專利名稱：波紋管支撐構(gòu)造及可動工作臺裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及可以防止波紋管動作行程(stroke)長的情況下容易產(chǎn)生應力集中的波紋管支撐構(gòu)造及可動載置臺裝置。本發(fā)明尤其涉及在半導體處理系統(tǒng)內(nèi)可適合利用的這種技術。在這里，所謂半導體處理意味著在晶片或LCD(液晶顯示器)或FPD(平板顯示器)用的玻璃基板等的被處理基板上通過以規(guī)定圖形形成半導體層、絕緣層、導電層等，為了在該被處理基板上制造半導體器件或制造包含用于與半導體器件連接的配線、電極等的構(gòu)造物實施的種種處理。
背景技術：
在半導體器件制造中，往往在真空室內(nèi)移動或傳遞被處理基板(被處理體)、例如半導體晶片。這種情況下，在真空室內(nèi)連接作直線運動的可動部和固定部，使用波紋管作為隔離真空側(cè)和大氣側(cè)的手段，(參照例如特開平11-16979號公報)。波紋管的不均勻伸縮引起波紋管耐久性降低或破損。為了解決該問題，提出通過多個支撐體支撐長尺寸波紋管，使長尺寸波紋管可均勻伸縮的波紋管的等間隔導向機構(gòu)(參照例如特開2000-136907號公報)。
圖9A是概略地示出現(xiàn)有技術的波紋管支撐構(gòu)造(內(nèi)部支撐構(gòu)造)的縱截面圖。如圖9A所示，配設與波紋管1的兩端連接用的法蘭2、3。在波紋管1的中間處配設作為另外物體形成的1個以上的中間環(huán)5。在波紋管1內(nèi)的軸心部配置用于支撐導向中間環(huán)5的軸30。
圖9B是概略地示出現(xiàn)有技術的另外的波紋管支撐構(gòu)造(外部支撐構(gòu)造)的縱截面圖。如圖9B所示，配設與波紋管1兩端部連接用法蘭2、3。在波紋管1的中間處配設作為另外物體形成的1個以上的中間環(huán)5。在波紋管1的外側(cè)上配置用于支撐導向中間環(huán)5的軸31。
根據(jù)圖9A、B所示構(gòu)造，在動作行程長的情況下，防止因波紋管容易產(chǎn)生的撓曲等產(chǎn)生應力集中(壓曲或變形)。因而，根據(jù)本發(fā)明，在這等構(gòu)造中發(fā)現(xiàn)與粒子的產(chǎn)生或確保波紋管內(nèi)充裕的空間相關連的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供可防止粒子飛散并確保在波紋管內(nèi)充裕的空間的波紋管支撐構(gòu)造及可動工作臺裝置。
本發(fā)明的另一目的是提供謀求提高波紋管耐久性的同時，在波紋管內(nèi)可以配置可動部的驅(qū)動部件等的波紋管支撐構(gòu)造及可動工作臺裝置。
本發(fā)明的另一其它目的是提供謀求構(gòu)造簡單化及降低成本的波紋管支撐部件及可動工作臺裝置。
本發(fā)明的第一視點是從內(nèi)側(cè)支撐波紋管的構(gòu)造，它具備以下部件，即在前述波紋管內(nèi)部配設且沿著前述波紋管軸向延伸的導軌；沿著前述軸向可在前述導軌上移動地配設的移動部件；和實質(zhì)上連接前述移動部件和前述波紋管的中間支撐部。
本發(fā)明的第二視點是在真空或充填規(guī)定氣體或液體的室內(nèi)用于移動被處理體的可動工作臺，它具備以下部件，即；在前述室內(nèi)的第一及第二側(cè)壁間配設的直線導向器；沿著前述直線導向器的長邊方向可移動的可動框架，前述直線導向器插通入前述可動框架內(nèi)；在前述可動框架和前述第一及第二側(cè)壁之間包圍前述直線導向器的一對波紋管，前述可動框架和前述一對波紋管協(xié)動，形成與前述室內(nèi)其它部分氣密地隔離的輔助空間；沿著前述直線導向器使前述可動框架移動的驅(qū)動部件；在前述一對波紋管內(nèi)部配設，并且沿著前述一對波紋管軸向延伸的導軌；沿著前述軸向在前述導軌上可移動地配設的移動部件；和實質(zhì)上連接前述移動部件和一對波紋管的中間支撐部。


