專利名稱：貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置、包括上述裝置的用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備及使用上述裝置制 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于光盤(pán)旋涂的裝置，更具體地說(shuō)，涉及一種即使在受到光致固化樹(shù)脂沾污時(shí)也可通過(guò)包含永磁體而易于貼附和移離蓋住光盤(pán)中心孔的蓋的用于光盤(pán)旋涂的裝置，本發(fā)明還涉及一種包括上述裝置的用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備，以及一種使用用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置制造光盤(pán)的方法。
背景技術(shù)：
光盤(pán)是用于記錄/復(fù)制信息的光學(xué)儲(chǔ)存裝置。光盤(pán)的例子包括具有600～800MB存儲(chǔ)容量的高密度盤(pán)(CD)和具有4～10GB存儲(chǔ)容量的數(shù)字通用盤(pán)(DVD)。最近，為了存儲(chǔ)更多的數(shù)據(jù)以及獲得更高的聲頻和視頻質(zhì)量，使用405nm的藍(lán)色激光技術(shù)，已開(kāi)發(fā)出具有20GB或更大存儲(chǔ)容量的藍(lán)光光盤(pán)(BD)或HD-DVD。
為了提高光盤(pán)的記錄密度，使用了各種方法。在這點(diǎn)上，一種可能性是使光點(diǎn)(light spot)的尺寸減至最小，這根據(jù)下面公式通過(guò)控制激光的波長(zhǎng)和透鏡的數(shù)值孔徑而實(shí)現(xiàn)。
D∝1.22λ/NA…(1)F∝λ/NA2…(2)f∝A/2NA…(3)
其中D為光點(diǎn)的直徑，λ為激光的波長(zhǎng)，NA為透鏡的數(shù)值孔徑，F(xiàn)為焦深，f為焦距，以及A為透鏡的直徑。
如公式1所示，當(dāng)減小激光的波長(zhǎng)并且增加透鏡的數(shù)值孔徑時(shí)，光點(diǎn)的尺寸減小，盤(pán)的凹坑(pit)和相應(yīng)軌道(track)的尺寸減小，并且記錄密度與光點(diǎn)尺寸的平方成反比例地增加。另一方面，如公式2和3所示，當(dāng)減小波長(zhǎng)并增加數(shù)值孔徑時(shí)，焦深減小，并且焦距減少。
更確切地說(shuō)，BD與DVD相比，BD具有更小直徑、焦深和焦距的光點(diǎn)；DVD與CD相比，DVD具有更小直徑、焦深和焦距的光點(diǎn)。當(dāng)減小焦深和焦距時(shí)，復(fù)制特性變得更依賴于光盤(pán)的光入射表面的狀態(tài)。因此，入射表面應(yīng)當(dāng)避免刮擦，并且光盤(pán)厚度的變化應(yīng)當(dāng)非常小。
同時(shí)，在制造光盤(pán)的方法中，通過(guò)旋涂法形成透光層、保護(hù)層、漆層等。使用旋涂法具有許多優(yōu)勢(shì)。例如，在旋涂后除去的樹(shù)脂可在設(shè)備中再循環(huán)利用，以及通過(guò)控制旋涂的時(shí)間和樹(shù)脂的粘度可使透光層等具有各種厚度。
圖1為說(shuō)明透光層的厚度相對(duì)于基片中心與將光致固化樹(shù)脂釋放至基片上的位置之間的距離的曲線圖。參考圖1，該距離從5至25mm變化并且以5mm遞增。數(shù)字′31′表示該距離為5mm的情況，數(shù)字′32′表示該距離為10mm的情況，數(shù)字′33′表示該距離為15mm的情況，數(shù)字′34′表示該距離為20mm的情況，以及數(shù)字′35′表示該距離為25mm的情況。如圖1所示，當(dāng)將光致固化樹(shù)脂釋放至基片上的位置離基片的內(nèi)圓周更近時(shí)，透光層厚度的變化減小。理論上，當(dāng)釋放位置與基片中心一致時(shí)，可獲得沒(méi)有厚度變化的透光層。
在制造CD的方法中，通過(guò)濺射法在具有1.2mm厚度的聚碳酸酯基片上形成記錄層和反射層，然后因?yàn)榧す獾慕咕噙^(guò)長(zhǎng)，所以通過(guò)旋涂法在其上形成薄漆層以保護(hù)記錄層、反射層等。因?yàn)槠釋拥暮穸刃≈?～5μm，所以即使出現(xiàn)厚度變化時(shí)，該變化也很小。另外，記錄或復(fù)制光束從聚碳酸酯基片的較低部位輸入，從而即使在最高層即漆層的厚度變化時(shí)，在數(shù)據(jù)復(fù)制過(guò)程中也不會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)誤。因此，當(dāng)通過(guò)旋涂法形成漆層時(shí)，不需要在光盤(pán)中心釋放光致固化樹(shù)脂。
然而，在使用藍(lán)色激光制造具有較高集成容量的BD的方法中，因?yàn)榻咕喾浅６潭鴶?shù)據(jù)的集成度提高了，所以在1.1mm厚的聚碳酸酯上形成反射層、記錄層等，然后在其上形成0.1mm厚的透光層，復(fù)制光束通過(guò)該透光層輸入。因此，BD的復(fù)制特性非常依賴于透光層的表面狀態(tài)和厚度變化。
