一種物理研磨組合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種物理研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì)：烷基芳基碘酸鈉11-13份，磷酸三鈉9-14份，硫酸3-8份，烷基芳基磺酸鈉9-15份，空心玻璃微珠2-3份，抗氧劑1-2份，親水基表面活性劑9-15份，磷化液4-6份，納米石墨粉1-2份，氨水7-13份，聚丙烯7-10份，聚乙烯9-16份，氫氧化鋁7-13份，山梨醇11-18份，甘油1-8份，氯化鈣2-5份。本發(fā)明的化學機械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料，可以降低化學機械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力，使化學機械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合。
【專利說明】一種物理研磨組合物

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種物理研磨組合物。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導體制造中，化學機械研磨(CMP)技術(shù)可以實現(xiàn)整個晶圓的平坦化，成為芯片制造工藝中重要的步驟之一。在化學機械研磨中，化學機械研磨劑(Slurry)是化學機械研磨技術(shù)的關(guān)鍵要素之一，其性能直接影響拋光后表面的質(zhì)量。設(shè)計化學機械研磨劑時，希望能達到去除速率高、平面度好、膜厚均勻、無殘留、缺陷少等效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種物理研磨組合物。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種物理研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):烷基芳基碘酸鈉11-13份，磷酸三鈉9-14份，硫酸3-8份，烷基芳基磺酸鈉9-15份，空心玻璃微珠2-3份，抗氧劑1-2份，親水基表面活性劑9-15份，磷化液4-6份，納米石墨粉1-2份，氨水7-13份，聚丙烯
7-10份，聚乙烯9-16份，氫氧化鋁7-13份，山梨醇11-18份，甘油1-8份，氯化鈣2-5份。
[0005]本發(fā)明的化學機械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料，可以降低化學機械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力，使化學機械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合，從而減少琉水性薄膜表面上的殘留物和顆粒等缺陷，改善化學機械研磨的效果。

【具體實施方式】
[0006]實施例1
一種物理研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):烷基芳基碘酸鈉11-13份，磷酸三鈉9-14份，硫酸3-8份，烷基芳基磺酸鈉9-15份，空心玻璃微珠2-3份，抗氧劑1-2份，親水基表面活性劑9-15份，磷化液4-6份，納米石墨粉1-2份，氨水7-13份，聚丙烯
7-10份，聚乙烯9-16份，氫氧化鋁7-13份，山梨醇11-18份，甘油1-8份，氯化鈣2-5份。
【權(quán)利要求】
1.一種物理研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):烷基芳基碘酸鈉11-13份，磷酸三鈉9-14 份，硫酸3-8份，烷基芳基磺酸鈉9-15份，空心玻璃微珠2-3份，抗氧劑1-2份，親水基表面活性劑9-15份，磷化液4-6份，納米石墨粉1-2份，氨水7-13份，聚丙烯7-10份，聚乙烯9-16份，氫氧化鋁7-13份，山梨醇11-18份，甘油1-8份，氯化鈣2-5份。
【文檔編號】C09K3/14GK104046319SQ201410282411
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月23日
【發(fā)明者】范向奎 申請人:青島寶泰新能源科技有限公司