圖1是概略地示出本發(fā)明實施方式的波紋管支撐構(gòu)造的縱截面圖。
圖2是圖1所示構(gòu)造的左側(cè)側(cè)面圖。
圖3是圖1所示構(gòu)造的右側(cè)側(cè)面圖。
圖4是圖1所示構(gòu)造的立體圖。
圖5A是從上方看圖1所示構(gòu)造的移動部件的立體圖。
圖5B是從下方看5A所示移動部件的立體圖。
圖6A是示出圖1所示構(gòu)造的移動部件彼此抵接時狀態(tài)的平面圖。
圖6B是示出圖6A所示移動部件彼此離開時狀態(tài)的平面圖。
圖7是概略地示出本發(fā)明實施方式的可動工作臺裝置的立體圖。
圖8是示出組裝有圖7所示可動工作臺裝置的半導體處理系統(tǒng)的局部剖開的立體圖。
圖9A是概略地示出現(xiàn)有技術的支撐構(gòu)造(內(nèi)部支撐構(gòu)造)的縱截面圖。
圖9B是概略地示出現(xiàn)有技術另外的波紋管支撐構(gòu)造(外部支撐構(gòu)造)的縱截面圖。
具體實施例方式
本發(fā)明者在本發(fā)明的開發(fā)過程中對于現(xiàn)有技術的波紋管支撐構(gòu)造存在的問題點，尤其是在半導體處理系統(tǒng)的驅(qū)動系統(tǒng)中使用它們時的問題點加以研究。其結(jié)果，得到以下所述那樣的知識。
波紋管過伸或過縮成為降低波紋管耐久性的原因。為了解決該問題，可以在波紋管上配設止動器(stopper)。即使在圖9A、B所示那樣的內(nèi)部支撐構(gòu)造和外部支撐構(gòu)造的任一種情況下，通常也考慮在波紋管外側(cè)上配置止動器。如果在波紋管外側(cè)上配置止動器，則與外部支撐構(gòu)造的各部件同樣，滑動部成為波紋管的外側(cè)。因此，擔心從止動器等的滑動部產(chǎn)生的粒子飛入真空室內(nèi)，污染晶片。
為了回避該回答，與內(nèi)部支撐構(gòu)造各部件同樣，考慮在波紋管內(nèi)側(cè)配置止動器?？墒沁@種情況下，止動器應當占有波紋管內(nèi)許多空間。其結(jié)果，使波紋管內(nèi)確保充裕的空間變得困難，使波紋管內(nèi)配置可動部的驅(qū)動部件等變得困難。
以下，參照附圖，對根據(jù)這樣的知識構(gòu)成的本發(fā)明的實施方式加以說明。在以下的說明中，對于具有大體同一功能及構(gòu)成的構(gòu)成元件，附加同一符號，只在必要的情況下方加以重復說明。
圖1是概略地示出本發(fā)明實施方式的波紋管支撐構(gòu)造的縱截面圖。圖2、3及4是圖1所示構(gòu)造的左側(cè)側(cè)視圖，右側(cè)側(cè)視圖及立體圖。
正如圖1到圖4所示，波紋管(蛇腹)1由沿長邊方向伸縮自如的圓筒體構(gòu)成。在波紋管1的一端上配設用于將其固定在固定部例如真空室側(cè)壁上的法蘭2。波紋管1另一端上配設用于把它與可動部例如可動框架(參照圖7，后述)連接的法蘭3。在波紋管1的中間處以一體或分體的方式配設1個以上(1個或多個)作為中間支撐部的中間環(huán)5。在圖示例示出通過以分體配設的中間環(huán)5。
在固定側(cè)的法蘭2的端面上形成環(huán)狀裝配槽6。在裝配槽6安裝用于氣密密封與真空室側(cè)壁之間的O型環(huán)(氣密材料未圖示)。在可動側(cè)法蘭3的外周與可動框架的端面形狀同樣地呈正面方形地形成。在法蘭3的端面上形成用于與可動框架端面上安裝的O型環(huán)抵接的平的抵接面7。
