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多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法

文檔序號:3463793閱讀:547來源:國知局
專利名稱:多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種使用氫還原爐生產(chǎn)多晶硅的方法,主要涉及一種 多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,本發(fā)明尤其適用于太陽能級 多晶硅生產(chǎn)。
技術背景現(xiàn)有技術中,采用還原爐生產(chǎn)多晶硅時,都是采用硅芯棒作為發(fā)熱體,并使產(chǎn)品沉積在高溫的純硅芯棒上,初始的硅芯棒直徑為8— 10mm ,而純硅在常溫下導電性能很差,電阻率很大, 一般為數(shù)十到 數(shù)百Q(mào)-cm,只有當其本身溫度達到60(TC以上時,其電阻率會下降 到O. 1Q-cm左右,此時常規(guī)電源才能對其加熱,因此使用一般的常 規(guī)電壓不能純硅芯棒載體進行初始啟動發(fā)熱,為解決上述技術問題, 現(xiàn)有技術中主要有兩種方案, 一是為克服硅芯棒的冷電阻,對純硅芯 棒加上高電壓使電流強行通過硅芯棒,隨著溫度升高,電阻率逐漸下 降,達到一定溫度后再轉(zhuǎn)入中、低控制電源,即高壓啟動。此種方式 比較直接,但其缺點是高壓電控制設備比較復雜,加熱啟動程序也比 較復雜,導致生產(chǎn)成本大幅度上升;二是采用外來加溫體對硅芯棒進 行烘烤,如在氫還原爐中另外設置碳棒或鉬條,也有采用等離子電弧 加熱的方式,而這樣的方式都需要另外增加大量設備和裝置,其加熱 啟動程序也比較復雜。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于克服上述技術缺陷,提供一種多晶硅氫還原爐 的硅芯棒加熱啟動方法。采用本發(fā)明可以直接在常溫下使用常規(guī)電源 對硅芯棒進行初始加熱啟動,并且不需要增加啟動裝置和設備,加熱 啟動程序也很簡單。為實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用的技術方案是 多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于具體步驟為A、 將設置在氫還原爐中最內(nèi)圈的硅芯棒在制作時加入摻雜劑進 行摻雜處理,得到摻雜硅芯棒,使其電阻率下降至0.05-0.1 Q-cm;B、 將未摻雜的硅芯棒設置在摻雜硅芯棒的外圈,通入常規(guī)電源對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒進行烘烤;C、 當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至600—65(TC、其 電阻率下降到0.05-0.1 Q-cm時,再對未摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源 進行加熱。所述摻雜劑為三族或五族元素。所述摻雜硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成電阻率 為0.05-0.1 Q-cm的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為電阻率 為0.05-0.1 Q-cm的硅芯棒。所述未摻雜的硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成常 規(guī)電阻率的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為常規(guī)電阻率的硅 芯棒。在本發(fā)明中,摻雜劑的種類可以根據(jù)用戶的具體需要加入,在生 產(chǎn)時,只需要使用常規(guī)電源先對慘雜硅芯棒進行加熱,使摻雜硅芯棒 升溫,并對周圍未摻雜的硅芯棒進行烘烤加熱,當未摻雜的硅芯棒被烘烤溫度達到600—65(TC、其電阻率就下降到0.05-0.1 Q-cm,此時再對未慘雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱即可。雖然本發(fā)明中由于 有摻雜的硅芯棒,其后期沉積的多晶硅產(chǎn)品的品質(zhì)低于未摻雜的硅芯 棒沉積生產(chǎn)出的多晶硅產(chǎn)品,但目前太陽能級晶硅都是需要摻雜的, 只要事先根據(jù)用戶的需要的種類進行摻雜,并且每爐產(chǎn)品中摻雜硅棒 數(shù)量很少,因此,并不影響絕大多數(shù)產(chǎn)品質(zhì)量和用戶使用。 本發(fā)明的優(yōu)點在于1、 采用先對少數(shù)硅芯棒進行摻雜,降低其電阻率至常規(guī)電源的 使用要求,并將其設置在還原爐的內(nèi)圈上,用常規(guī)電源對摻雜硅芯棒 進行加熱,利用熱輻射對周圍未摻雜的硅芯棒進行烘烤,使未摻雜的 硅芯棒逐步升溫以降低其電阻率,達到常規(guī)電源的使用要求,這樣就 可以避免對常規(guī)電阻率的硅芯棒強行進行高壓電初期加熱,大大簡化 了高壓電控制設備,降低了成本。2、 由于目前的多晶硅生產(chǎn)都是采用大爐、多對棒的批量生產(chǎn), 還原爐內(nèi)都是多圈、多層硅芯棒設置,本發(fā)明的加熱方式可以進行層 層烘烤加熱,更有利于簡化設備、節(jié)省投資,從而降低了生產(chǎn)成本。3、 由于本發(fā)明采用的是對硅芯棒直接加熱,層層烘烤的方式, 因此不需要增加其他外來加溫體烘烤裝置,加熱程序也很簡單,有效 降低了設備和生產(chǎn)成本。4、 雖然本發(fā)明中由于有摻雜的硅芯棒,其后期沉積的多晶硅產(chǎn) 品的品質(zhì)低于未摻雜的硅芯棒沉積生產(chǎn)出的多晶硅產(chǎn)品,但目前太陽 能級晶硅都是需要摻雜,只要事先根據(jù)用戶的需要進行摻雜,并且每 爐產(chǎn)品中摻雜硅棒數(shù)量很少,因此,并不影響產(chǎn)品質(zhì)量和用戶使用。5、 對于常規(guī)加熱電源還可以采用不同檔位之間進行切換的方式 控制,有利于實現(xiàn)電子化控制。
具體實施方式
實施例1:多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于具體步驟為A、 將設置在氫還原爐中最內(nèi)圈的硅芯棒在制作時加入摻雜劑進行摻雜處理,得到摻雜硅芯棒,使其電阻率下降至O.lQ-cm;B、 將未摻雜的硅芯棒設置在摻雜硅芯棒的外圈,通入常規(guī)電源對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒進行烘烤;C、 當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至600°C、其電阻 率下降到0.05 Q -cm時,再對未摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱。所述摻雜劑為三族,也可以是五族元素,如硼、磷。 所述摻雜硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)慘雜方法制成電阻率 為0.1 Q-cm的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為電阻率為0.1 Q-cm的硅芯棒。