個參數(shù)的選定數(shù)量的諧波來確定該示例性燒蝕圖案。能夠計算燒蝕圖案以校正每一個識別出的均勻性參數(shù)的選定數(shù)量的諧波。用于計算燒蝕圖案的示例性技術(shù)公開于W02011/002596中，該專利為了一切目的通過引用結(jié)合到本文中。
[0043]能夠使用多種燒蝕技術(shù)根據(jù)計算得出的燒蝕圖案從輪胎胎圈選擇性地去除輪胎材料。例如，在一個實施例中，能夠使用激光燒蝕技術(shù)選擇性地去除輪胎材料。激光燒蝕技術(shù)能夠是優(yōu)選的，原因是其能夠通過精確控制完成去除圍繞輪胎胎圈的分立的燒蝕段。就可以實施其它的橡膠去除技術(shù)(例如但不限于磨削、噴砂、水射流去除等)以實現(xiàn)與激光燒蝕相同的精確水平的程度而言，本主題也可以采用這種備選的去除技術(shù)。
[0044]圖4示出了用于使用激光燒蝕減小識別出的均勻性參數(shù)的選定諧波的系統(tǒng)的示例性方框圖。如圖所示，輪胎400牢固地安裝于安裝固定件402，該安裝固定件402大體用作固定轂，以保持輪胎胎圈相對于激光燒蝕裝置408固定。激光燒蝕裝置408能夠包括激光器410，該激光器410能夠包括輸出激光束411的固定點或片光激光系統(tǒng)，該激光束411具有足夠量的功率以執(zhí)行輪胎橡膠材料的選擇性去除。在一個特定的例子中，激光燒蝕裝置410能夠包括二氧化碳(CO2)激光器。在被激光燒蝕裝置410輸出之后，激光束411能夠被提供給偏轉(zhuǎn)元件412，該偏轉(zhuǎn)元件412能夠包括分束器414、偏轉(zhuǎn)器416、成像透鏡418、以及/或者其它的光學元件。成像透鏡418將激光束411的光照聚焦于輪胎400上的焦點420，以在沿輪胎胎圈的燒蝕區(qū)域421中去除橡膠。
[0045]圖4的系統(tǒng)旨在示出使用單個激光器和單個焦點的激光燒蝕(即，一次在一個輪胎胎圈處去除)。然而，應當領(lǐng)會，多個激光器用于在多個焦點(例如，在兩個輪胎胎圈)處執(zhí)行燒蝕。例如，在特定實施例中，第一激光器能夠用于獨立提供第一輪胎胎圈的燒蝕并且第二激光器能夠用于獨立提供第二輪胎胎圈的燒蝕?？梢蕴峁┱婵瘴鼔m器422或者其它的清潔工具來從燒蝕區(qū)域抽出任何所去除的橡膠或其它廢料。額外的出口可以提供氣態(tài)介質(zhì)(例如，氮氣)的受控輸出，以有利于激光燒蝕并且抑制燒蝕點處的潛在火焰。
[0046]如圖4中所示，控制系統(tǒng)430控制激光燒蝕裝置408的一個或多個部件，以沿順著輪胎胎圈的一個或多個軌道實現(xiàn)期望的燒蝕圖案?？刂葡到y(tǒng)430能夠大體包括例如至少一個存儲器/介質(zhì)元件或數(shù)據(jù)庫的用于存儲數(shù)據(jù)和軟件指令的部件以及至少一個處理器。
[0047]在圖4的特定例子中，處理器(多個處理器)432以及相關(guān)聯(lián)的存儲器434被構(gòu)造成執(zhí)行多種計算機實施的功能(即，基于軟件的數(shù)據(jù)服務)。存儲器434能夠存儲將由處理器(多個處理器)432實施的呈計算機可讀和可執(zhí)行指令形式的軟件和/或固件。存儲器434還能夠存儲可由處理器(多個處理器)432存取并且能根據(jù)存儲于存儲器434中的軟件指令起作用的數(shù)據(jù)。能夠提供存儲器434作為計算機可讀介質(zhì)的一個或多個變量的單個或多個部分，例如但不限于易失性存儲器(例如，隨機存取存儲器(RAM，例如DRAM、SRAM等))和非易失性存儲器(例如，ROM、閃存、硬盤驅(qū)動器、磁帶、CD-R0M、DVD_R0M等)或者任何其它的存儲裝置(其中包括軟盤、驅(qū)動器、其它的磁基存儲介質(zhì)、光學存儲介質(zhì)等)的任何組合。