波紋管1在內(nèi)周和外周交替地焊接接合例如由不銹鋼等金屬構(gòu)成的數(shù)枚環(huán)狀薄板而構(gòu)成。中間環(huán)5由與波紋管1大體同直徑的環(huán)構(gòu)成。法蘭2、3及中間環(huán)5在波紋管1的端部上分別通過焊接接合。中間環(huán)5在波紋管1的中間處根據(jù)波紋管1的長度配設1個或以適當間隔配設多個。
在波紋管1內(nèi)沿其長邊方向(軸向)水平地配設作為導向部件(導軌)的2條軌道8。2條軌道8各自配設在波紋管1內(nèi)部的上側(cè)及下側(cè)，以便與波紋管1內(nèi)面接近。為了減少占有空間，優(yōu)選軌道8為高度低的扁平狀。
在軌道8上沿其長邊方向移動自如地支撐作為移動部件主體的移動塊體10。在移動塊體10上分別安裝中間環(huán)5。因此，移動塊體10經(jīng)中間環(huán)5與波紋管1的內(nèi)面連接。
具體講，軌道8具有底面部8a，從底面部8a兩側(cè)立起的兩側(cè)面部8b、8b，將兩側(cè)面部8b、8b的上緣部向內(nèi)側(cè)對向彎曲后的法蘭部8c、8c。因此，軌道8具有由這些部分包圍的、橫截面大體呈C字狀的導向槽部8d。上側(cè)的軌道8的導向槽部8d朝向上方，下側(cè)軌道8的導向槽部8d朝向下方。
2條軌道8例如各自配設在插通波紋管1內(nèi)側(cè)的橫材(梁體)11上部和下部。圖示例的橫材11為了確保用于安裝可動框架(可動部)的驅(qū)動部件(參照圖7，后述)的空間，相對波紋管1內(nèi)的軸心偏心配設。
也可以只用1條軌道8取代2條軌道8作成配置在波紋管1內(nèi)上部的構(gòu)成，以便使其導向槽8d朝向上方。可是，如果2條軌道配置在波紋管1內(nèi)的上部和下部，則可以在使中間環(huán)5穩(wěn)定的支撐狀態(tài)下導向。
圖5A是從上方看圖1所示構(gòu)造的移動部件的立體圖。圖5B是從下方看圖5A所示的移動部件的立體圖。圖6A是示出圖1所示構(gòu)造的移動部件彼此抵接時的狀態(tài)的平面圖。圖6B是示出圖6A所示的移動部件彼此離開時的狀態(tài)的平面圖。
作為移動部件主體的移動塊體10以僅與中間環(huán)5對應的數(shù)串聯(lián)地、相互移動自如地配設在軌道8的導向槽部8d內(nèi)。移動塊體10在導向槽8d內(nèi)不脫落地滑動自如或行走自如地配設在其內(nèi)。此外，2只滾輪(車輪)12經(jīng)支軸12a旋轉(zhuǎn)自如地軸支于各移動塊體10上，以便在軌道8上轉(zhuǎn)動。如果移動塊體10可以在導向槽部8d內(nèi)平滑地滑動，則也可以省略滾輪12。
在移動塊體10的前側(cè)及后側(cè)點對稱地配設向行走方向突出的突出部10a、10b。2只滾輪12在移動塊體10的行走方向的前側(cè)和后側(cè)以單臂梁狀態(tài)通過支軸12a支撐在突出部10a、10b側(cè)面的大體中央部。換言之，即前側(cè)滾輪12及后側(cè)突出部10b和后側(cè)滾輪12及前側(cè)突出部10a(在右側(cè)及左側(cè)上)配置成夾持著向波紋管1軸向延伸的移動塊體10的中心線而對向。
通過在前后的移動塊體10的滾輪12相互接觸之前突出部10a、10b相互抵接，防止波紋管1的過縮。即，通過突出部10a、10b規(guī)定緊鄰的移動塊體10的最接近距離。在圖示例的情況下，如圖5A到圖6B所示，緊鄰的移動塊體10在同側(cè)(右側(cè)或左側(cè))配置突出部10a和10a或10b和10b。因此，緊鄰的移動塊體10通過突出部10a和10a或10b和10b彼此抵接，規(guī)定最接近距離。