可通過(guò)使用減壓粘合劑(reduced pressure adhesive)或可紫外線固化的粘合劑粘結(jié)由聚碳酸酯制成的0.1mm厚的透光片而形成透光層。然而，在此情況下，因?yàn)閷⒐獗P(pán)粘結(jié)至較大的片材上并除去殘留的部分，所以浪費(fèi)了大量的片材，增加了制造成本，并且增加了環(huán)境負(fù)荷。由于這些問(wèn)題，旋涂法被主要用于形成透光層。
參考圖1所示，當(dāng)通過(guò)在離開(kāi)光盤(pán)中心的預(yù)定位置處循環(huán)地釋放光致固化樹(shù)脂而進(jìn)行旋涂時(shí)，樹(shù)脂層的厚度從光盤(pán)中心向外增加。當(dāng)BD中出現(xiàn)這樣的厚度增加時(shí)，數(shù)據(jù)復(fù)制可能出錯(cuò)。為了避免這個(gè)問(wèn)題，必須在旋轉(zhuǎn)盤(pán)中心釋放光致固化樹(shù)脂。然而，因?yàn)槌Ｒ?guī)光盤(pán)在其中心具有孔，就產(chǎn)生另一個(gè)問(wèn)題，即，光致固化樹(shù)脂可泄漏到該孔中。因此，已開(kāi)發(fā)了許多技術(shù)以阻止光致固化樹(shù)脂泄漏至該孔中。
例如，根據(jù)日本專利公開(kāi)No.1998-289489，用蓋蓋住光盤(pán)中心孔，然后在完成旋涂后使用電磁鐵移離該蓋。然而，在此情況下，因?yàn)樵陉P(guān)掉電源時(shí)，電磁鐵受到涂在蓋表面上的樹(shù)脂的沾污，所以該蓋持久地粘附在電磁鐵上。
根據(jù)美國(guó)專利No.6689415，為了蓋住光盤(pán)中心孔，使用在光盤(pán)中心處設(shè)置的支承軸將蓋貼附至光盤(pán)上或?qū)⑸w移離光盤(pán)。然而，與使用電磁鐵進(jìn)行貼附蓋和移離蓋的操作相比，使用支承軸的效率非常低。另外，因?yàn)橹С休S設(shè)置在蓋的中心，所以不能將光致固化樹(shù)脂涂在光盤(pán)中心，這樣涂層可能出現(xiàn)厚度變化。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題本發(fā)明提供了一種用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，該裝置阻止了起因于樹(shù)脂的沾污，并且能夠容易地貼附蓋和移離蓋，從而提高了生產(chǎn)效率。
本發(fā)明還提供了一種用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備，該設(shè)備包括用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置。
本發(fā)明又提供了一種使用用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置制造光盤(pán)的方法。
技術(shù)方案根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，該蓋被貼附至光盤(pán)中心孔和移離光盤(pán)中心孔，該裝置包括導(dǎo)引構(gòu)件，其能接近蓋的上部并從蓋的上部退回；以及永磁體構(gòu)件，其與導(dǎo)引構(gòu)件連接，從而使永磁體構(gòu)件能從導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性結(jié)合的位置滑行至導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性分離的位置。
所述的導(dǎo)引構(gòu)件可為管狀，并形成永磁體構(gòu)件滑行的移動(dòng)空間。
所述的永磁體構(gòu)件可包括活塞頭狀的永磁體和桿狀的支承構(gòu)件，該支承構(gòu)件的一端與永磁體連結(jié)，另一端與導(dǎo)引構(gòu)件的外部連結(jié)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備，該設(shè)備包括在其上放置光盤(pán)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)；蓋住光盤(pán)中心孔的蓋；以及用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置。
根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，提供了一種制造光盤(pán)的方法，該方法包括使用蓋蓋住光盤(pán)中心孔；將光致固化樹(shù)脂釋放至蓋的中心上；以及通過(guò)旋轉(zhuǎn)光盤(pán)使光致固化樹(shù)脂在光盤(pán)的整個(gè)表面上展開(kāi)以形成保護(hù)層，該方法包括使用上述裝置貼附蓋或移離蓋。


通過(guò)參考附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)的描述，本發(fā)明的上述和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將變得更顯而易見(jiàn)，其中圖1為說(shuō)明透光層的厚度相對(duì)于基片中心與釋放光致固化樹(shù)脂的位置之間的距離的曲線圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置的示意圖；圖3圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的導(dǎo)引構(gòu)件的端部的示例性形狀；
