本發(fā)明涉及標簽膜，尤其涉及一種激光刻蝕膜及其制備方法。

背景技術：

1、傳統(tǒng)的銘牌或者標簽，都是金屬材料為主。制備時，首先需要對金屬材料進行模切，得到尺寸滿足要求的銘牌或者標簽，然后在表面進行印刷或者印刻內容，做成需要的銘牌或者標簽，最后金屬銘牌或者標簽需要在四個角位置利用四個鉚釘進行固定，或者焊接在機械設備上。因為這種固定方式比較繁瑣，目前市場上出現(xiàn)了柔性標簽。

2、柔性標簽主要材質為高分子薄膜，可以顯著提高標簽的模切速度，降低模切成本。背面自帶背膠，不需要鉚釘，直接就可以粘貼在指定表面，顯著提高效率。

3、而柔性標簽中，激光蝕刻標簽的技術難度大。為了實現(xiàn)標記，會使用激光顯色涂料，此涂料在激光作用下會變化顏色，而這種涂料技術難度很大，價格比較昂貴，故需要對上述問題做出改進。

技術實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明針對現(xiàn)有技術中存在的激光顯色涂料技術難度大、價格昂貴等缺陷，提供了新的一種激光刻蝕膜及其制備方法。

2、為了解決上述技術問題，本發(fā)明通過以下技術方案實現(xiàn)：

3、一種激光刻蝕膜，包括依次連接的保護層、金屬鍍層、紋理層、基材層、背膠層，所述金屬鍍層的厚度為0.01μm～1μm。

4、激光蝕刻膜就是激光標簽用的材料，激光蝕刻膜的原膜表面是沒有內容記錄的，通過激光打標機打印后，蝕刻膜表面記錄了打標內容，得到了標簽。

5、本發(fā)明通過多層結構設計，使用時，激光燒蝕金屬鍍層，透出紋理層顏色，從而實現(xiàn)了激光蝕刻效果，避免使用激光顯色涂料，使本發(fā)明大幅降低了成本。激光蝕刻時，光線首先到達保護層，然后到達金屬鍍層，通過控制激光的能量和脈寬，可以實現(xiàn)選擇性的燒蝕。金屬鍍層的厚度很薄，很容易在激光的燒蝕作用下汽化形成蝕刻軌跡，同時，因為所需的激光能量比較低，功率5w以下，使本發(fā)明的標簽打印速度更快，效率更高。

6、保護層具備耐磨損、耐污染性能，還具備優(yōu)異的抗老化性能、水氧阻隔性能。使本發(fā)明具備光澤度，具備抗刮、耐磨、耐污性能。保護層還對金屬鍍層的具有良好附著性。金屬鍍層帶有極強的光線反射作用，能夠把鍍層的金屬形貌呈現(xiàn)出來。紋理層具備裝飾效果，還對金屬鍍層的具有良好附著性。基材層是本發(fā)明的基礎結構層，起到承載的作用。背膠層用于將本發(fā)明貼合在更多機器、設備、工件的表面，并保證貼合的牢度。

7、本發(fā)明在裁切時，可以通過調整控制程序，增加激光功率，將整個膜材直接切斷，不用進行模切。本發(fā)明的標簽具備防偽性和自毀性，有效地杜絕了后期標簽被篡改和替換。防偽是通過印刷或者激光鐳雕的方式在蝕刻膜表面制備防偽標識。自毀性體現(xiàn)在，本發(fā)明的標簽第一次粘貼后不能二次利用，因剝離過程中標簽就會發(fā)生破壞，標記內容會受損，從而實現(xiàn)自毀和信息防篡改。本發(fā)明可以實現(xiàn)銀色表面打印黑色字體，字體顏色還可以定制，實現(xiàn)標簽的差異化。

8、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述金屬鍍層為真空蒸鍍沉積成型。

9、真空蒸鍍技術能夠確保金屬鍍層在基材表面的均勻分布，形成連續(xù)且無缺陷的薄膜。通過真空蒸鍍沉積，金屬鍍層與其他層之間的附著力得到增強，提高了整體結構的穩(wěn)定性和耐用性。真空蒸鍍沉積技術允許精確控制金屬鍍層的厚度，有助于實現(xiàn)激光刻蝕的精細度和深度控制。金屬鍍層具有高反射率，能夠提高標簽的視覺效果，使得激光蝕刻后的紋理層顏色更加鮮明。與傳統(tǒng)的電鍍或化學鍍相比，真空蒸鍍技術可以減少材料浪費和環(huán)境污染，同時降低生產成本。