此外，在軌道8的導向槽部8d內(nèi)，也如圖6B所示，配設用于防止波紋管1過延伸的平面大體呈コ字狀的鉤桿13。鉤桿13以規(guī)定間隔連接固定在波紋管1長邊方向緊鄰的移動塊體10彼此之間。即，通過鉤桿13規(guī)定緊鄰的移動塊體10的最大離開距離。在圖示的情況下，鉤桿13夾持向波紋管1的軸向延伸的塊10的中心線，左右交替地配置。即，如圖5B所示，關于連續(xù)的3個第一、第二及第三移動塊體10，如果第一及第二移動塊體10被右側(cè)的鉤桿13系住，則第二及第三移動塊體10被左側(cè)的鉤桿13系住。
具體講，鉤桿13以將長條棒材13a的兩端部向同方向大體呈直角彎曲作成鉤部13b、13b而成。在緊鄰的移動塊體10對向方向的突出部10a、10a(或10b、10b)下側(cè)上配設用于固定鉤桿13的鉤部13b的固定部10c(參照圖5B)。在移動塊體10的兩側(cè)部上配設用于允許鉤部13b移動的槽部10d。
鉤桿13以由法蘭部8c覆蓋的狀態(tài)沿著長邊方向不脫落地滑動自如地支撐在導向槽8d內(nèi)的兩側(cè)部上。各鉤桿13的長度優(yōu)選與緊鄰的移動塊體10彼此抵接時的兩移動塊體10長度大體相等的長度。據(jù)此，緊鄰的鉤桿13可以彼此不干擾，緊鄰的移動塊體10彼此抵接。即，可以充分確保波紋管1的縮量，在緊鄰的移動塊體10彼此離開時可以充分確保波紋管的伸量。
在各可動塊體10上大體中央部上突出設置用于固定中間環(huán)5的固定片部10e。在固定片部10e上通過螺絲或熔接安裝中間環(huán)5。
如上述所示，在該波紋管支撐構(gòu)造上，在波紋管1的中間處以一體或別體的方式配設1個以上中間環(huán)5。在波紋管1內(nèi)的內(nèi)面附近沿其長邊方向配設軌道8。在軌道8上沿其長邊方向移動自如地支撐移動塊體10。在移動塊體10上支撐中間環(huán)5。據(jù)此，可以防止粒子飛散。此外，可以確保在波紋管1內(nèi)充裕的空間，可以在波紋管1內(nèi)配置可動部的驅(qū)動部件等。
軌道8具有橫截面大體呈C字狀的導向槽部8d。軌道8沿水平方向配置在上部和下部，使導向槽部8d朝向上方和下方。因此可以經(jīng)中間環(huán)5，在水平狀態(tài)而且穩(wěn)定狀態(tài)下支撐波紋管1。
通過在波紋管1的長邊方向緊鄰的移動塊體10彼此抵接，防止波紋管1過縮。因此，可以簡單構(gòu)造，防止波紋管1過縮，實現(xiàn)構(gòu)造簡單化，提高耐久性及降低成本。
為了在軌道8上防止波紋管1過延伸，在波紋管1的長邊方向左右交替地配置以規(guī)定間隔連接固定緊鄰的移動塊體10彼此之間的、平面大體呈コ字形的鉤桿13。因此，可以簡單的構(gòu)造，防止波紋管1的過伸，實現(xiàn)構(gòu)造的簡單化、提高耐久性以及降低成本。
圖7是概略地示出本發(fā)明的實施方式的可動工作臺裝置的立體圖。
如圖7所示，配設該可動工作臺裝置15用于在例如真空室16內(nèi)進行被處理體例如半導體晶片的傳送。可動工作臺裝置15包含橫架在真空室16內(nèi)兩側(cè)壁17間的橫材(梁材)11。包圍橫材11的周圍，并且沿著橫材的長邊方向移動自如地配設可動框架18。為了沿著橫材11往復移動可動框架18，所以配設驅(qū)動部件20。配設一對波紋管1，覆蓋位于可動框架18兩側(cè)的橫材11。一對波紋管1，一端經(jīng)法蘭2固定在側(cè)壁17上，而且另一端經(jīng)法蘭3與可動框架18的端面連接。
波紋管1的支撐部件是與參照圖1到圖6B同樣的。即，如圖1到圖4所示，波紋管1由長邊方向伸縮自如的圓筒體構(gòu)成。在波紋管1的一端上配設用于把它固定在固定部例如真空室側(cè)壁上的法蘭2。在波紋管1的另一端上配設用于使它與可動框架18連接的法蘭3。波紋管1的中間處以一體或分體的方式配設1個以上(1或多個)作為中間支撐部的中間環(huán)5。