圖4圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的將蓋安置至光盤(pán)基片中心孔上的方法；圖5圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的在將蓋蓋至光盤(pán)基片中心孔上后通過(guò)提起永磁體構(gòu)件而消除電磁連接的方法；圖6圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的導(dǎo)引構(gòu)件與蓋的上部分開(kāi)的方法；圖7圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的在貼附蓋之后旋涂光致固化樹(shù)脂的方法；以及圖8圖示了根據(jù)比較實(shí)施例的使用電磁鐵貼附蓋的方法。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參考附圖將對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述。
根據(jù)本發(fā)明的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，該蓋被貼附至光盤(pán)中心孔和移離光盤(pán)中心孔，該裝置包括導(dǎo)引構(gòu)件，其能接近蓋的上部并從蓋的上部退回；以及永磁體構(gòu)件，其與導(dǎo)引構(gòu)件連接，從而使永磁體構(gòu)件能從導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性結(jié)合的位置滑行至導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性分離的位置。
圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置的示意圖。永磁體構(gòu)件21包括活塞頭狀的永磁體22和與永磁體22連接的桿狀支承構(gòu)件23。但是，永磁體構(gòu)件21的形狀不受此限制，并且可對(duì)永磁體構(gòu)件21進(jìn)行對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員公知的任何改變。例如，永磁體22和支承構(gòu)件23可形成由永磁體形成的圓柱狀結(jié)構(gòu)。同時(shí)，因?yàn)橹С袠?gòu)件23的端部與導(dǎo)引構(gòu)件25的外部例如回轉(zhuǎn)馬達(dá)和凸輪的軸連接，所以支承構(gòu)件23可在導(dǎo)引構(gòu)件25中上下滑行。
管狀的導(dǎo)引構(gòu)件25具有用于在其中移動(dòng)的空間。導(dǎo)引構(gòu)件25可具有諸如三角形、四邊形、五邊形等的多邊形結(jié)構(gòu)或圓形的橫截面。但是，導(dǎo)引構(gòu)件25的形狀不受此限制。
當(dāng)使用用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置貼附蓋10時(shí)，首先將導(dǎo)引構(gòu)件25放置在蓋10的上部，然后在導(dǎo)引構(gòu)件25內(nèi)部的永磁體構(gòu)件21向下滑行，從而使永磁體構(gòu)件21的下表面與蓋10的上表面磁性地結(jié)合。該磁性結(jié)合并不表示永磁體構(gòu)件21必須與蓋10直接接觸。就是說(shuō)，盡管永磁體構(gòu)件21不與蓋10直接接觸，但通過(guò)磁力蓋10可被吸附至永磁體構(gòu)件21上。通過(guò)移動(dòng)與蓋10磁性結(jié)合的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置而將蓋10安置在光盤(pán)基片中心孔上。其后，在導(dǎo)引構(gòu)件25內(nèi)部的永磁體21向上滑行至消除磁性連接的位置，從而與蓋10分開(kāi)。
如圖3所示，導(dǎo)引構(gòu)件25的端部可具有使蓋10的上表面與導(dǎo)引構(gòu)件20之間的接觸表面最小化而形成的形狀。但是，導(dǎo)引構(gòu)件25的端部的形狀不受此限制。
圖4圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的將蓋10安置至光盤(pán)基片11的中心孔上的方法。將光盤(pán)基片11放置在轉(zhuǎn)臺(tái)20上，然后使用用于貼附和移離蓋的裝置將蓋10安置至光盤(pán)基片11的中心孔上，從而蓋住光盤(pán)基片11的中心孔。在圖5中，用于貼附和移離蓋的裝置與蓋10分離。詳細(xì)地說(shuō)，在將蓋10安置至光盤(pán)基片11的中心孔上之后，在導(dǎo)引構(gòu)件20內(nèi)部的永磁體構(gòu)件21向上滑行至消除磁性連接的位置，從而與蓋10分開(kāi)。在圖6中，導(dǎo)引構(gòu)件25與蓋10的上表面分離。其結(jié)果，完成了旋涂的前工序。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備包括可在其上放置光盤(pán)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)；蓋住光盤(pán)中心孔的蓋；以及用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置。
