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一種石墨材料薄厚度制造提取裝置的制作方法

文檔序號(hào):11123250閱讀:382來(lái)源:國(guó)知局
一種石墨材料薄厚度制造提取裝置的制造方法

本發(fā)明涉及一種材料制造裝置,特別是一種石墨材料薄厚度制造提取裝置,屬于新型材料制備領(lǐng)域。



背景技術(shù):

近年來(lái),隨著科技的蓬勃發(fā)展,電子產(chǎn)品的工作性能不斷地被提升,并且電子產(chǎn)品 的尺寸亦越來(lái)越小,而隨著電子產(chǎn)品的工作速度與效率的提高,這也意味著電子產(chǎn)品的發(fā) 熱量越來(lái)越大,因此電子產(chǎn)品不僅需要配備相應(yīng)的散熱裝置,還要確保散熱裝置具有絕佳 的散熱能力,以適時(shí)地散除電子產(chǎn)品內(nèi)部的電子組件工作時(shí)所產(chǎn)生的熱能,借此確保電子 產(chǎn)品能正常運(yùn)作,進(jìn)而提高產(chǎn)品性能的可靠性及延長(zhǎng)產(chǎn)品的使用壽命。

對(duì)此,石墨片 (Graphite Sheet) 因具有相對(duì)于金屬散熱片的低密度特性,以及具 有高散熱 / 導(dǎo)熱、絕緣抗腐蝕及低熱阻等特性,目前已成為用以幫助電子產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)快速散 熱 / 導(dǎo)熱的首選材料。石墨片除了可以沿水平進(jìn)行導(dǎo)熱,還可沿垂直方向進(jìn)行導(dǎo)熱,特別是 石墨片為片層狀結(jié)構(gòu),因此更能適用于任何產(chǎn)品的表面,以利于達(dá)到更佳的散熱 / 導(dǎo)熱的 作用。

然而,在傳統(tǒng)的石墨片的制備過(guò)程中,通常須先對(duì)天然的石墨鱗片進(jìn)行酸化處理 及連續(xù)高溫鍛燒以產(chǎn)生石墨蓬松片,接著靜置石墨蓬松片一特定時(shí)間以便退溫取出。之后, 還須將石墨蓬松片滾壓成預(yù)定厚度的石墨片,以完成石墨片的制備。值得注意的是,在單次 石墨片的制備過(guò)程,僅能獲得一石墨片,如此反復(fù)操作將花費(fèi)大量的制備時(shí)間,這將使得石 墨片的產(chǎn)能效率無(wú)法提高。

如專利號(hào)為201310369027.3一種納米石墨片的制備方法,以天然鱗片石墨為原料,采用氧化劑和插層劑對(duì)天然鱗片石墨進(jìn)行氧化插層處理,形成插層可膨脹石墨,采用微波加熱方式對(duì)插層可膨脹石墨進(jìn)行膨化,形成膨脹石墨,其后,在有機(jī)溶劑中,采用超聲輻照對(duì)膨脹石墨進(jìn)行剝離而成納米石墨片;本發(fā)明方法操作簡(jiǎn)單,效率高,安全性好,膨脹均勻;所制備出的納米石墨片其直徑為0.5~20μm,厚度為0.35~50nm,平均厚度35nm,剝離程度高,具有卷筒形、卷曲S形、凹凸團(tuán)塊形不同形貌,導(dǎo)熱性能良好,在有機(jī)溶劑中容易分散。

又如申請(qǐng)?zhí)枮?01410122837.3一種石墨片的制備方法,包括提供第一石墨片,并且黏附第一及第二離型基材于第一石墨片 的第一及第二表面上,接著沿第一石墨片的第一側(cè)邊分離第一及第二離型基材,以將第一石墨片分離為厚度均勻的第二及第三石墨片,之后壓實(shí)分離后的第二石墨片,且黏附第三離型基材于壓 實(shí)后的第二石墨片的分離面上,以便沿第二石墨片的第二側(cè)邊分離第一及第三離型基材,進(jìn)而將第二石墨片分離為厚度均勻的第四及第五石墨片。本發(fā)明所提出的石墨片的制備方法可減少傳 統(tǒng)石墨片的制備時(shí)間,并且還可簡(jiǎn)化制備流程,降低成本及減少污染。

以上兩種制備方法都均影響了石墨片晶體的物理形態(tài)和化學(xué)形態(tài),制備出的石墨會(huì)存在特性上的偏差。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明需要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,而提供一種石墨材料薄厚度制造提取裝置。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是

一種石墨材料薄厚度制造提取裝置,包括制備槽,制備槽為圓槽結(jié)構(gòu),所述制備槽內(nèi)設(shè)置有薄化裝置,所述薄化裝置包括主軸,連接所述主軸設(shè)置有兩根活動(dòng)臂,兩根所述的活動(dòng)臂分別鉸接在主軸上,兩根所述的活動(dòng)臂可相對(duì)活動(dòng),所述活動(dòng)臂的端部設(shè)置有槳葉,所述槳葉上設(shè)置有石墨粉塵出口和粘合劑出口,所述主軸上設(shè)置有下壓裝置;所述槳葉上設(shè)置有吸附裝置,所述吸附裝置包括穿過(guò)槳葉設(shè)置的多根連桿,連桿的一端連接槳葉地面,另一端連接提拉塊;所述制備槽靠近底部的內(nèi)邊壁上設(shè)置有吸塵裝置,制備槽的底部設(shè)置有加熱層。

