一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及玻璃鱗片鍍鋁裝置，尤其涉及一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]玻璃鱗片是由1200°C以上的熔融中堿玻璃，經(jīng)吹泡、冷卻、粉碎、篩選及碾磨等工藝步驟所制得。玻璃鱗片經(jīng)過真空鍍鋁，會產(chǎn)生很高的反射，將其用于涂料，涂裝于油罐表面等，可以反射掉太陽能量的98%，使油罐內(nèi)保持相對于環(huán)境的低溫。同時也可以用于特殊裝飾的場合，使涂層產(chǎn)生銀鏡一樣的反射效果。目前尚無真空鍍鋁的裝置，能對玻璃鱗片進(jìn)行均勾地鍍招。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，能夠在玻璃鱗片上形成均勻的金屬鋁膜。
[0004]本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0005]—種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，包括基座、進(jìn)料管、分散盤、真空罩、接料錐、坩禍;所述基座上設(shè)置有真空罩，所述真空罩上端設(shè)置有進(jìn)料管、分散盤;所述真空罩內(nèi)部設(shè)置有接料錐;所述接料錐為圓錐筒狀體，所述接料錐上端帶有開口 ；所述坩禍固定設(shè)置于基座上；所述坩禍中裝有鋁塊。
[0006]所述分散盤包括連接軸、盤體、均勻分布固設(shè)于盤體上的分散片。
[0007]工作原理:玻璃鱗片從真空罩上端的進(jìn)料管進(jìn)入真空罩內(nèi)，到達(dá)分散盤;分散盤旋轉(zhuǎn)，均勻地將玻璃鱗片從分散盤邊緣呈分散態(tài)灑入真空罩;坩禍提供蒸發(fā)的金屬鋁;玻璃鱗片在下落過程中被蒸發(fā)態(tài)的鋁所沉積，在玻璃鱗片表面形成均勻的金屬鋁膜。
[0008]有益效果:本實用新型解決了【背景技術(shù)】中存在的缺陷，由于真空罩中不能通氣，利用分散盤分散玻璃鱗片，使玻璃鱗片在下落過程中被蒸發(fā)態(tài)的鋁所沉積，在玻璃鱗片表面形成均勻的金屬鋁膜。
【附圖說明】
[0009]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0010]圖1是本實用新型的優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011 ]圖2是本實用新型的分散盤的盤體、分散片的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]其中:1、基座;2、進(jìn)料管;3、分散盤;4、真空罩;5、接料錐;6、坩禍;7、連接軸;8、盤體;9、分散片。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對本實用新型的較佳實施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實用新型的優(yōu)點和特征能更易被本領(lǐng)域人員理解，從而對本實用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0014]如圖1至圖2所示，本實用新型的實施例包括:
[0015]—種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，包括基座1、進(jìn)料管2、分散盤3、真空罩4、接料錐5、坩禍6;所述基座I上設(shè)置有真空罩4，所述真空罩4上端設(shè)置有進(jìn)料管2、分散盤3;所述真空罩4內(nèi)部設(shè)置有接料錐5;所述接料錐5為圓錐筒狀體，所述接料錐5上端帶有開口 ；所述坩禍6固定設(shè)置于基座I上;所述坩禍6中裝有鋁塊。
[0016]所述分散盤3包括連接軸7、盤體8、均勻分布固設(shè)于盤體8上的分散片9。
[0017]工作原理:玻璃鱗片從真空罩4上端的進(jìn)料管2進(jìn)入真空罩4內(nèi)，到達(dá)分散盤3;分散盤3旋轉(zhuǎn)，均勻地將玻璃鱗片從分散盤3邊緣呈分散態(tài)灑入真空罩4;坩禍6提供蒸發(fā)的金屬鋁;玻璃鱗片在下落過程中被蒸發(fā)態(tài)的鋁所沉積，在玻璃鱗片表面形成均勻的金屬鋁膜。
[0018]應(yīng)當(dāng)理解，以上所描述的具體實施例僅用于解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。由本實用新型的精神所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本實用新型的保護(hù)范圍之中。
【主權(quán)項】
1.一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，其特征在于:包括基座、進(jìn)料管、分散盤、真空罩、接料錐、坩禍;所述基座上設(shè)置有真空罩，所述真空罩上端設(shè)置有進(jìn)料管、分散盤;所述真空罩內(nèi)部設(shè)置有接料錐;所述接料錐為圓錐筒狀體，所述接料錐上端帶有開口 ；所述坩禍固定設(shè)置于基座上;所述坩禍中裝有鋁塊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，其特征在于:所述分散盤包括連接軸、盤體、均勻分布固設(shè)于盤體上的分散片。
【專利摘要】本實用新型涉及一種玻璃鱗片真空鍍鋁裝置，包括基座、進(jìn)料管、分散盤、真空罩、接料錐、坩堝；所述基座上設(shè)置有真空罩，所述真空罩上端設(shè)置有進(jìn)料管、分散盤；所述真空罩內(nèi)部設(shè)置有接料錐；所述接料錐為圓錐筒狀體，所述接料錐上端帶有開口；所述坩堝固定設(shè)置于基座上；所述坩堝中裝有鋁塊。所述分散盤包括連接軸、盤體、均勻分布固設(shè)于盤體上的分散片。由于真空罩中不能通氣，利用分散盤分散玻璃鱗片，使玻璃鱗片在下落過程中被蒸發(fā)態(tài)的鋁所沉積，在玻璃鱗片表面形成均勻的金屬鋁膜。
【IPC分類】C03C17/09
【公開號】CN205205021
【申請?zhí)枴緾N201521029842
【發(fā)明人】周煒虎, 洪宇, 王宏輝
【申請人】江蘇朝暉化工有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年12月11日