部152的內(nèi)表面)上將冷卻管設(shè)置成螺旋狀卷繞的螺旋結(jié)構(gòu)。此時，螺旋狀卷繞的冷卻管的螺旋部分的內(nèi)側(cè)通道中，設(shè)有使蒸鍍材料、不活潑氣體等能順暢移動的引導(dǎo)筒部，并且通過在冷卻管的螺旋部分的外側(cè)與上述管內(nèi)表面之間設(shè)置環(huán)狀間隙(與圖12的附圖標(biāo)記d所示的環(huán)狀間隙相同的環(huán)狀間隙)，防止從下側(cè)引導(dǎo)管112b傳遞熱量。此外，所述環(huán)狀間隙的底部設(shè)有環(huán)狀底板(與圖12的附圖標(biāo)記165所示的環(huán)狀底板相同的環(huán)狀底板)，防止蒸鍍材料、不活潑氣體等從下方進(jìn)入環(huán)狀間隙。而且，如針對圖12和圖13所說明的那樣，通過在上述環(huán)狀間隙中配置多枚彼此具有細(xì)小間隙的筒狀的薄不銹鋼板(與圖12和圖13的附圖標(biāo)記166所示的不銹鋼板相同的不銹鋼板)，也能可靠地防止來自下側(cè)引導(dǎo)管112b的輻射熱向冷卻部153傳遞。
[0200]此外，在上述實施例3中，在管狀連接構(gòu)件125的正上方直線狀(沿鉛直方向)連接有進(jìn)行加熱的材料引導(dǎo)管道112，如圖14所示，也可以在所述材料引導(dǎo)管道112的下側(cè)引導(dǎo)管112b與管狀連接構(gòu)件125之間配置側(cè)視L形(也可以是傾斜)的管狀體構(gòu)成的材料移動路徑變更管(也稱為材料移動路徑變更構(gòu)件)161，以改變向上方移動的蒸鍍材料的移動路徑。
[0201]所述材料移動路徑變更管161包括:水平的第一路徑變更管部161a，一端部連接于側(cè)視L形(準(zhǔn)確說是倒L形)的下側(cè)引導(dǎo)管112b;以及鉛直的第二路徑變更管部161b，連接所述第一路徑變更管部1161a的另一端部和管狀連接構(gòu)件125。當(dāng)然，下側(cè)引導(dǎo)管112b和第二路徑變更管部161b的設(shè)置位置在水平方向彼此錯開。另外，所述材料移動路徑變更管161處于非加熱區(qū)域。
[0202]如此，由于下側(cè)引導(dǎo)管112b與管狀連接構(gòu)件125之間配置有側(cè)視L形的材料移動路徑變更管161，所以防止了材料填充容器111內(nèi)的蒸鍍材料受到來自設(shè)有加熱器116的加熱區(qū)域即下側(cè)引導(dǎo)管112b的輻射熱的影響。S卩，消除了材料填充容器111內(nèi)的蒸鍍材料表面的熔融，可以實現(xiàn)蒸鍍率的穩(wěn)定化以及不活潑氣體的流量的降低。
[0203]另外，不設(shè)置材料移動路徑變更管161時，由于能從蒸鍍材料側(cè)直接看到作為加熱區(qū)域的高溫加熱部(下側(cè)引導(dǎo)管112b)，所以蒸鍍材料的表面因來自高溫加熱部的輻射熱而熔融，從而由于熔融材料的損失以及抑制了材料飛起，所以蒸鍍率不穩(wěn)定并且供給的不活潑氣體的流量增加。
[0204]對上述實施例3中的構(gòu)成蒸鍍材料的移動路徑的管構(gòu)件彼此連接的連接部沒有特別說明，如附圖所示，采用了法蘭接頭(以下所示的實施例4也相同)。
[0205](實施例4)
[0206]接著根據(jù)【附圖說明】本發(fā)明實施例4的真空蒸鍍裝置。
[0207]在上述的實施例3中，說明了利用振動賦予器(振動機構(gòu))使材料填充容器振動，本實施例4的真空蒸鍍裝置代替振動，對攪拌材料填充容器內(nèi)進(jìn)行攪拌。
[0208]因為本實施例4的真空蒸鍍裝置與實施例3的不同部位是材料填充容器的部分，所以本實施例4重點說明該部分，并且對和實施例3相同的構(gòu)件標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略其具體說明。
[0209]簡單地說，在實施例3說明的材料移動路徑變更管161中，設(shè)置有能攪拌材料填充容器111內(nèi)的蒸鍍材料的攪拌裝置(攪拌機構(gòu))，這里以所述攪拌裝置為中心進(jìn)行說明。另夕卜，由于材料填充容器不振動，所以未設(shè)置管狀連接構(gòu)件125。