[0048]根據(jù)本公開的方面，存儲器434能夠存儲用于控制燒蝕裝置408在輪胎胎圈上實現(xiàn)期望的燒蝕圖案的多個直接地址命令。直接地址命令能夠為位于輪胎胎圈上的特定角位置或“地址”處的分立的燒蝕段指定操作參數(shù)。更具體地，期望的燒蝕圖案能夠被劃分成多個分立的燒蝕段。這些燒蝕段代表將由燒蝕裝置以增量方式去除的總燒蝕圖案的小的部分。直接地址命令為多個分立的燒蝕段指定位置和其它參數(shù)，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。
[0049]在特定例子中，燒蝕段能夠與位圖圖像相關(guān)聯(lián)，該位圖圖像使沿特定軌道的燒蝕深度與代表這種深度的不同色調(diào)的圖形圖像(例如，具有彩色或灰度變化)相關(guān)。這種不同色調(diào)的圖像能夠由燒蝕裝置的軟件控制器翻譯以在輪胎胎圈上的特定角位置處產(chǎn)生期望的燒蝕深度。圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的一些特定實施例的用于特定的分立燒蝕段的示例性灰度位圖圖像800，該示例性灰度位圖圖像800可以由激光器執(zhí)行。在這種燒蝕段中，代表較淺的灰度色調(diào)的較低點密度對應于較小的燒蝕深度并且代表較深的灰度色調(diào)的較高點密度對應于較大的燒蝕深度。
[0050]圖6提供了由圖5的點劃/灰度圖像代表的燒蝕深度的曲線圖例子。例如，假設圖5中所示的代表最深的灰度色調(diào)的最高點密度對應于Imm的燒蝕深度，使得圖像的最深色部分出現(xiàn)在從位圖圖像的頂部至底部的豎直范圍的中間周圍。圖6中的相應的曲線圖繪制了沿橫坐標的位圖圖像的豎直位置和沿縱坐標的燒蝕深度(例如，以mm為單位)。如圖所示，燒蝕深度的變化跟隨大體光滑的過渡曲線，與對比鮮明的區(qū)域相反。
[0051]用于燒蝕深度的彎曲(幾乎正弦)路徑由于在燒蝕區(qū)域中提供光滑的邊緣輪廓而可能是有利的。消除燒蝕圖案中的銳緣使得均勻性校正更光滑、更不可探測(因此在視覺上吸引人)。還減少了在輪胎胎圈隨后安裝于輪輞時對胎圈坐置力和輪胎壓力水平的可能的改變。還可以部分地通過光滑輪廓以及總體有限的燒蝕深度來實現(xiàn)對其它均勻性參數(shù)的任何潛在的寄生改變的進一步減少。
[0052]圖7大體示出了多個燒蝕段800如何能夠沿胎圈表面轉(zhuǎn)置。盡管沿輪胎胎圈僅示出了單行燒蝕段，但是應當領(lǐng)會，可以存在多行和多列的這種燒蝕圖案，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。燒蝕圖案的這種分組還可以與沿輪胎胎圈的多于一個的軌道/區(qū)域相關(guān)。例如，一組燒蝕段可以沿輪胎胎圈座區(qū)域從燒蝕圖案平移，而另一組燒蝕段可以沿輪胎胎圈凸緣區(qū)域從燒蝕圖案平移。
[0053]作為一個例子，圖13示出了根據(jù)本公開的示例性實施例的用于實現(xiàn)期望的燒蝕圖案300的示例性燒蝕段堆疊900。燒蝕段堆疊包括多個分立的燒蝕段800，所述多個分立的燒蝕段800被布 置到層810、820、830、840、850、860、870、和880中以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案300。分立的燒蝕段800中的每一個燒蝕段800都被分配到相對于燒蝕段位于中心的角位置處的輪胎胎圈上的特定地址。為燒蝕段堆疊900中分立的燒蝕段800中的每一個燒蝕段800產(chǎn)生直接地址命令。通過控制燒蝕裝置根據(jù)直接地址命令從分立的燒蝕段800選擇性地去除輪胎材料來實現(xiàn)燒蝕圖案300。
[0054]如圖12中所示，分立的燒蝕段800中的每一個燒蝕段800都包括類似的燒蝕段寬度W和類似的燒蝕段長度L。燒蝕段寬度W由相對于輪胎胎圈的燒蝕段的角寬度限定。燒蝕段長度L被確定成與分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕靈敏度特性的函數(shù)。燒蝕靈敏度特性能夠包括燒蝕裝置的每次通過的燒蝕力和/或每次通過的燒蝕深度。能夠使用燒蝕裝置的操作參數(shù)來控制燒蝕靈敏度特性。例如，分立的燒蝕段能夠相對于在小于大約100%功率(例如，大約50%功率)下操作的燒蝕裝置每次通過的燒蝕深度提供較大的在大約100%功率下操作的燒蝕裝置的每次通過的燒蝕深度。