10、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述金屬鍍層的材質為鋁或鎳或銅或不銹鋼。

11、多種金屬材質選擇，滿足更多應用場景的需求，增加產品的適用性和靈活性。鋁、鎳、銅和不銹鋼等金屬材質具有良好的耐腐蝕性，可以提高激光刻蝕膜在各種環(huán)境下的耐用性。而且這些金屬材質都具有較高的反射率，有助于提升激光刻蝕后的視覺效果，使得蝕刻圖案更加清晰可見。這些金屬材質在加工過程中具有良好的延展性和成型性，有利于實現(xiàn)高精度的激光刻蝕效果。這些金屬材質在高溫下具有良好的熱穩(wěn)定性，有助于在激光刻蝕過程中保持材料的穩(wěn)定性，減少熱變形。

12、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述保護層的厚度為3μm～20μm，所述保護層為聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層。

13、保護層的厚度在3μm～20μm范圍，提供了更好的物理保護，增強了激光刻蝕膜的耐磨性。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層具有良好的耐化學腐蝕性，能夠抵抗多種化學物質的侵蝕。uv型涂層能夠有效阻擋紫外線，保護激光刻蝕膜免受紫外線引起的老化和褪色，延長了激光刻蝕膜的使用壽命。uv型涂層通常具有較高的光澤度，可以提升激光刻蝕膜的表面美觀度。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層與金屬鍍層之間具有強附著力，確保了整體結構的穩(wěn)定性。保護層能夠防止污染物滲透，保持激光刻蝕膜的清潔度和清晰度。保護層能夠阻隔水分和氧氣，防止激光刻蝕膜受到水氧侵蝕，保持激光刻蝕膜的長期穩(wěn)定性。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層具有良好的耐溫性能，適用于更多環(huán)境條件。

14、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述紋理層的厚度為5μm～20μm，所述紋理層的紋理深度為1μm～10μm，所述紋理層的紋理為金屬拉絲紋理或金屬磨砂紋理，所述紋理層的材質為含有1％～10％uv色漿的uv樹脂。

15、紋理層的厚度和紋理深度的精確控制，提供了精細的裝飾效果，增強了產品的視覺吸引力。金屬拉絲紋理和金屬磨砂紋理提供了多樣化的表面處理選項，滿足更多需求。紋理層的紋理深度設計，增加了產品的立體感和層次感，提升了產品的外觀質感。紋理層的特定厚度和材質配合激光蝕刻技術，可以實現(xiàn)清晰的標記效果。含有1％～10％uv色漿的uv樹脂材質，允許改變紋理層的顏色，增加產品的多樣性。uv樹脂與金屬鍍層和基材層之間具有良好附著力，確保了整體結構的穩(wěn)定性。uv樹脂的快速固化特性，提高了生產效率，適合大規(guī)模生產。uv樹脂固化過程中不產生有害物質，符合環(huán)保要求。uv樹脂具有良好的抗老化性能，延長了產品的使用壽命。紋理層的厚度和材質可以根據不同的應用需求進行調整，以適應更多使用環(huán)境。

16、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述基材層的厚度為30μm～100μm，所述基材層的材質為pet或pc或亞克力。

17、基材層的厚度范圍提供了足夠的物理強度和結構穩(wěn)定性，確保了激光刻蝕膜的整體耐用性和可靠性。pet、pc、亞克力實現(xiàn)了更多的應用需求選擇。pet、pc、亞克力具有良好的透明度和光澤度，有助于提升最終產品的外觀質量。pet、pc、亞克力易于加工，后續(xù)處理更便捷。pet、pc、亞克力具有良好的耐化學腐蝕性，能夠抵抗日常使用中可能遇到的化學物質。pet、pc、亞克力能夠在大范圍的溫度內保持穩(wěn)定，適合在更多環(huán)境條件下使用。pet、pc、亞克力在工業(yè)生產中廣泛使用，具有較好的成本效益，有助于降低生產成本。pet、pc、亞克力在廢棄后易于回收利用，有助于減少對環(huán)境的影響。基材層的厚度和材質提供了良好的抗沖擊性，使產品能夠承受一定程度的物理沖擊?；膶泳邆錈岱€(wěn)定性，以避免在激光刻蝕過程中因溫度變化而發(fā)生形變。pet、pc、亞克力的密度較低，使得激光刻蝕膜輕便，便于攜帶和使用?；膶涌梢愿鶕煌氖褂靡笳{整厚度，以適應不同的負載和應用條件?；膶拥牟馁|與保護層、金屬鍍層、紋理層和背膠層具有良好的兼容性，確保了整體結構的完整性和功能性。

