玻璃研磨機(jī)及其使用方法
【專利摘要】本發(fā)明是關(guān)于一種玻璃研磨機(jī)及其使用方法，涉及玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，主要目的在于降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。主要采用的技術(shù)方案為：玻璃研磨機(jī)，包括玻璃吸附平臺(tái)以及研磨輪，所述玻璃吸附平臺(tái)包括：工作臺(tái)臺(tái)條，其支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)；真空吸氣管路，與所述M個(gè)第一通氣通道連通。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，吸附凹槽會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)更加均等的作用力，使得玻璃基板更加穩(wěn)固的被吸附在工作臺(tái)臺(tái)條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
【專利說(shuō)明】
玻璃研磨機(jī)及其使用方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種玻璃研磨機(jī)及其使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶玻璃基板是液晶顯示屏的一個(gè)重要零部件，在對(duì)液晶玻璃基板的加工中，研磨是一道重要工序;研磨工序中，需要將液晶玻璃基板吸附在研磨機(jī)的吸附裝置上，然后通過(guò)研磨機(jī)的研磨輪對(duì)玻璃基板的是四個(gè)邊角進(jìn)行研磨處理。
[0003]其中，研磨機(jī)的工作臺(tái)臺(tái)條的臺(tái)面上共具有4個(gè)獨(dú)立的真空吸口，分別在液晶玻璃基板的四個(gè)邊角上;在開啟吸真空設(shè)備后，液晶玻璃基板可被真空吸口吸附在工作臺(tái)臺(tái)條的臺(tái)面上。
[0004]在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:
[0005]獨(dú)立存在的4個(gè)真空吸口的壓力值不完全相等，4個(gè)真空吸口的真空吸附力不均勻，在使用研磨機(jī)的研磨輪對(duì)液晶玻璃基板的邊角進(jìn)行研磨過(guò)程中，液晶玻璃基板容易產(chǎn)生較大的震動(dòng)，真空吸附力值較低的真空吸口容易與玻璃基板脫離，存在液晶玻璃基板易碎的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，本發(fā)明提供一種玻璃研磨機(jī)及其使用方法，主要目的在于降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明主要提供如下技術(shù)方案:
[0008]—方面，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種玻璃研磨機(jī)，包括玻璃吸附平臺(tái)以及研磨輪，所述玻璃吸附平臺(tái)包括:
[0009]工作臺(tái)臺(tái)條，其支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)；
[0010]真空吸氣管路，與所述M個(gè)第一通氣通道連通。
[0011]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0012]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿；
[0013]所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面上；
[0014]所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道；
[0015]所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通。
[0016]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座，N為大于等于2的正整數(shù)；
[0017]其中，N個(gè)支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面處于同一平面。
[0018]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中還包括:
[0019]吹氣管路，與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通;或，
[0020]放空管路，與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。
[0021]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中所述吸附凹槽包括橫行布置的多條橫向管路以及連通多條橫向管路的縱向管路。
[0022]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽，M個(gè)第一通氣通道并排設(shè)置在回字形凹槽的中心；
[0023]所述吸附凹槽還包括依次連通M個(gè)第一通氣通道和回字形凹槽的連接槽。
[0024]可選的，前述的玻璃研磨機(jī)，其中M個(gè)第一通氣通道相互連通;或，
[0025]M個(gè)第一通氣通道中的至少2個(gè)第一通氣通道相互獨(dú)立，真空吸氣管路包括至少2個(gè)獨(dú)立通路，每個(gè)獨(dú)立通路分別連接相互獨(dú)立的第一通氣通道。
[0026]另一方面，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種使用玻璃研磨機(jī)的方法，包括:
[0027]在玻璃研磨機(jī)工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上粘貼防靜電臺(tái)布，其中，所述支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)；
[0028]在所述防靜電臺(tái)布上開設(shè)與所述吸附凹槽槽口對(duì)應(yīng)的通氣口；