作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案,所述兩根所述活動(dòng)臂上的槳葉可相互連接,所述槳葉的一個(gè)長(zhǎng)邊為圓弧面,所述石墨粉塵出口和粘合劑出口位于圓弧面上,槳葉在制備槽旋轉(zhuǎn)推進(jìn),其圓弧面為推進(jìn)的一面。

作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案,所述槳葉的斷面距離制備槽的邊壁具有間隙。

作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案,所述活動(dòng)臂為L(zhǎng)形結(jié)構(gòu),其較長(zhǎng)的部分連接主軸,其較短的部分連接槳葉。

作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案,所述槳葉的寬度為其長(zhǎng)度的1/5-1/10。

有益效果

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的一種石墨材料薄厚度制造提取裝置,通過(guò)兩個(gè)活動(dòng)臂的相對(duì)旋轉(zhuǎn),帶動(dòng)槳葉將石墨溶液平鋪在制備槽內(nèi),再進(jìn)行下壓,取得薄厚度的石墨片材,吸附裝置可以在石墨片材成型后進(jìn)行提取,不損壞石墨片材,加熱層則可以加速石墨溶液的成型,具體具有以下優(yōu)點(diǎn):

1.兩個(gè)槳葉的相對(duì)旋轉(zhuǎn)可以形成圓形面,可以將石墨溶液平鋪在制備槽內(nèi),伴隨下壓可以是最終形成的石墨片材具有更薄的厚度,便于后期裁剪和特定場(chǎng)合使用。

2. 石墨粉塵出口和粘合劑出口設(shè)置在槳葉上,可以在槳葉活動(dòng)的同時(shí)進(jìn)行釋放,根據(jù)形成的石墨片材實(shí)際的厚度來(lái)進(jìn)行增減投放量,便于控制最終形成的石墨片材的厚度。

3. 吸附裝置利用連桿拖拽槳葉底部,形成負(fù)壓,從而方便取出薄型石墨片材,避免使用其他器械而對(duì)薄型石墨片材造成損壞。

4. 吸塵裝置可以將制備槽多余散落的石墨粉塵清理,保證成型的石墨片材的光澤度和平整性。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是槳葉的結(jié)構(gòu)示意圖;

其中,1-制備槽,2-主軸,3-活動(dòng)臂,4-槳葉,5-石墨粉塵出口,6-粘合劑出口,7-下壓裝置,8-連桿,9-提拉塊,10-吸塵裝置。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案。

如圖所示,本發(fā)明的一種石墨材料薄厚度制造提取裝置,包括制備槽1,制備槽1為圓槽結(jié)構(gòu),所述制備槽1內(nèi)設(shè)置有薄化裝置;

所述薄化裝置包括主軸2,主軸2為縱向的轉(zhuǎn)動(dòng)軸,連接所述主軸2設(shè)置有兩根活動(dòng)臂3,兩根所述的活動(dòng)臂3分別鉸接在主軸2上,兩根所述的活動(dòng)臂3可相對(duì)活動(dòng);

所述活動(dòng)臂3的端部設(shè)置有槳葉4,所述槳葉4上設(shè)置有石墨粉塵出口5和粘合劑出口6;

所述槳葉4上設(shè)置有吸附裝置,所述吸附裝置包括穿過(guò)槳葉4設(shè)置的多根連桿8,連桿8的一端連接槳葉4地面,另一端連接提拉塊9;

所述制備槽1靠近底部的內(nèi)邊壁上設(shè)置有吸塵裝置10,制備槽1的底部設(shè)置有加熱層。

所述主軸2上設(shè)置有下壓裝置7,下壓裝置7可以調(diào)節(jié)下壓的力度和持續(xù)時(shí)間,下壓裝置7一般采用間歇性下壓的模式。

所述兩根所述活動(dòng)臂3上的槳葉4可相互連接,所述槳葉4的一個(gè)長(zhǎng)邊為圓弧面,所述石墨粉塵出口5和粘合劑出口6位于圓弧面上,槳葉4在制備槽1旋轉(zhuǎn)推進(jìn),其圓弧面為推進(jìn)的一面。

所述槳葉4的斷面距離制備槽1的邊壁具有間隙。

所述活動(dòng)臂3為L(zhǎng)形結(jié)構(gòu),其較長(zhǎng)的部分連接主軸2,其較短的部分連接槳葉4。

所述槳葉4的寬度為其長(zhǎng)度的1/5-1/10。

以上所述,僅為本申請(qǐng)較佳的具體實(shí)施方式,但本申請(qǐng)的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本申請(qǐng)揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到的變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本申請(qǐng)的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。

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