[0210]S卩，如圖15所示，實施例4的攪拌裝置171包括:電動機172，配置在一端部連接于下側(cè)引導(dǎo)管112b的水平的第一路徑變更管部161a的另一端側(cè)；以及攪拌件173，具有旋轉(zhuǎn)軸174和安裝在所述旋轉(zhuǎn)軸下端的攪拌葉片(攪拌構(gòu)件的一例，不限于葉片)175，所述旋轉(zhuǎn)軸174在第二路徑變更管部161b內(nèi)沿鉛直方向配置且上端連接于電動機172。
[0211]因此在蒸鍍時，通過利用電動機172使攪拌件173旋轉(zhuǎn)，可以讓材料填充容器111內(nèi)的蒸鍍材料飛起并向材料引導(dǎo)管道112側(cè)移動，因此得到和上述的實施例3中的振動同樣的作用效果。
[0212]S卩，通過攪拌件173攪拌材料填充容器111內(nèi)的粉體構(gòu)成的蒸鍍材料，并供給不活潑氣體將蒸鍍材料向材料引導(dǎo)管道112引導(dǎo)，而且在所述材料引導(dǎo)管道112上設(shè)置加熱器116以使蒸鍍材料氣化，所以相比于以往那種由坩禍加熱蒸鍍材料并且通過控制坩禍的加熱量來控制蒸鍍率的結(jié)構(gòu)，不必利用坩禍即材料填充容器111加熱蒸鍍材料，因此不必?fù)?dān)心蒸鍍材料劣化。
[0213]在上述說明中，替代振動賦予器設(shè)置了攪拌裝置171，但是也可以一起設(shè)置攪拌裝置171和振動賦予器。此時，需要設(shè)置管狀連接構(gòu)件125。
[0214]此時，由于在振動的同時也進(jìn)行攪拌，所以當(dāng)蒸鍍材料因振動而結(jié)塊時，可以將結(jié)塊打散。
[0215]此外，在本實施例4中，也可以采用與上述實施例3說明的圖11?圖13的變形例同樣的結(jié)構(gòu)。
[0216]S卩，可以在材料引導(dǎo)管道112的下側(cè)引導(dǎo)管112b上采用冷卻機構(gòu)。具體進(jìn)行說明，將進(jìn)行加熱的側(cè)視L形的下側(cè)引導(dǎo)管112b的鉛直部加長，并將所述下側(cè)引導(dǎo)管112b的上方部設(shè)為加熱部而將所述下側(cè)引導(dǎo)管112b的下方部設(shè)為短管部，將冷卻部配置為跨過所述短管部和下側(cè)引導(dǎo)管112b的上方部且相對于所述短管部和下側(cè)引導(dǎo)管112b的內(nèi)表面保持預(yù)定的環(huán)狀間隙。另外，冷卻部的結(jié)構(gòu)和圖11?圖13說明的結(jié)構(gòu)相同。
[0217]此外，在上述各實施例中，說明了基板為薄片的情況，例如圖9、圖14和圖15的虛擬線所示，基板K'也可以是平面視為矩形的不銹鋼制、硅制的板材。當(dāng)然，此時蒸鍍作業(yè)分批進(jìn)行。
[0218]此外，在上述實施例3和實施例4中，將除了前端部以外的材料引導(dǎo)管道和材料填充容器配置在蒸鍍用容器的外部，但是根據(jù)需要，也可以將材料引導(dǎo)管道配置在蒸鍍用容器的內(nèi)部，或者將材料引導(dǎo)管道及材料填充容器配置在蒸鍍用容器的內(nèi)部。而且，說明了對蒸鍍用容器內(nèi)水平配置的基板的下表面進(jìn)行蒸鍍的情況，但也可以應(yīng)用于例如將基板鉛直配置并對基板的鉛直面進(jìn)行蒸鍍的情況，或?qū)λ脚渲玫幕宓纳媳砻孢M(jìn)行蒸鍍的情況。
[0219]下面將此時的結(jié)構(gòu)表示為上述實施例3和實施例4的結(jié)構(gòu)所含的真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)。
[0220]S卩，本真空蒸鍍裝置包括蒸鍍用容器和材料供給裝置，所述蒸鍍用容器在真空環(huán)境下使蒸鍍材料附著到被蒸鍍構(gòu)件的表面以形成薄膜，所述材料供給裝置向上述蒸鍍用容器內(nèi)的被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)蒸鍍材料，
[0221]上述材料供給裝置包括:
[0222]材料填充容器，填充有粉體的蒸鍍材料；
[0223]不活潑氣體供給機構(gòu)，向上述材料填充容器內(nèi)供給不活潑氣體；
[0224]材料引導(dǎo)機構(gòu)，向被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)上述蒸鍍材料；
[0225]蒸鍍材料控制機構(gòu)，控制向上述被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)的蒸鍍材料的供給量；以及