在波紋管1內(nèi)沿其長邊方向(軸向)水平地配設作為導向部件(導軌)的2條軌道8。2條軌道8以接近波紋管1的內(nèi)面的方式各自配設在波紋管1內(nèi)部的上側(cè)及下側(cè)上。在軌道8上沿其長邊方向移動自如地支撐作為移動部件主體的移動塊體10。在移動塊體10上分別安裝中間環(huán)。因此，移動塊體10經(jīng)中間環(huán)5，與波紋管1內(nèi)面連接。
如圖7所示，在橫材11的一側(cè)面上沿其長邊方向配設直線導向器21?？蓜涌蚣?8經(jīng)滑動體22滑動自如地支撐在直線導向器21上。作為驅(qū)動部件20在橫材11的一側(cè)面上沿其長邊方向，旋轉(zhuǎn)自如地安裝絲杠23。在與絲杠擰合的螺母部件25上固定可動框架18。在絲杠23一端上與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動用的馬達6連接。據(jù)此，通過絲杠23的旋轉(zhuǎn)經(jīng)螺母部件25可以使可動框架18沿水平方向移動。
波紋管1的內(nèi)部經(jīng)側(cè)壁17上形成的貫通孔27與大氣連通。即，驅(qū)動部件20或波紋管1的支撐構(gòu)造(支撐機構(gòu))處于波紋管1內(nèi)側(cè)的大氣側(cè)。因此，從驅(qū)動部件20或支撐構(gòu)造的滑動部產(chǎn)生的粒子不向真空室16內(nèi)飛散、懸浮而污染晶片。在可動框架18上經(jīng)升降機構(gòu)可配設分別保持一枚晶片并沿水平方向傳送的可旋轉(zhuǎn)及伸縮的傳送臂機構(gòu)(參照圖8)。
圖8是示出組裝有圖7所示的可動工作臺的半導體處理系統(tǒng)的局部剖開的立體圖。
如圖8所示，該半導體處理系統(tǒng)30沿水平一方向呈長筐體形成，內(nèi)部具有可設定在真空環(huán)境下的共用傳送室32(在圖7作為真空室16示出)。在共用傳送室32的一側(cè)面上連接用于對半導體晶片在真空環(huán)境下施以半導體處理的3個真空處理室34。共用傳送室32的另一側(cè)面上連接用于在傳送晶片之際的作為壓力緩沖室發(fā)揮功能的2個負載鎖定室(未圖示)。
與真空處理室34及負載鎖定室對應，在傳送室32的側(cè)面上形成用于運入運出作為被處理基板的半導體晶片W的出入口36。在各出入口36上配設用于氣密地隔開傳送室32和真空處理室34及負載鎖定室之間的閘閥G。
在共用傳送室32內(nèi)配設圖7所示的可動工作臺裝置15?？蓜庸ぷ髋_裝置15具有在可動框架18和可動框架18兩側(cè)上配設的一對波紋管1?？蓜涌蚣?8和一對波紋管1協(xié)動，在內(nèi)部形成氣密地與共用傳送室32內(nèi)的環(huán)境氣氛隔離的輔助空間42。該輔助空間42通過在共用傳送室32的兩端壁上形成開口38與大氣環(huán)境連通。
在可動框架18及波紋管1內(nèi)，即在輔助空間42內(nèi)配設圖7所示的驅(qū)動構(gòu)造及支撐構(gòu)造。通過這些內(nèi)部構(gòu)造，可動框架18可以在共用傳送室32的兩端壁間水平移動。此外，在可動框架18上，為了處理晶片W，經(jīng)升降機構(gòu)配設可旋轉(zhuǎn)及伸縮的傳送臂機構(gòu)45。通過傳送臂機構(gòu)45，經(jīng)出入口36可以對真空處理室34及負載鎖定室運入運出晶片W。
根據(jù)圖7及圖8所示的可動工作臺裝置15，在可動框架18兩側(cè)的波紋管1內(nèi)形成氣密地與真空室16、32的環(huán)境氣氛隔離的輔助空間42。在該輔助空間42內(nèi)配設可動框架18及波紋管1的驅(qū)動構(gòu)造及支撐構(gòu)造。在這樣的構(gòu)成下，經(jīng)可動框架18(在圖8經(jīng)傳送臂機構(gòu)45)進行晶片的移動或傳運。因此，可以防止真空室16、32內(nèi)的粒子飛散或粒子對晶片的污染。