[0055]根據(jù)本公開的方面，用于實現(xiàn)期望的燒蝕圖案的多個分立的燒蝕段能夠具有類似的燒蝕靈敏度特性，使得分立的燒蝕段中的每一個燒蝕段都具有類似的燒蝕段長度(即提供類似的燒蝕深度)。通過該方式，多個燒蝕段能夠在分立的層中堆疊(如圖12中所示)，以實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。在一個例子中，多個燒蝕段能夠具有與燒蝕裝置的全操作功率相關(guān)聯(lián)的燒蝕靈敏度特性，使得需要數(shù)量較少的燒蝕段來實現(xiàn)期望的燒蝕圖案。
[0056]為用于實現(xiàn)期望的燒蝕圖案的每一個分立的燒蝕段產(chǎn)生直接地址命令。直接地址命令能夠指定激光功率、掃描速率、位圖、徑向位置、或者用于燒蝕段的其它合適的參數(shù)。以下提供直接地址命令的示例性列表:
[0057]
^￥1 I角位置(地址)I功率 I掃描速率
115.81004000MPl
215.81004000BMP2
326.31004000BMPl
【權(quán)利要求】
1.一種用于減小固化輪胎中的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的方法，包括: 接收用于所述輪胎的胎圈的燒蝕圖案，所述燒蝕圖案限定了相對于圍繞所述胎圈的角位置的期望的燒蝕深度并且被計算以校正所述輪胎的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波； 識別所述胎圈的多個地址，每一個地址都與所述輪胎的胎圈上的特定角位置相關(guān)聯(lián)；分析所述燒蝕圖案以確定多個直接地址命令從而實現(xiàn)所述燒蝕圖案，所述多個直接地址命令為位于沿所述輪胎的胎圈的一個或多個地址處的多個分立的燒蝕段指定燒蝕參數(shù)；所述多個分立的燒蝕段中的每一個都具有類似的燒蝕靈敏度特性； 控制燒蝕裝置以根據(jù)所述直接地址命令在所述分立的燒蝕段中從胎圈選擇性地去除輪胎材料，從而實現(xiàn)所述燒蝕圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述燒蝕靈敏度特性包括與所述分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕段深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述多個分立的燒蝕段的燒蝕段深度與所述燒蝕裝置的大約全操作功率相關(guān)聯(lián)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中分析所述燒蝕圖案以確定多個直接地址命令包括: 至少部分地基于與所述燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕靈敏度特性將分立的燒蝕段分配到地址； 以及 為被分配到地址的每一個分立的燒蝕段產(chǎn)生直接地址命令。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中分析所述燒蝕圖案以確定多個直接地址命令包括: 至少部分地基于與所述分立的燒蝕段相關(guān)聯(lián)的燒蝕段深度將一個或多個分立的燒蝕段分配到第一燒蝕段層中的多個地址中的至少一個地址； 從每一個地址處的期望的燒蝕深度減去所述第一層中的分立的燒蝕段的燒蝕段深度以為每一個地址實現(xiàn)經(jīng)過調(diào)節(jié)的燒蝕深度；以及 至少部分地基于所述經(jīng)過調(diào)節(jié)的燒蝕深度將分立的燒蝕段分配到第二燒蝕段層中的多個地址中的至少一個地址。