[0226]加熱機構(gòu)，通過加熱上述材料引導(dǎo)機構(gòu)或加熱上述材料引導(dǎo)機構(gòu)的內(nèi)部，使被所述材料引導(dǎo)機構(gòu)引導(dǎo)的蒸鍍材料氣化，
[0227]上述蒸鍍材料控制機構(gòu)采用蒸鍍量控制閥，所述蒸鍍量控制閥配置在材料引導(dǎo)機構(gòu)的中途，用于控制蒸鍍材料的通過量。
[0228]在上述實施例1和實施例2中，說明了由蒸鍍率控制裝置控制不活潑氣體的供給量，此外在上述實施例3和實施例4中，說明了由蒸鍍率控制裝置控制材料引導(dǎo)機構(gòu)中的(材料引導(dǎo)管道內(nèi)的)蒸鍍材料的通過量，但根據(jù)情況，也可以由蒸鍍率控制裝置控制不活潑氣體的供給量和蒸鍍材料的通過量。即，也可以由蒸鍍率控制裝置控制氣體流量控制閥和蒸鍍量控制閥。
【主權(quán)項】
1.一種真空蒸鍍裝置，其特征在于， 包括蒸鍍用容器和材料供給裝置，所述蒸鍍用容器在真空環(huán)境下使蒸鍍材料附著到被蒸鍍構(gòu)件的表面以形成薄膜，所述材料供給裝置向所述蒸鍍用容器內(nèi)的被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)蒸鍍材料， 所述材料供給裝置包括: 材料填充容器，填充有粉體的蒸鍍材料； 不活潑氣體供給機構(gòu)，向所述材料填充容器內(nèi)供給不活潑氣體； 材料引導(dǎo)機構(gòu)，向被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)所述蒸鍍材料； 蒸鍍材料控制機構(gòu)，控制向所述被蒸鍍構(gòu)件引導(dǎo)的蒸鍍材料的供給量；以及 加熱機構(gòu)，通過加熱所述材料引導(dǎo)機構(gòu)或加熱所述材料引導(dǎo)機構(gòu)的內(nèi)部，使被所述材料引導(dǎo)機構(gòu)引導(dǎo)的蒸鍍材料氣化。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，蒸鍍材料控制機構(gòu)采用氣體流量控制閥，所述氣體流量控制閥設(shè)置于不活潑氣體供給機構(gòu)，用于控制不活潑氣體的供給量。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，蒸鍍材料控制機構(gòu)采用蒸鍍量控制閥，所述蒸鍍量控制閥配置在材料引導(dǎo)機構(gòu)的中途，用于控制蒸鍍材料的通過量。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，設(shè)有對材料填充容器賦予振動的振動賦予機構(gòu)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，設(shè)有具備攪拌構(gòu)件的攪拌機構(gòu)，所述攪拌構(gòu)件用于攪拌材料填充容器內(nèi)部。6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，在材料引導(dǎo)機構(gòu)和材料填充容器之間配置有冷卻部。7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，在材料引導(dǎo)機構(gòu)和材料填充容器之間配置有材料移動路徑變更構(gòu)件，以使設(shè)置于材料引導(dǎo)機構(gòu)的加熱部發(fā)出的輻射熱不會直接到達(dá)所述材料填充容器內(nèi)的蒸鍍材料的表面。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置。材料供給裝置(3)向用于在基板(K)上形成薄膜的蒸鍍用容器(1)內(nèi)供給蒸鍍材料，材料供給裝置(3)包括：材料填充容器(11)，填充有蒸鍍材料；材料引導(dǎo)管道(12)，利用從氣體供給裝置(14)供給的不活潑氣體，將蒸鍍材料從材料填充容器(11)向蒸鍍用容器(1)內(nèi)引導(dǎo)；加熱器(17)，加熱所述材料引導(dǎo)管道(12)以使蒸鍍材料氣化；以及振動賦予器(13)，對材料填充容器(11)賦予振動。
【IPC分類】C23C14/24
【公開號】CN105316625
【申請?zhí)枴緾N201510245745
【發(fā)明人】金信真理子, 藤本英志, 大工博之, 松本祐司, 千住直輝
【申請人】日立造船株式會社
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年5月14日