以上，參照附圖，詳述了本發(fā)明的實施方式，然而本發(fā)明并不限于此，只要不脫離本發(fā)明的要旨的范圍，作各種設計變更是可能的。例如，在實施方式示出對波紋管作成水平的例子，但是本發(fā)明的波紋管支撐機構(gòu)可適用于波紋管作成垂直的情況。此外，在實施方式示出中間環(huán)為與波紋管不同的物體的示例，但是中間環(huán)也可以與波紋管一體形成。中間環(huán)(中間支撐部)和移動部件也可以是一體的或一體地形成。
在實施方式，作為導向部件(導軌)例示軌道，然而作為導軌也可以是將滾輪連在長邊方向的滾輪傳送帶(roller conveyer)(滾子軸承roller bearing)。這種情況下，移動部件在滾輪傳送帶上移動。軌道(導向部件)不限于上部和下部，也可以在左右配置。
作為設置可動工作臺的室不限于真空，也可以充填例如規(guī)定氣體(空氣、氣體等)或液體(水、藥液等)。室內(nèi)的壓力也可以是常壓、正壓、負壓。在具有腐蝕性的氣體環(huán)境中使用的情況下，波紋管不限于金屬制，也可以是具有耐蝕性的材質(zhì)，例如特氟隆(teflon聚四氟乙烯的登錄商標)制等。
工業(yè)上利用的可能性根據(jù)本發(fā)明的波紋管支撐構(gòu)造及可動工作臺裝置，可以防止粒子飛散，并確保波紋管內(nèi)充裕的空間。
權(quán)利要求
1.一種從內(nèi)側(cè)支撐波紋管的構(gòu)造，其特征在于，該構(gòu)造包括在所述波紋管內(nèi)部配設的而且沿著所述波紋管軸向延伸的導軌；沿著所述軸向可移動地配設在所述導軌上的移動部件；和實質(zhì)上連接所述移動部件和所述波紋管的中間支撐部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)造，其特征在于，所述導軌具備與所述波紋管內(nèi)面接近地分別配設在所述波紋管內(nèi)部的上側(cè)及下側(cè)的上側(cè)及下側(cè)軌道。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)造，其特征在于，所述移動部件分別具備可在所述導軌上行走且不從所述導軌脫落地安裝在所述導軌上的移動塊體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的構(gòu)造，其特征在于，所述導軌具有橫截面大體C字型的導向槽部，所述移動塊體可滑動地安裝在所述導向槽內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的構(gòu)造，其特征在于，所述移動部件具備在所述導軌上轉(zhuǎn)動地軸支在所述移動塊體的滾輪。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的構(gòu)造，其特征在于，包含；所述移動部件具備多個移動部件，所述多個移動部件沿著所述軸向可相互相對地移動，所述多個移動部件具備以在所述滾輪相互接觸前就相互抵接并規(guī)定所述多個移動部件彼此的最接近距離的方式配設的突出部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的構(gòu)造，其特征在于，所述滾輪軸支在所述突出部側(cè)面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的構(gòu)造包含，其特征在于，所述滾輪具備在所述移動塊體的前方及后方配設的第一及第二滾輪，所述第一及第二滾輪夾持沿著所述軸向延伸的所述移動塊體的中心線，相互不同地配設，所述突出部具備在所述移動塊體前方及后方配設的第