[0029 ]將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上；
[0030]開啟與所述M個(gè)第一通氣通道連通的真空吸氣管路，使所述吸附凹槽產(chǎn)生負(fù)壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上。
[0031]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0032]可選的，前述的方法，其中
[0033]所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿;所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面上;所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道;所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通;所述吹氣管路與所述第二通氣通道連通;所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座，N為大于等于2的正整數(shù);其中，N個(gè)支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面處于同一平面;所述將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上，之前還包括:
[0034]在N個(gè)支撐座的支撐平面上鋪設(shè)防靜電臺(tái)布。
[0035]可選的，前述的方法，其中還包括:
[0036]通過(guò)吹氣管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，吹氣管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通;或，
[0037]通過(guò)放空管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，放空管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。
[0038]借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明技術(shù)方案實(shí)施例提供的玻璃研磨機(jī)及其使用方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0039]本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，在真空吸氣管路的負(fù)壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機(jī)的工作臺(tái)臺(tái)條的吸附凹槽上，由于M個(gè)第一通氣通道被同一個(gè)吸附凹槽連通，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，吸附凹槽會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)更加均等的作用力，使得玻璃基板更加穩(wěn)固的被吸附在工作臺(tái)臺(tái)條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0040]上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。
【附圖說(shuō)明】
[0041]通過(guò)閱讀下文優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)描述，各種其他的優(yōu)點(diǎn)和益處對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將變得清楚明了。附圖僅用于示出優(yōu)選實(shí)施方式的目的，而并不認(rèn)為是對(duì)本發(fā)明的限制。而且在整個(gè)附圖中，用相同的參考符號(hào)表示相同的部件。在附圖中:
[0042]圖1是本發(fā)明的實(shí)施例一提供的一種玻璃研磨機(jī)的玻璃吸附平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖2是本發(fā)明的實(shí)施例一提供的一種玻璃研磨機(jī)的縱向支撐桿的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0044]圖3是本發(fā)明的實(shí)施例一提供的一種玻璃研磨機(jī)的玻璃吸附平臺(tái)的局部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045]圖4是本發(fā)明的實(shí)施例一提供的一種玻璃研磨機(jī)的管路連接示意圖；
[0046]圖5是本發(fā)明的實(shí)施例一提供的另一種玻璃研磨機(jī)的管路連接示意圖；
[0047]圖6是本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種玻璃研磨機(jī)的玻璃吸附平臺(tái)吸附玻璃基板后的第一視角結(jié)構(gòu)示意圖；
[0048]圖7是本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種玻璃研磨機(jī)的玻璃吸附平臺(tái)吸附玻璃基板后的第二視角結(jié)構(gòu)示意圖；
[0049]圖8是本發(fā)明的實(shí)施例二提供的一種使用玻璃研磨機(jī)的方法的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0050]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的玻璃研磨機(jī)及其使用方法其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。在下述說(shuō)明中，不同的“一實(shí)施例”或“實(shí)施例”指的不一定是同一實(shí)施例。此外，一或多個(gè)實(shí)施例中的特定特征、結(jié)構(gòu)、或特點(diǎn)可由任何合適形式組合。