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中與所述第一層中分立的燒蝕段的地址相關(guān)聯(lián)的角位置相對于與所述第二層中分立的燒蝕段的地址相關(guān)聯(lián)的角位置移動。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述分立的燒蝕段被布置在至少四個燒蝕段層中，以實現(xiàn)所述燒蝕圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述方法包括調(diào)節(jié)所述分立的燒蝕段的燒蝕靈敏度特性，使得需要至少四個燒蝕段層來實現(xiàn)所述燒蝕圖案。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中每一個直接地址命令都為燒蝕段指定激光功率、激光掃描速率、位圖或者在所述胎圈上的徑向位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述方法包括選擇性地去除材料以實現(xiàn)用于所述胎圈的多個燒蝕圖案，所述多個燒蝕圖案中的每一個圖案都被設計成用于在位于所述胎圈的胎圈座、低凸緣區(qū)域和高凸緣區(qū)域中的至少一個或多個中的所述胎圈上的不同的軌道位置處的燒蝕。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中使用所述燒蝕裝置圍繞所述胎圈的單次通過選擇性地去除輪胎材料，以實現(xiàn)所述多個燒蝕圖案。
12.一種用于根據(jù)用于輪胎的胎圈的燒蝕圖案減小所述輪胎中的至少一個均勻性參數(shù)的一個或多個諧波的大小的均勻性校正系統(tǒng)，所述燒蝕圖案限定相對于圍繞所述胎圈的角位置的期望的燒蝕深度，所述系統(tǒng)包括: 輪胎固定件，輪胎能夠牢固地安裝于所述輪胎固定件上； 燒蝕裝置，所述燒蝕裝置被構(gòu)造成提供安裝于所述輪胎固定件上的輪胎胎圈的燒蝕； 控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)聯(lián)接到所述燒蝕裝置，所述控制系統(tǒng)被構(gòu)造成根據(jù)多個直接地址命令來控制所述燒蝕裝置，以選擇性地去除位于沿所述胎圈的特定角地址處的分立的燒蝕段中的材料，從而實現(xiàn)所述燒蝕圖案； 其中所述控制系統(tǒng)控制所述燒蝕裝置，以使用所述燒蝕裝置圍繞所述胎圈的單次通過根據(jù)用于所述胎圈的多個燒蝕圖案選擇性地去除輪胎材料，所述多個燒蝕圖案中的每一個燒蝕圖案都被設計成在位于所述胎圈的胎圈座、低凸緣區(qū)域和高凸緣區(qū)域中的至少一個或多個中的不同的軌道位置處燒蝕。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述多個直接地址命令為位于沿所述輪胎的胎圈的一個或多個地址處的分立的燒蝕段指定燒蝕參數(shù)，多個分立的燒蝕段中的每一個都具有類似的燒蝕靈敏度特性。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述控制系統(tǒng)被構(gòu)造成分析所述燒蝕圖案以確定所述多個直接地址命令。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)包括第二燒蝕裝置，所述第二燒蝕裝置被構(gòu)造成提供安裝于所述輪胎固定件上的輪胎的第二胎圈的燒蝕，所述控制系統(tǒng)被構(gòu)造成通過所述第二燒蝕裝置獨立地控制所述第二胎圈的燒蝕。
【文檔編號】B29C35/08GK103998201SQ201180075648
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2011年12月22日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月22日
【發(fā)明者】V·S·尼克爾森, J·E·斯通 申請人:米其林集團總公司, 米其林研究和技術(shù)股份有限公司