一及第二突出部，所述第一及第二突出部夾持所述中心線相互不同地配設，緊鄰的2個移動部件的所述第一及第二突出部相對所述中心線位置倒轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的構(gòu)造，其特征在于，所述移動部件具備多個移動部件，所述多個移動部件沿著所述軸向可相互相對移動，所述構(gòu)造還具備與所述移動塊體接合的接合部件，其規(guī)定所述多個移動部件彼此的最遠離開距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的構(gòu)造，其特征在于，所述導軌具有橫截面大體呈C字狀的導向槽部，所述移動塊體以及所述接合部件可滑動地安裝在所述導向槽部內(nèi)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的構(gòu)造，其特征在于，對緊鄰的第一、第二及第三移動部件，所述接合部件具備規(guī)定所述第一及第二移動部件相互間最遠離開距離的第一鉤和規(guī)定所述第二及第三移動部件相互間最遠離開距離的第二鉤，所述第一及第二鉤夾持在所述軸向延伸的所述移動塊體的中心線而相互不同地配設。
12.一種可動工作臺裝置，其特征在于，用于在真空或充填有規(guī)定氣體或液體的室內(nèi)進行被處理體移動，該裝置具備在所述室內(nèi)的第一及第二側(cè)壁間配設的直線導向器；沿所述直線導向器的長邊方向可移動的可動框架，和所述直線導向器插通于所述可動框架內(nèi)；在所述可動框架和所述第一及第二側(cè)壁之間包圍所述直線導向器的一對波紋管，所述可動框架和所述一對波紋管協(xié)動，形成與所述室內(nèi)的其它部分氣密地隔離的輔助空間；沿著所述直線導向器移動所述可動框架的驅(qū)動部件；在所述一對波紋管內(nèi)部配設的、而且沿著所述一對波紋管軸向延伸的導軌；沿著所述軸向而可移動地配置在所述導軌上的移動部件；和實質(zhì)上連接所述移動部件和所述一對波紋管的中間支撐部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征在于，所述室內(nèi)是可設定在真空環(huán)境下，所述輔助空間與大氣壓環(huán)境氣氛連通。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的構(gòu)造，其特征在于，所述驅(qū)動部件配置在所述一對波紋管內(nèi)的規(guī)定位置上。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的構(gòu)造，其特征在于，為了對所述被處理體進行處理，還具備在所述可動框架上配設的可伸縮的傳送臂機構(gòu)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的構(gòu)造，其特征在于，還具備規(guī)定所述室的傳送室筐體，所述傳送室筐體與用于對所述被處理體施以半導體處理的處理裝置連接。
全文摘要
從內(nèi)側(cè)支撐波紋管(1)的構(gòu)造具有在波紋管內(nèi)部配設的、而且沿著波紋管軸向延伸的導軌(8)，沿著所述軸向，在導軌上可移動地配設移動部件(10)，移動部件和波紋管通過中間支撐部(5)連接。
文檔編號B65G49/07GK1701431SQ200480000878
公開日2005年11月23日 申請日期2004年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月28日
發(fā)明者廣木勤 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社