所述的轉(zhuǎn)臺(tái)可由本領(lǐng)域常用的任何材料制成。所述蓋可由諸如金屬等的磁性材料形成，從而可通過(guò)永磁體將蓋貼附至光盤(pán)并與光盤(pán)分離。
在將蓋安置至光盤(pán)中心孔上之后，通過(guò)在它們之間施加真空壓力而使蓋和光盤(pán)固定不動(dòng)。在此情況下，在移離蓋之前，必須除去真空壓力。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的涂覆光盤(pán)的方法中，使用蓋蓋住光盤(pán)中心孔，將光致固化樹(shù)脂釋放在蓋的中心上表面上，然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)光盤(pán)使釋放出的光致固化樹(shù)脂在光盤(pán)的整個(gè)表面上展開(kāi)，從而形成保護(hù)層。在該方法中，使用根據(jù)本發(fā)明的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置貼附或移離蓋。
根據(jù)本發(fā)明的用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備和制造光盤(pán)的方法可用于制造一次性寫(xiě)入多次讀出(WORM)型光盤(pán)和包括記錄層的可擦寫(xiě)型光盤(pán)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)光盤(pán)和包括通過(guò)旋涂法形成的透光層的任何光盤(pán)。為了改善光盤(pán)的機(jī)械特性，該設(shè)備還可用于形成除透光層之外的保護(hù)層、中間層、漆層等。
圖7圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的在貼附蓋10之后旋涂光致固化樹(shù)脂40的方法。參考圖7，通過(guò)噴嘴30向蓋10的中心釋放光致固化樹(shù)脂40，然后通過(guò)以約20至100rpm的相對(duì)較低的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)臺(tái)20而進(jìn)行旋涂。在釋放光致固化樹(shù)脂40完成后，提高旋轉(zhuǎn)速度以制備均勻的透光層。旋轉(zhuǎn)速度與將形成的透光層的厚度密切相關(guān)。即，提高旋轉(zhuǎn)速度時(shí)，透光層的厚度減小。本領(lǐng)域通用的任何光致固化樹(shù)脂可用于本發(fā)明。例如，主要使用?；瘶?shù)脂(acylate resin)。
在旋涂光致固化樹(shù)脂40后，必須移離蓋10。可在光致固化樹(shù)脂硬化前或后移去蓋10。然而，在光致固化樹(shù)脂硬化后移去蓋10時(shí)，可損壞蓋10與透光層之間的分界面，從而形成毛刺。因此，優(yōu)選的是，在光致固化樹(shù)脂硬化前移去蓋10。當(dāng)轉(zhuǎn)臺(tái)20旋轉(zhuǎn)時(shí)，為了移離蓋10，將用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置放置在蓋10的上部。但是，優(yōu)選在轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)得更慢或停止時(shí)。
參考下面實(shí)施例將對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。然而，下面實(shí)施例僅用于說(shuō)明性目的，而沒(méi)有限制本發(fā)明的范圍。
實(shí)施例1首先通過(guò)濺射法在具有1.1mm厚度、120mm外徑和15mm內(nèi)徑(中心孔的直徑)的投射(projection)模制聚碳酸酯(PC)光盤(pán)基片上形成銀合金/ZnS-SiO2/SbGeTe/ZnS-SiO2的四層結(jié)構(gòu)而制造光盤(pán)。然后，將光盤(pán)放置在轉(zhuǎn)臺(tái)上，再使用用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置將蓋安置至光盤(pán)中心孔上。其后，固定導(dǎo)引構(gòu)件，再提起導(dǎo)引構(gòu)件內(nèi)部的永磁體構(gòu)件，從而消除磁性連接并完全安置好該蓋。隨后，在通過(guò)真空壓力使蓋和光盤(pán)固定不動(dòng)之后，旋涂含EB 8402(從SK UCB Co.，Ltd獲得)、Irgacure 184(從Ciba SC Co.，Ltd.獲得)、Irgacure 651(從Ciba SC Co.，Ltd獲得)和甲基·乙基(甲)酮的可紫外線固化的樹(shù)脂，從而形成具有100的透光層。然后，通過(guò)除去用于固定光盤(pán)和蓋的真空壓力而使蓋與光盤(pán)分離。然后，將用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置的導(dǎo)引構(gòu)件放置在蓋的上表面上，在導(dǎo)引構(gòu)件內(nèi)部的永磁體下降以與蓋磁性地結(jié)合，并提起用于貼附和移離蓋的裝置，從而使蓋與光盤(pán)分開(kāi)。最后，用UV線輻照所得到的產(chǎn)品，使光致固化樹(shù)脂硬化。當(dāng)所得到的光盤(pán)重復(fù)旋涂幾十次時(shí)，根據(jù)本實(shí)施方式的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置能夠與蓋分開(kāi)。
