一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及鍍膜生產(chǎn)中的電子槍蒸發(fā)源，具體涉及一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置。所述裝置在熔池上開(kāi)口處安裝熒光棒。所述熔池呈碗裝結(jié)構(gòu)，熒光棒為棒狀結(jié)構(gòu)，所述熒光棒固定在熔池的上邊緣位置。所述熒光棒在電子束的轟擊下發(fā)光。本實(shí)用新型有益效果：本實(shí)用新型能夠?qū)﹄娮邮墓ぷ鲄^(qū)域進(jìn)行校準(zhǔn)，熒光棒直觀的反映了電子束的中心位置，有效地提高了裝置的工作效率，避免由于電子束偏離引起的工作失誤。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及鍍膜生產(chǎn)中的電子槍蒸發(fā)源，具體涉及一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]蒸發(fā)源是用來(lái)加熱膜材使之氣化蒸發(fā)的裝置。目前，所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、電弧加熱和激光加熱等形式。e型電子槍蒸發(fā)源具有聚焦效果好，磁場(chǎng)強(qiáng)度穩(wěn)定，束斑形狀好的特點(diǎn)。中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利CN20072008 1 574.1和CN200610008066.0都對(duì)這一技術(shù)進(jìn)行了研究。
[0003]e型電子槍蒸發(fā)源的缺點(diǎn)在于，系統(tǒng)需要對(duì)電子束進(jìn)行270度偏轉(zhuǎn)控制，在這一過(guò)程中，電子束的偏轉(zhuǎn)經(jīng)常發(fā)生，造成電子束不能準(zhǔn)確轟擊工作位置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型為了克服上述技術(shù)缺陷，設(shè)計(jì)了一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置。
[0005]—種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置，包括熔池、陰極、屏蔽裝置和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)，其特征在于:在恪池上開(kāi)口處安裝焚光棒。
[0006]所述熔池呈碗裝結(jié)構(gòu)，熒光棒為棒狀結(jié)構(gòu)，所述熒光棒固定在熔池的上邊緣位置。
[0007]所述焚光棒在電子束的轟擊下發(fā)光。
[0008]本實(shí)用新型有益效果:本實(shí)用新型能夠?qū)﹄娮邮墓ぷ鲄^(qū)域進(jìn)行校準(zhǔn)，熒光棒直觀的反映了電子束的中心位置，有效地提高了裝置的工作效率，避免由于電子束偏離引起的工作失誤。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)圖
【具體實(shí)施方式】
[0010]如圖1所示，電子位于熔池I下面的陰極2發(fā)出，這種結(jié)構(gòu)避免了陰極被蒸發(fā)材料的污染。陰極2發(fā)出的電子經(jīng)過(guò)屏蔽裝置3的篩選，再經(jīng)過(guò)偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)4的電壓作用，轟擊熔池I內(nèi)的材料。所述熔池I呈碗裝結(jié)構(gòu)，熒光棒5為棒狀結(jié)構(gòu)，所述熒光棒5固定在熔池I的上邊緣位置。調(diào)節(jié)偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)4，使熒光棒5中心位置最亮，這時(shí)，電子束處于正確的工作區(qū)域。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電子槍蒸發(fā)源熒光校準(zhǔn)裝置，包括熔池(I)、陰極(2)、屏蔽裝置(3)和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)(4)，其特征在于:在熔池(I)上開(kāi)口處安裝熒光棒(5)，熔池(I)呈碗裝結(jié)構(gòu)，熒光棒(5)為棒狀結(jié)構(gòu)，所述熒光棒(5)固定在熔池(I)的上邊緣位置，熒光棒(5)在電子束的轟擊下發(fā)光。
【文檔編號(hào)】C23C14/30GK205556766SQ201620243405
【公開(kāi)日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年3月21日
【發(fā)明人】喬憲武
【申請(qǐng)人】中國(guó)計(jì)量學(xué)院