[0051]本文中術(shù)語(yǔ)“和/或”，僅僅是一種描述關(guān)聯(lián)對(duì)象的關(guān)聯(lián)關(guān)系，表示可以存在三種關(guān)系，例如，A和/SB，具體的理解為:可以同時(shí)包含有A與B，可以單獨(dú)存在A，也可以單獨(dú)存在B，能夠具備上述三種任一種情況。
[0052]實(shí)施例一
[0053 ]如圖1、圖2、圖3和圖4所不，本發(fā)明的實(shí)施例一提出的一種玻璃研磨機(jī)，其包括:玻璃吸附平臺(tái)以及研磨輪，所述玻璃吸附平臺(tái)包括:
[0054]工作臺(tái)臺(tái)條10，工作臺(tái)臺(tái)條10的支撐平面上開有吸附凹槽11，所述吸附凹槽11的槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道12，M為大于等于3的正整數(shù);吸附凹槽11可為長(zhǎng)條形的凹槽，如，一字型長(zhǎng)條、環(huán)形條、多個(gè)條形凹槽拼接一起的多條線形凹槽等;吸附凹槽整體長(zhǎng)度根據(jù)玻璃基板的尺寸而定，整體長(zhǎng)度尺寸越長(zhǎng)，對(duì)玻璃基板的吸附面越大;其中，第一通氣通道的個(gè)數(shù)根據(jù)需要而定，數(shù)量越多，吸附凹槽的吸附力越均勻。
[0055]真空吸氣管路20，真空吸氣管路20與所述M個(gè)第一通氣通道12連通;真空吸氣管路20可與真空栗連接。
[0056]在對(duì)玻璃基板研磨中，可通過(guò)下述工藝過(guò)程:
[0057]在工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上粘貼防靜電臺(tái)布；
[0058]在所述防靜電臺(tái)布上開設(shè)與所述吸附凹槽槽口對(duì)應(yīng)的通氣口 ；
[0059 ]將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上；
[0060]開啟與所述M個(gè)第一通氣通道連通的真空吸氣管路(開啟真空栗)，使所述吸附凹槽產(chǎn)生負(fù)壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上；
[0061 ]控制研磨輪對(duì)玻璃基板進(jìn)行研磨。
[0062]本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，在真空吸氣管路的負(fù)壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機(jī)的工作臺(tái)臺(tái)條的吸附凹槽上，由于M個(gè)第一通氣通道被同一個(gè)吸附凹槽連通，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，吸附凹槽會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)更加均等的作用力(由于M個(gè)第一通氣通道被吸附凹槽連通，使得M個(gè)第一通氣通道所給予的壓力被均勻化)，使得玻璃基板更加穩(wěn)固的被吸附在工作臺(tái)臺(tái)條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0063]圖1中所示的工作臺(tái)臺(tái)條，寬度尺寸可為1500_，第一通氣通道12的個(gè)數(shù)為5個(gè)，位于吸附凹槽11兩端的兩個(gè)第一通氣通道距離支撐平面兩側(cè)邊緣50-250mm，如150mm;位于同一直線上的5個(gè)第一通氣通道12，每相鄰的2個(gè)第一通氣通道12之間的間隔在200-400mm之間，具體可為300mm。其中工作臺(tái)臺(tái)條為矩形，回字形吸附凹槽11的邊緣距離矩形工作臺(tái)臺(tái)條的邊緣1mm，吸附凹槽11槽寬5mm，5個(gè)第一通氣通道12通過(guò)吸附凹槽11連通。
[0064]如圖1和圖3所示，在具體的實(shí)施當(dāng)中，上述的玻璃研磨機(jī)，其中所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)1a以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)1a向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿1b;所述吸附凹槽11位于所述橫向支撐臺(tái)1a的支撐平面上;所述縱向支撐桿1b的端部具有吸盤13，所述吸盤13的底部連通有第二通氣通道;所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通。即，在玻璃基板的兩側(cè)使用吸附凹槽進(jìn)行吸附，在玻璃基板的中心使用吸盤進(jìn)行吸附。第一通氣通道和第二通氣通道可連接同一真空栗，也可分別連接不同的真空栗，可使吸附凹槽的吸力大于吸盤的吸力。同時(shí)，在對(duì)玻璃研磨機(jī)的生產(chǎn)中，由于公差的存在，很難將橫向支撐臺(tái)與縱向支撐臺(tái)處于同一平面上，在玻璃基板的兩側(cè)使用吸附凹槽吸附，中間采用柔性的吸盤吸附，柔性的吸盤可具有高度上的伸縮適配性，吸附效果較好。
[0065]具體的，如圖3和圖4所示，上述實(shí)施例中所述的玻璃研磨機(jī)中，還包括:吹氣管路30。吹氣管路30與至少一個(gè)第一通氣通道12、第二通氣通道連通。研磨輪對(duì)玻璃基板研磨完成之后，可開啟吹氣管路(開啟與吹氣管路的空氣壓縮機(jī))，向吸附凹槽內(nèi)充氣，使內(nèi)部負(fù)壓轉(zhuǎn)換為正壓，將研磨好的玻璃基板從吸附凹槽上分離，操作便捷。
[0066]同樣的，上述實(shí)施例中，不僅僅僅局限于使用吹氣管路，也可使用放空管路來(lái)實(shí)現(xiàn)便于分離的效果。具體的，上述實(shí)施例中所述的玻璃研磨機(jī)中，還包括:放空管路，放空管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。具體的，放空管路上具有放空閥門，研磨輪對(duì)玻璃基板研磨完成之后，可開啟放空閥門，使吸附凹槽內(nèi)與外部大氣連通，將內(nèi)部負(fù)壓轉(zhuǎn)換為正壓，將研磨好的玻璃基板從吸附凹槽上分離，操作便捷。其中，放空管路即包括有與至少一個(gè)第一通氣通道、第二通氣通道相互連通管道，在管道上具有一個(gè)放空閥門，放空閥門用于控制管道的通、閉。