18、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述背膠層的厚度為20μm～40μm，所述背膠層的外表面設置有離型層。

19、背膠層在上述厚度范圍提供了足夠的粘附力，確保激光刻蝕膜能夠牢固地粘貼在各種表面上。離型層的存在保護背膠層不受污染和損傷，保持其粘性，延長產品使用壽命。背膠層的厚度和材質可以根據不同的粘貼表面和環(huán)境條件進行調整，以實現(xiàn)最佳粘貼效果。背膠層在上述厚度范圍有助于在粘貼過程中減少空氣泡的產生，確保標簽平滑貼合。

20、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，包括以下步驟：

21、s1、取基材層，在基材層的上表面做uv轉印加工，制得紋理層，紋理層的材質為含有1％～10％uv色漿的uv樹脂；

22、s2、在紋理層的表面進行真空蒸鍍沉積，得到金屬鍍層；

23、s3、在金屬鍍層的表面進行涂布，形成保護層；

24、s4、在基材層的下表面做背膠處理，再貼合離型層，形成背膠層，得到激光刻蝕膜。

25、通過uv轉印加工快速制得紋理層，提高了生產效率，縮短了生產周期。uv轉印技術允許精確控制紋理層的厚度和圖案，確保了產品的一致性和高質量。使用含有1％～10％uv色漿的uv樹脂作為紋理層材質，保證了與后續(xù)工藝的兼容性。uv樹脂中的uv色漿提供了可定制的色彩選擇，可以改變標簽字體顏色，增強了產品的裝飾效果。通過多層結構設計，實現(xiàn)了保護層、金屬鍍層和紋理層的有機結合，提升了整體性能。uv固化技術相比傳統(tǒng)溶劑型涂料更為環(huán)保，減少了vocs的排放。制備方法中的各步驟適合自動化生產線，提高了生產效率和降低了人工成本。uv樹脂的快速固化特性，加快了生產流程，提高了生產速度。本發(fā)明通過優(yōu)化的制備工藝，在保證產品質量的同時降低生產成本。使用時，通過調整激光功率，可以直接切斷膜材，無需額外的模切工藝，提高了使用效率。

26、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，步驟s2中，真空蒸鍍沉積采用卷對卷式真空電鍍設備，步驟s3中，涂布采用微凹涂布方式。

27、卷對卷式真空電鍍設備支持連續(xù)生產，提高了生產效率和產量。卷對卷式設備能夠保證金屬鍍層在基材上的均勻分布，避免局部過厚或過薄的問題。卷對卷式工藝允許在較高的速度下進行生產，縮短了單個產品的生產時間。卷對卷式設備減少了材料的浪費，提高了材料利用率。卷對卷式設備通常與自動化控制系統(tǒng)相結合，減少了人工干預，降低了人為錯誤。微凹涂布方式能夠精確控制涂布量，保障保護層的均勻性和一致性。微凹涂布技術提供了平滑且無氣泡的涂層表面，提高了最終產品的外觀和性能。微凹涂布方式適用更多粘度的涂料，增加了工藝的適應性。微凹涂布減少了涂層過程中可能出現(xiàn)的缺陷，如橘皮效應或針孔。卷對卷式真空電鍍和微凹涂布工藝減少了溶劑的使用，更加環(huán)保。卷對卷式設備和微凹涂布技術易于擴展到更大的生產規(guī)模，提高生產效率。卷對卷式設備可以適應更多寬度和形狀的材料，提高了生產的適用性。

28、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，步驟s1中，uv轉印速度為8m/min～10m/min，步驟s2中，真空蒸鍍沉積的鍍膜速度200m/min～300m/min。

29、uv轉印和真空蒸鍍的高速度確保了生產過程的快速進行，顯著提高了生產效率。快速的轉印和鍍膜速度減少了單個產品在生產線上的停留時間，縮短了整體生產周期。提高速度可以在不增加設備和人力的情況下增加產量，有助于降低單位產品的生產成本。在上述范圍的速度下進行uv轉印和真空蒸鍍，有助于保持涂層的均勻性和紋理層的質量。