1.一種碳化硅沉積設(shè)備的進氣裝置，其特征在于：包括MTS儲液罐(1)、混合罐(2)和緩沖罐(3)，所述MTS儲液罐(1)上設(shè)有氫氣輸入管道(11)，所述氫氣輸入管道(11)開口伸入到MTS液位下方，所述MTS儲液罐(1)的頂部還設(shè)有儲液罐排氣口(12)，所述儲液罐排氣口(12)通過第一管道(51)與所述混合罐(2)的第一進氣口(21)相連，所述混合罐(2)還設(shè)有第二進氣口(22)，所述第二進氣口(22)用于輸入氬氣，所述混合罐(2)設(shè)有混合罐(2)排氣口，所述混合罐(2)排氣口通過第二管道(52)與所述緩沖罐(3)的進氣口(31)相連，所述緩沖罐(3)設(shè)有緩沖罐排氣口(32)，所述緩沖罐排氣口(32)通過第三管道(53)與碳化硅沉積設(shè)備的爐體(4)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳化硅沉積設(shè)備的進氣裝置，其特征在于：還包括控制器、壓力變送器(6)和電動調(diào)節(jié)閥(7)，所述壓力變送器(6)設(shè)置在所述緩沖罐(3)或所述第三管道(53)上，所述電動調(diào)節(jié)閥(7)設(shè)置在所述第三管道(53)上，所述壓力變送器(6)與所述控制器相連，所述控制器與所述電動調(diào)節(jié)閥(7)相連，所述控制器接收壓力變送器(6)信號后處理并輸出控制信號給所述電動調(diào)節(jié)閥(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碳化硅沉積設(shè)備的進氣裝置，其特征在于：所述的壓力變送器(6)傳感單元為陶瓷膜片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項所述的碳化硅沉積設(shè)備的進氣裝置，其特征在于：所述第三管道(53)中的進氣壓力控制精度高于±15Pa。
5.一種碳化硅沉積設(shè)備，包括進氣裝置和爐體(4)，所述進氣裝置和所述爐體(4)相連，其特征在于：所述進氣裝置具體為權(quán)利要求1-4任意一項所述的進氣裝置。