[0067]如圖1和圖3所示，為了進(jìn)一步提高對(duì)玻璃基板的吸附效果，上述的玻璃研磨機(jī)，其中所述縱向支撐桿1b的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座14，N為大于等于2的正整數(shù);其中，N個(gè)支撐座14的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)1a的支撐平面處于同一平面。其中，同一水平面并非絕對(duì)的同一平面，應(yīng)當(dāng)理解為包含有制造工藝上公差。由于顯示屏的尺寸越來(lái)越大，玻璃基板尺寸也隨之變大，在橫向工作臺(tái)臺(tái)條與吸盤之間，玻璃基板會(huì)受到重力而向下彎曲，為了支撐玻璃基板，防止玻璃基板彎曲變形或破碎，N個(gè)支撐座可將玻璃基板進(jìn)行支撐，提高玻璃基板在玻璃吸附平臺(tái)上的吸附效果。使用中，在將玻璃基板放置在吸附平臺(tái)之前，可在N個(gè)支撐座上分別貼上防靜電臺(tái)布，再放置玻璃基板。同時(shí)，支撐座的支撐平面與玻璃基板支撐面積越小，能夠降低玻璃基板下表面出現(xiàn)劃傷及污漬的幾率。間隔設(shè)置的N個(gè)支撐座相對(duì)于整體支撐座而言，可降低玻璃基板下表面出現(xiàn)劃傷及污漬的幾率。
[0068]在具體地實(shí)施中，為了更加牢固的吸附玻璃基板，上述的玻璃研磨機(jī)，其中所述吸附凹槽包括橫行布置的多條橫向管路以及連通多條橫向管路的縱向管路。吸附凹槽可形成M字形、N字形、井字形、X形等等。
[0069]具體的，其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽，M個(gè)第一通氣通道并排設(shè)置在回字形凹槽的中心；所述吸附凹槽還包括依次連通M個(gè)第一通氣通道和回字形凹槽的連接槽。其中，連接槽可連接第一通氣通道和回字形凹槽的一側(cè)，或者，連接槽可連接第一通氣通道和回字形凹槽的兩側(cè)，可使回字形凹槽內(nèi)的氣壓更加平穩(wěn)。
[0070]如圖4所示，M個(gè)第一通氣通道12相互連通，相互連通的M個(gè)第一通氣通道12通過(guò)真空吸氣管路20與一真空栗連接。
[0071]在具體的實(shí)施中，在對(duì)玻璃基板進(jìn)行研磨時(shí)，可以是4個(gè)邊角同時(shí)進(jìn)行研磨，那么會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)均衡的作用力;但也有每個(gè)角單獨(dú)進(jìn)行研磨的情況，那么，在對(duì)每個(gè)角的研磨中，研磨輪會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)傾向于磨削角的方向一個(gè)作用力，會(huì)給玻璃基板一個(gè)力矩，使吸附凹槽受力不均;為了提高吸附凹槽對(duì)玻璃基板的吸附穩(wěn)定性，本發(fā)明提供的實(shí)施例中，M個(gè)第一通氣通道中的至少2個(gè)第一通氣通道相互獨(dú)立，真空吸氣管路包括至少2個(gè)獨(dú)立通路，每個(gè)獨(dú)立通路分別連接相互獨(dú)立的第一通氣通道。如圖5所示，相互獨(dú)立的至少2個(gè)第一通氣通道包括第一通道12a和第二通道12b，第一通道12a連接第一真空栗20a，第二通道12b連接第二真空栗20b;第一通道12a與第二通道12b可位于吸附凹槽11的相對(duì)兩側(cè)，當(dāng)玻璃基板的一個(gè)邊角被研磨，受到力矩時(shí)，位于第一通道處和位于第二通道處受到的力不同，可通過(guò)調(diào)節(jié)第一真空栗或第二真空栗的吸力，來(lái)穩(wěn)固玻璃基板;如，第一通道比第二通道處受到的分離力大，可增大第一真空栗的吸力，使第一真空栗的吸力大于第二真空栗的吸力。
[0072]實(shí)施例二
[0073]如圖6、圖7和圖8所示，本發(fā)明的實(shí)施例二提供一種使用玻璃研磨機(jī)的方法，可使用上述實(shí)施例一中所述的玻璃研磨機(jī)，所述方法包括:
[0074]S100、在玻璃研磨機(jī)100工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上粘貼防靜電臺(tái)布，其中，所述支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)；
[0075]S200、在所述防靜電臺(tái)布上開設(shè)與所述吸附凹槽槽口對(duì)應(yīng)的通氣口 ；
[0076]S300、將玻璃基板200放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上；
[0077]S400、開啟與所述M個(gè)第一通氣通道連通的真空吸氣管路，使所述吸附凹槽產(chǎn)生負(fù)壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上。
[0078]本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，在真空吸氣管路的負(fù)壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機(jī)的工作臺(tái)臺(tái)條的吸附凹槽上，由于M個(gè)第一通氣通道被同一個(gè)吸附凹槽連通，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，吸附凹槽會(huì)對(duì)玻璃基板產(chǎn)生一個(gè)更加均等的作用力，使得玻璃基板更加穩(wěn)固的被吸附在工作臺(tái)臺(tái)條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0079]進(jìn)一步的，為了提高對(duì)玻璃基板的吸附效果，上述的方法，其中所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿;所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面上;所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道;所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通;所述吹氣管路與所述第二通氣通道連通;所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座，N為大于等于2的正整數(shù);其中，N個(gè)支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面處于同一平面;所述將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上，之前還包括:
[0080]如圖6所示，在N個(gè)支撐座的支撐平面上鋪設(shè)防靜電臺(tái)布300。
[0081 ]具體可通過(guò)下述方法將研磨后的玻璃基板從吸附凹槽上分離:
[0082]—、研磨輪對(duì)玻璃基板進(jìn)行研磨之后，為了便于將玻璃基板分離，上述的方法，其中還包括:通過(guò)吹氣管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，吹氣管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。
[0083]二、研磨輪對(duì)玻璃基板進(jìn)行研磨之后，為了便于將玻璃基板分離，上述的方法，其中還包括:通過(guò)放空管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，放空管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。
[0084]具體的，上述方法的步驟中，在所述防靜電臺(tái)布上開設(shè)與所述吸附凹槽槽口對(duì)應(yīng)的通氣口，具體可為使用刀具對(duì)防靜電臺(tái)布開設(shè)通氣口；或是，具體為使用模具下壓所述支撐平面，使所述模具上的刀口在防靜電布上開設(shè)通氣口，其中，所述模具具有與工作臺(tái)臺(tái)條支撐平面尺寸配合的凹槽，所述刀口位于所述凹槽的底部，所述刀口的線條形狀與所述吸附凹槽的槽口線條形狀匹配。
[0085]在上述實(shí)施例中，對(duì)各個(gè)實(shí)施例的描述都各有側(cè)重，某個(gè)實(shí)施例中沒(méi)有詳述的部分，可以參見其他實(shí)施例的相關(guān)描述。
[0086]可以理解的是，上述裝置中的相關(guān)特征可以相互參考。另外，上述實(shí)施例中的“第一”、“第二”等是用于區(qū)分各實(shí)施例，而并不代表各實(shí)施例的優(yōu)劣。
[0087]在此處所提供的說(shuō)明書中，說(shuō)明了大量具體細(xì)節(jié)。然而，能夠理解，本發(fā)明的實(shí)施例可以在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)踐。在一些實(shí)例中，并未詳細(xì)示出公知的結(jié)構(gòu)和技術(shù)，以便不模糊對(duì)本說(shuō)明書的理解。
[0088]類似地，應(yīng)當(dāng)理解，為了精簡(jiǎn)本公開并幫助理解各個(gè)發(fā)明方面中的一個(gè)或多個(gè)，在上面對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的描述中，本發(fā)明的各個(gè)特征有時(shí)被一起分組到單個(gè)實(shí)施例、圖、或者對(duì)其的描述中。然而，并不應(yīng)將該公開的裝置解釋成反映如下意圖:即所要求保護(hù)的本發(fā)明要求比在每個(gè)權(quán)利要求中所明確記載的特征更多的特征。更確切地說(shuō)，如下面的權(quán)利要求書所反映的那樣，發(fā)明方面在于少于前面公開的單個(gè)實(shí)施例的所有特征。因此，遵循【具體實(shí)施方式】的權(quán)利要求書由此明確地并入該【具體實(shí)施方式】，其中每個(gè)權(quán)利要求本身都作為本發(fā)明的單獨(dú)實(shí)施例。
[0089]本領(lǐng)域那些技術(shù)人員可以理解，可以對(duì)實(shí)施例中的裝置中的部件進(jìn)行自適應(yīng)性地改變并且把它們?cè)O(shè)置在與該實(shí)施例不同的一個(gè)或多個(gè)裝置中。可以把實(shí)施例中的部件組合成一個(gè)部件，以及此外可以把它們分成多個(gè)子部件。除了這樣的特征中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何組合對(duì)本說(shuō)明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的所有特征以及如此公開的任何裝置的所有部件進(jìn)行組合。除非另外明確陳述，本說(shuō)明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的每個(gè)特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征來(lái)代替。
[0090]此外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解，盡管在此所述的一些實(shí)施例包括其它實(shí)施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同實(shí)施例的特征的組合意味著處于本發(fā)明的范圍之內(nèi)并且形成不同的實(shí)施例。例如，在下面的權(quán)利要求書中，所要求保護(hù)的實(shí)施例的任意之一都可以以任意的組合方式來(lái)使用。本發(fā)明的各個(gè)部件實(shí)施例可以以硬件實(shí)現(xiàn)，或者以它們的組合實(shí)現(xiàn)。
[0091]應(yīng)該注意的是上述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明而不是對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限制，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離所附權(quán)利要求的范圍的情況下可設(shè)計(jì)出替換實(shí)施例。在權(quán)利要求中，不應(yīng)將位于括號(hào)之間的任何參考符號(hào)構(gòu)造成對(duì)權(quán)利要求的限制。單詞“包含”不排除存在未列在權(quán)利要求中的部件或組件。位于部件或組件之前的單詞“一”或“一個(gè)”不排除存在多個(gè)這樣的部件或組件。本發(fā)明可以借助于包括有若干不同部件的裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。在列舉了若干部件的權(quán)利要求中，這些部件中的若干個(gè)可以是通過(guò)同一個(gè)部件項(xiàng)來(lái)具體體現(xiàn)。單詞第一、第二等的使用不表示任何順序。可將這些單詞解釋為名稱。