所述未摻雜的硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜 方法制成常規(guī)電阻率的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為常規(guī)電阻率的硅芯棒。在本發(fā)明中,摻雜劑的加入量可以根據(jù)用戶的具體需要加入,在 生產(chǎn)時,只需要使用常規(guī)電源先對摻雜硅芯棒進行加熱,使摻雜硅芯 棒升溫,并對周圍未摻雜的硅芯棒進行烘烤加熱,當未摻雜的硅芯棒被烘烤溫度達到60(TC、其電阻率就下降到O.lQ-cm,此時再對未摻 雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱即可。 實施例2:多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于具體步驟為A、 將設置在氫還原爐中最內(nèi)圈的硅芯棒在制作時加入摻雜劑進 行摻雜處理,得到摻雜硅芯棒,使其電阻率下降至0.05Q-cm;B、 將未摻雜的硅芯棒設置在摻雜硅芯棒的外圈,通入常規(guī)電源 對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒 進行烘烤;C、 當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至650°C、其電阻 率下降到0.05 Q -cm時,再對未摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱。所述摻雜劑為三族,也可以是五族元素,如硼、磷。 所述摻雜硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成電阻率 為0.05 Q-cm的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為電阻率為 0.05Q-cm的硅芯棒。所述未摻雜的硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī) 摻雜方法制成常規(guī)電阻率的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為 常規(guī)電阻率的硅芯棒。在本發(fā)明中,摻雜劑的加入量可以根據(jù)用戶的具體需要加入,在 生產(chǎn)時,只需要使用常規(guī)電源先對摻雜硅芯棒進行加熱,使摻雜硅芯 棒升溫,并對周圍未摻雜的硅芯棒進行烘烤加熱,當未摻雜的硅芯棒被烘烤溫度達到650°C、其電阻率就下降到0.05Q-cm,此時再對未 摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱即可。 實施例3:多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于具體步驟為A、 將設置在氫還原爐中最內(nèi)圈的硅芯棒在制作時加入摻雜劑進 行摻雜處理,得到慘雜硅芯棒,使其電阻率下降至0.07Q-cm;B、 將未摻雜的硅芯棒設置在摻雜硅芯棒的外圈,通入常規(guī)電源 對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒 進行烘烤;C、 當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至630°C、其電阻 率下降到0.07 Q -cm時,再對未慘雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱。所述摻雜劑為三族,也可以是五族元素,如硼、磷。 所述摻雜硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成電阻率 為0.07 Q-cm的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為電阻率為 0.07Q-cm的硅芯棒。所述未摻雜的硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī) 摻雜方法制成常規(guī)電阻率的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為 常規(guī)電阻率的硅芯棒。在本發(fā)明中,慘雜劑的加入量可以根據(jù)用戶的具體需要加入,在生產(chǎn)時,只需要使用常規(guī)電源先對摻雜硅芯棒進行加熱,使摻雜硅芯 棒升溫,并對周圍未摻雜的硅芯棒進行烘烤加熱,當未摻雜的硅芯棒被烘烤溫度達到630°C、其電阻率就下降到0.07Q-cm,此時再對未 摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱即可。 本發(fā)明不限于上述實施方式。
權(quán)利要求
1、多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于具體步驟為A、將設置在氫還原爐中最內(nèi)圈的硅芯棒在制作時加入摻雜劑進行摻雜處理,得到摻雜硅芯棒,使其電阻率下降至0.05-0.1Ω-cm;B、將未摻雜的硅芯棒設置在摻雜硅芯棒的外圈,通入常規(guī)電源對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒進行烘烤;C、當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至600-650℃、其電阻率下降到0.05-0.1Ω-cm時,再對未摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方 法,其特征在于所述摻雜劑為三族或五族元素。
3、 多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于所述 摻雜硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成電阻率為0.05-0.1 Q-cm的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為電阻率為0.05-0.1 Q-cm的硅芯棒。
4、 多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法,其特征在于所述 未摻雜的硅芯棒是指先在直拉爐中用常規(guī)摻雜方法制成常規(guī)電阻率 的預制棒,再將預制棒在硅芯爐中拉制成為常規(guī)電阻率的硅芯棒。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種多晶硅氫還原爐的硅芯棒加熱啟動方法。包括硅芯棒摻雜處理,使其電阻率下降至0.05-0.1Ω·cm,通入常規(guī)電源對摻雜硅芯棒進行加熱升溫,并隨溫度的升高,對外圈未摻雜硅芯棒進行烘烤,當外圈未摻雜的硅芯棒被烘烤,溫度上升至600-650℃、其電阻率下降到0.05-0.1Ω·cm時,再對未摻雜的硅芯棒通入常規(guī)電源進行加熱。采用本發(fā)明可以直接在常溫下使用常規(guī)電源對硅芯棒進行初始加熱啟動,并且不需要增加啟動裝置和設備,加熱啟動程序也很簡單。
文檔編號C01B33/00GK101224888SQ20071005031
公開日2008年7月23日 申請日期2007年10月23日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月23日
發(fā)明者劉漢元, 戴自忠 申請人:四川永祥多晶硅有限公司
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