比較實(shí)施例1除了使用電磁鐵用于貼附和移離蓋的常規(guī)裝置代替根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置的使用之外，以與實(shí)施例1相同的方法制造光盤(pán)。圖8圖示了在旋涂之后彼此結(jié)合的由電磁鐵制成的用于貼附和移離蓋的常規(guī)裝置與蓋。然而，在此情況下，當(dāng)將涂覆樹(shù)脂的蓋放置在另一個(gè)將涂覆的光盤(pán)上時(shí)，即使在關(guān)掉電磁鐵的電源時(shí)，由于該樹(shù)脂的粘性，蓋仍與電磁鐵持久地結(jié)合。
盡管參考示例性實(shí)施方式已對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了具體地圖示和描述，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解，在不偏離如下面權(quán)利要求所限制的本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和范圍的情況下，可對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種各樣的形式和細(xì)節(jié)上的改變。
工業(yè)實(shí)用性通過(guò)使用用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，即使在光致固化樹(shù)脂的粘度較高時(shí)，也可容易地貼附和移離蓋。另外，使用根據(jù)本發(fā)明的用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備和制造光盤(pán)的方法達(dá)到高生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求
1.一種用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，該蓋被貼附至光盤(pán)中心孔和移離光盤(pán)中心孔，所述裝置包括導(dǎo)引構(gòu)件，其能接近蓋的上部并從蓋的上部退回；以及永磁體構(gòu)件，其與所述導(dǎo)引構(gòu)件連接，從而使永磁體構(gòu)件能從導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性結(jié)合的位置滑行至導(dǎo)引構(gòu)件可與蓋磁性分離的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述的導(dǎo)引構(gòu)件為管狀，并形成永磁體構(gòu)件滑行的移動(dòng)空間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述的永磁體構(gòu)件包括活塞頭狀的永磁體和桿狀的支承構(gòu)件，該支承構(gòu)件的一端與永磁體連結(jié)，另一端與導(dǎo)引構(gòu)件的外部連結(jié)。
4.一種用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備，該設(shè)備包括在其上放置光盤(pán)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)；蓋住光盤(pán)中心孔的蓋；以及根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置。
5.一種制造光盤(pán)的方法，該方法包括使用蓋蓋住光盤(pán)中心孔；將光致固化樹(shù)脂釋放至蓋的中心上；以及通過(guò)旋轉(zhuǎn)光盤(pán)使光致固化樹(shù)脂在光盤(pán)的整個(gè)表面上展開(kāi)以形成保護(hù)層，該方法包括使用根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝置貼附或移離所述的蓋。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，在受到光致固化樹(shù)脂沾污時(shí)，該裝置通過(guò)包含永磁體而易于貼附和移離蓋住光盤(pán)中心孔的蓋，本發(fā)明還提供了一種包括上述裝置的用于旋涂的設(shè)備，以及一種使用該用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置制造光盤(pán)的方法。通過(guò)使用該用于貼附和移離光盤(pán)旋涂蓋的裝置，即使在光致固化樹(shù)脂粘度較高時(shí)，在旋涂前、后該蓋也可容易地被貼附至光盤(pán)上和移離光盤(pán)。另外，使用該用于光盤(pán)旋涂的設(shè)備和該制造光盤(pán)的方法達(dá)到高的生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)B05D5/06GK1898734SQ200580001348
公開(kāi)日2007年1月17日 申請(qǐng)日期2005年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月18日
發(fā)明者姜太植, 韓美英, 李成根, 張城勛, 徐勛, 李光烈, 洪瑛晙 申請(qǐng)人:Lg化學(xué)株式會(huì)社