[0092]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種玻璃研磨機(jī)，包括玻璃吸附平臺(tái)以及研磨輪，其特征在于，所述玻璃吸附平臺(tái)包括: 工作臺(tái)臺(tái)條，其支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)； 真空吸氣管路，與所述M個(gè)第一通氣通道連通。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于， 所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿； 所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面上； 所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道； 所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于， 所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座，N為大于等于2的正整數(shù)； 其中，N個(gè)支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面處于同一平面。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于，還包括: 吹氣管路，與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通;或， 放空管路，與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于， 所述吸附凹槽包括橫行布置的多條橫向管路以及連通多條橫向管路的縱向管路。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于， 所述吸附凹槽包括回字形凹槽，M個(gè)第一通氣通道并排設(shè)置在回字形凹槽的中心； 所述吸附凹槽還包括依次連通M個(gè)第一通氣通道和回字形凹槽的連接槽。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃研磨機(jī)，其特征在于， M個(gè)第一通氣通道相互連通;或， M個(gè)第一通氣通道中的至少2個(gè)第一通氣通道相互獨(dú)立，真空吸氣管路包括至少2個(gè)獨(dú)立通路，每個(gè)獨(dú)立通路分別連接相互獨(dú)立的第一通氣通道。8.一種使用權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述玻璃研磨機(jī)的方法，其特征在于，包括: 在玻璃研磨機(jī)工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上粘貼防靜電臺(tái)布，其中，所述支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個(gè)第一通氣通道，M為大于等于3的正整數(shù)； 在所述防靜電臺(tái)布上開設(shè)與所述吸附凹槽槽口對(duì)應(yīng)的通氣口； 將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上； 開啟與所述M個(gè)第一通氣通道連通的真空吸氣管路，使所述吸附凹槽產(chǎn)生負(fù)壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺(tái)臺(tái)條的支撐面上。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于， 所述工作臺(tái)臺(tái)條包括相對(duì)的兩個(gè)橫向支撐臺(tái)以及從兩個(gè)橫向支撐臺(tái)向中心延伸的多個(gè)縱向支撐桿;所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面上;所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道;所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通;所述吹氣管路與所述第二通氣通道連通； 所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設(shè)置有N個(gè)支撐座，N為大于等于2的正整數(shù);其中，N個(gè)支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺(tái)的支撐平面處于同一平面;所述將玻璃基板放置在工作臺(tái)臺(tái)條支撐面的防靜電臺(tái)布上，之前還包括: 在N個(gè)支撐座的支撐平面上鋪設(shè)防靜電臺(tái)布。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，還包括: 通過(guò)吹氣管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，吹氣管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通;或， 通過(guò)放空管路對(duì)負(fù)壓的吸附凹槽泄壓，其中，放空管路與至少一個(gè)第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。
【文檔編號(hào)】B24B37/34GK106041718SQ201610517055
【公開日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2016年7月4日
【發(fā)明人】付繼龍, 李青, 董光明, 姬文強(qiáng), 岳粹好, 石志強(qiáng), 李震, 李俊生
【申請(qǐng)人】蕪湖東旭光電科技有限公司, 東旭光電科技股份有限公司